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1. 发明申请

WO2008023558A1 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2008023558A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/JP2007/065236
申请日：2007-08-03
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志
发明人：小川貴志
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/026 , H01J37/153 , H01J37/3023 , H01J37/3056 , H01J2237/004 , H01J2237/047 , H01J2237/1202 , H01J2237/1534 , H01J2237/31749
摘要： A charged particle beam apparatus capable of applying a charged particle beam to a specimen with a reduced aberration and without causing electric discharge even when gas is introduced onto the surface of the specimen. A charged particle beam apparatus (1) comprises a charged particle source (9) for emitting a charged particle beam (I), correcting/deflecting means (19) for correcting/deflecting the charged particle beam (I), a charged particle beam optical system (11) having an objective (16) composed of two outer electrodes (16a, 16b) and at least one intermediate electrode (16c) interposed between the outer electrodes (16a, 16b) the three arranged in the application direction and used for converging the charged particle beam (I) and applying it to a specimen (M), and an objective control power supply (36) for applying a voltage to the intermediate electrode (16c) to cause a positive or negative potential difference with respect to the outer electrodes (16a, 16b) by changing the voltage.
摘要翻译：一种带电粒子束装置，其能够将具有降低的像差的带电粒子束施加到样本，并且即使当气体被引入到样本的表面上也不引起放电。带电粒子束装置（1）包括用于发射带电粒子束（I）的带电粒子源（9），用于校正/偏转带电粒子束（I）的校正/偏转装置（19），带电粒子束光系统（11）具有由两个外部电极（16a，16b）构成的物镜（16）和插入在外部电极（16a，16b）之间的至少一个中间电极（16c），该两个外部电极沿着应用方向布置并用于会聚带电粒子束（I）并将其施加到样本（M）上;以及物镜控制电源（36），用于向中间电极（16c）施加电压以引起相对于外部电极的正或负电位差电极（16a，16b）通过改变电压。

2. 发明申请

WO2007040098A1 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの照射方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束设备和用于辐射充电颗粒光束的方法
公开(公告)号：WO2007040098A1
公开(公告)日：2007-04-12
申请号：PCT/JP2006/319069
申请日：2006-09-26
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 杉山安彦 , 萩原良二 , 田代純一
发明人：杉山安彦 , 萩原良二 , 田代純一
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/3056 , H01J2237/24564 , H01J2237/31744 , H01J2237/31749
摘要： Charged particle beam equipment for irradiating a charged particle beam stably with low energy while reducing the beam diameter by suppressing aberration of the charged particle beam, and its irradiation method. Charged particle beam equipment in which the quantity, energy and focusing of a charged particle beam can be regulated freely, and its irradiation method are also provided. The charged particle beam equipment (1) comprises a charged particle supply section (3) applied with an acceleration voltage E, a means (4) for deriving and accelerating a charged particle beam B, and a means (5) for focusing the charged particle beam B and irradiating an earthed sample surface S with the charged particle beam B thus focused. The accelerating means (4) and the focusing means (5) comprise bipotential lenses (8, 9). An exit side electrode (8c) and an incident side electrode (9a) are connected with an intermediate acceleration power supply (14) for applying a voltage having a polarity different from that of the charged particle beam B. An incident side electrode (8a) is connected with a deriving power supply (11) and an exit side electrode (9c) is earthed.
摘要翻译：带电粒子束设备，通过抑制带电粒子束的像差，同时以低能量稳定地照射带电粒子束，同时减小光束直径及其照射方法。带电粒子束的设备能够自由调节带电粒子束的数量，能量和聚焦，并提供其照射方法。带电粒子束设备（1）包括施加有加速电压E的带电粒子供应部分（3），用于导出和加速带电粒子束B的装置（4）和用于聚焦带电粒子的装置（5）光束B并照射接地的样品表面S与被聚集的带电粒子束B. 加速装置（4）和聚焦装置（5）包括双电位透镜（8,9）。出口侧电极（8c）和入射侧电极（9a）与用于施加与带电粒子束B的极性不同的电压的中间加速电源（14）连接。入射侧电极（8a）与导出电源（11）连接，并且出射侧电极（9c）接地。

3. 发明申请

WO2006106818A1 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー及びそれを具備する走査型プローブ顕微鏡审中-公开
标题翻译：扫描仪扫描探针显微镜和扫描探针显微镜
公开(公告)号：WO2006106818A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：PCT/JP2006/306648
申请日：2006-03-30
申请人：独立行政法人科学技術振興機構 , エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 丸山健一 , 鈴木孝治 , 伊與木誠人
发明人：丸山健一 , 鈴木孝治 , 伊與木誠人
IPC分类号： G01N13/16 , G01N13/14 , G01N13/24 , G12B21/02 , G12B21/06 , G12B21/08
CPC分类号： G01Q60/06 , G01Q60/60
摘要：　原子間力顕微鏡と近接場光学顕微鏡を兼備した顕微鏡で電気化学測定も行うことができる顕微鏡及びそのためのカンチレバーが開示されている。原子間力顕微鏡のプローブとして用いられる、先端が尖った光透過性材料を金属層で被覆し、さらに該金属層を絶縁層で被覆し、先端部のみ絶縁層を除去して金属層を露出させ、この僅かに露出した金属層を作用電極として用いることにより、該プローブを原子間力顕微鏡及び近接場光学顕微鏡のプローブとしてのみならず、電気化学顕微鏡の電極としても用いることができ、それによって、原子間力顕微鏡、近接場光学顕微鏡及び電気化学顕微鏡の機能を兼備させることができる。
摘要翻译：显微镜包括原子力显微镜和近场光学显微镜，能够进行电化学测量和显微镜的悬臂。用作原子力显微镜的探针的尖锐的透光材料涂覆有金属层，金属层进一步涂覆有绝缘层，绝缘层仅在远端被去除以暴露金属层，采用轻微暴露的金属层作为工作电极，探针不仅可用作原子力显微镜和近场光学显微镜的探针，而且可用作电化学显微镜的电极。因此，显微镜可以具有原子力显微镜，近场光学显微镜和电化学显微镜的功能。

4. 发明申请

WO2006115090A1 集束イオンビームによる加工方法及び集束イオンビーム加工装置审中-公开
标题翻译：使用聚焦离子束和聚焦离子束加工装置的处理方法
公开(公告)号：WO2006115090A1
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：PCT/JP2006/307987
申请日：2006-04-17
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小堺智一
发明人：小堺智一
IPC分类号： H01J37/30 , G03F1/08 , H01J37/305 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/304 , C23C16/047 , G03F1/74 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174
摘要： A processing method and a processing apparatus using a focused ion beam by which a region to be processed can be appropriately processed even the region is smaller than an irradiation width of the focused ion beam. In the processing method by using the focused ion beam (I), deposition process or etching process is performed to a body (90) to be processed by irradiating the body with the focused ion beam. As a dose quantity of the focused ion beam is increased by irradiating an edge (E) of the body to be processed with the focused ion beam and controlling the dose quantity, the processing region gradually increases from the edge, and the deposition process or the etching process is performed to the body (90) to be processed.
摘要翻译：即使该区域也可适当地处理待处理区域的聚焦离子束的处理方法和处理装置小于聚焦离子束的照射宽度。在通过使用聚焦离子束（I）的处理方法中，通过用聚焦离子束照射身体对被处理体（90）进行沉积处理或蚀刻处理。由于通过用聚焦离子束照射被处理体的边缘（E）并控制剂量来增加聚焦离子束的剂量，所以处理区域从边缘逐渐增加，沉积处理或对被处理体（90）进行蚀刻处理。

5. 发明申请

WO2006073063A1 薄膜試料測定方法および装置ならびに薄膜試料作製方法および装置审中-公开
标题翻译：用于测量薄膜样品的方法和装置，以及制造薄膜样品的方法和装置
公开(公告)号：WO2006073063A1
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：PCT/JP2005/023566
申请日：2005-12-22
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 一宮豊 , 麻畑達也 , 鈴木秀和
发明人：一宮豊 , 麻畑達也 , 鈴木秀和
IPC分类号： G01B15/02 , G01N23/20 , G01N23/225 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01L21/66
CPC分类号： G01B15/02 , G01N23/225 , H01J2237/2814
摘要：　薄膜試料に電子ビームを照射し、発生した二次電子を検出し、前記二次電子を利用して前記薄膜試料の膜厚を測定する薄膜試料測定方法において、照射する電子ビームの電流量が変動しても精度良く短時間で容易に膜厚を測定することを提供する。　電子ビーム２ｂを照射し、発生する二次電子４を二次電子検出器６で検出する。膜厚測定領域で検出した二次電子量と参照領域で検出した二次電子量から構成される計算値を第１の計算手段１１で算出する。標準薄膜試料の検量データと試料５で求めた計算値から膜厚測定領域の膜厚を算出することができる。
摘要翻译：在其中用电子束照射薄膜样品的薄膜样品测量方法中，检测所产生的二次电子，并且通过使用二次电子测量薄膜样品的膜厚度，可以精确且容易地测量膜厚度即使施加的电子束的当前量波动，也能够在短时间内进行。施加电子束（2b），通过二次电子检测器（6）检测生成的二次电子（4）。由第一计算装置（11）计算在膜厚测量区域中检测到的二次电子量和在参考区域中检测到的二次电子量的计算值。可以根据参考薄膜样品的标准数据和从样品（5）获得的计算值来计算膜厚度测量区域的膜厚度。

6. 发明申请

WO2005090941A1 アトムプローブ装置及びその試料予備加工方法审中-公开
标题翻译： ATOM探针设备及其样品的初步处理方法
公开(公告)号：WO2005090941A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/JP2005/003495
申请日：2005-03-02
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 皆藤孝
发明人：皆藤孝
IPC分类号： G01N1/32
CPC分类号： G01N1/32 , B82Y35/00 , H01J2237/3109
摘要：本発明が解決しようとする課題は、デバイスの分析したいところを局所的に切出して針状突起にする試料予備加工の技術を提示すると共に、後述する事情の中で小さな蒸発電界の元素層を含む多層構造の試料であっても順次の安定したイオン蒸発を可能とし、原子レベルのＳＡＰ分析を可能とする技術を提供することにある。本発明のアトムプローブ装置用試料の予備加工は、ＦＩＢ装置を用いて試料所望観察部位をブロック状に切り出すステップと、該ブロック状の切り出し試料を試料基板上に移送して固定するステップと、該試料基板上に固定されたブロック状の試料をＦＩＢエッチング加工によって針先形状に加工するステップとからなる。また、針先形状に加工された試料は多層構造の層方向が針の長手方向に平行となるように形成する。
摘要翻译：用于样本的初步处理技术，其局部切出要分析的装置的一部分并将其处理成针状投影，以及通过确保稳定的离子蒸发来实现原子级分析的技术，即使在这种情况下在下面描述的情况下，包括具有小蒸发电场的元件层的多层结构的样品。用于原子探针设备的样品的预处理方法包括使用FIB设备将样品的期望观察部分切割成块的步骤，将切割的块样品转移到样品基底上并固定样品的步骤以及通过FIB蚀刻将固定在样品基板上的块状样品加工成针尖形状的步骤。加工成针尖形状的样品成形为使得多层结构的层方向与针的纵向平行。

7. 发明申请

WO2007086254A1 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束设备
公开(公告)号：WO2007086254A1
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/JP2007/050190
申请日：2007-01-11
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志 , 武藤洋人
发明人：小川貴志 , 武藤洋人
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/02 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/022 , H01J2237/12 , H01J2237/31749
摘要： Charged particle beam equipment capable of applying a high voltage to an electrostatic lens by preventing a very small amount of dust from depositing to an objective lens, i.e. the electrostatic lens. The charged particle beam equipment (1) comprises a chamber (2) having the interior (2a) which can be exhausted by an in-chamber exhaust means (4), and a body tube (3) for irradiating a sample (S) arranged in the interior (2a) of the chamber (2) with a charged particle beam (B1). The body tube (3) comprises a tube body (5) having an irradiation opening (6) for discharging the charged particle beam (B1), a charged particle supply section (7) housed on the proximal end (5c) side in the interior (5b) of the tube body (5) and discharging the charged particle beam (B1), and an objective lens (11) having an electrostatic lens housed on the distal end (5b) side in the interior (5b) of the tube body (5), and focusing the charged particle beam (B1) discharged from the charged particle supply section (7) by generating an electric field. The tube body (5) of the body tube (3) is provided, on the proximal end of the objective lens (11), with an air supply means (12) for supplying gas (G) to the interior (5b) of the tube body (5).
摘要翻译：通过防止非常少量的灰尘沉积到物镜，即静电透镜，能够对静电透镜施加高电压的带电粒子束设备。带电粒子束设备（1）包括具有可由腔内排气装置（4）排出的内部（2a）的腔室（2），以及用于照射布置的样品（S）的体管（3）在室（2）的内部（2a）中带有带电粒子束（B1）。体管（3）包括具有用于排出带电粒子束（B1）的照射开口（6）的管体（5），容纳在内部的近端（5c）侧的带电粒子供应部分（5）的管（5b）和带电粒子束（B1）的放电，以及容纳在管体的内部（5b）的远端（5b）侧的静电透镜的物镜（11）（5），并且通过产生电场来聚焦从带电粒子供给部（7）排出的带电粒子束（B1）。主体管（3）的管体（5）在物镜（11）的近端上设置有用于向内部（5b）供应气体（G）的空气供应装置（12）管体（5）。

8. 发明申请

WO2007029491A1 熱流束型示差走査熱量計审中-公开
标题翻译：热流式差示扫描量热仪
公开(公告)号：WO2007029491A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/JP2006/316445
申请日：2006-08-23
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 木下良一
发明人：木下良一
IPC分类号： G01N25/20
CPC分类号： G01N25/4866
摘要：　ベースライン安定性と応答性を向上させた示差走査熱量計を提供することを目的とする。　熱溜１からセンサー板４への熱流路に頸状部を作り安定性を確保すると同時に、試料ホルダー５ａへの２次元熱流路を確保する構成とした
摘要翻译：差示扫描量热计增加了基线的稳定性和响应性。在从储热器（1）到传感器板（4）的热流通道中形成颈状部件，以确保稳定性并形成到样本保持器（5a）的二维热流通道。

9. 发明申请

WO2006078024A1 超伝導Ｘ線検出器およびそれを用いたＸ線分析装置审中-公开
标题翻译：超导X射线探测器和X射线分析仪
公开(公告)号：WO2006078024A1
公开(公告)日：2006-07-27
申请号：PCT/JP2006/300987
申请日：2006-01-24
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 田中啓一 , 小田原成計 , 中山哲
发明人：田中啓一 , 小田原成計 , 中山哲
IPC分类号： G01T1/26 , G01N23/22 , H01L39/22
CPC分类号： G01N23/00 , G01T1/006 , H01L39/10
摘要：　自己磁場による感度の低下を抑制し、高エネルギー分解能の測定が可能な超伝導Ｘ線検出器を提供する。　Ｘ線を吸収したとき発生する熱による温度変化を検出する温度検出器６と、発生した熱が支持基板1へ逃げる熱流量を制御するための熱リンク３から構成され、温度検出器６が超伝導多層薄膜からなる超伝導Ｘ線検出器において、熱リンク３上に超伝導体層４が設けられ、超伝導体層４と温度検出器６の間に絶縁体２が設けられている構造を有し、超伝導体層４と温度検出器６は超伝導配線７で接続され、超伝導体層４と超伝導配線７の超伝導転移温度が温度検出器６の超伝導転移温度より高い材料を用いる。
摘要翻译：具有不被自磁场降低的灵敏度并且能够以高能量分辨率进行测量的超导X射线检测器。超导X射线检测器包括：温度传感器（6），用于检测吸收X射线时产生的热量的温度变化，并由超导多层薄膜和用于控制热流量的热连接（3）组成; 其中所产生的心脏逸出到支撑衬底（1）。超导体X射线检测器具有在热连接体（3）上形成超导体层（4）的结构，在超导体层（4）和温度传感器（6）之间插入有绝缘体（2）。超导体层（4）和温度传感器（6）通过超导线（7）相互连接。超导体层（4）和超导线（7）的材料的超导转变温度高于温度传感器（6）的超导转变温度。

10. 发明申请

WO2005003736A1 薄片試料作製方法および複合荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：薄膜样品制备方法和复合充电颗粒束装置
公开(公告)号：WO2005003736A1
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：PCT/JP2004/009870
申请日：2004-07-05
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 藤井利昭
发明人：藤井利昭
IPC分类号： G01N1/28
CPC分类号： H01J37/3005 , G01N1/32 , H01J37/304 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J2237/31745 , Y10T436/25
摘要：集束イオンビーム３１２のスパッタリングエッチング加工を行って薄片を作製すると同時に、薄片の側壁に対して平行な方向から電子ビーム３１４の照射を行って走査電子顕微鏡観察をし、薄片の厚さを測定する。そして、薄片の厚さが所定の厚さになったことを確認して、集束イオンビーム３１２による加工を終了する。
摘要翻译：使用聚焦离子束（312）进行溅射蚀刻工艺以产生薄片，并且同时，从平行于其侧壁的方向用离子束（314）照射薄片以制成扫描离子显微镜观察测量薄片的厚度。并且，当确定薄片的厚度具有预定值时，完成了聚焦离子束（312）的处理。

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