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1. 发明申请

WO2009020151A1 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法、加工方法审中-公开
标题翻译：复合聚焦离子光束装置，以及使用复合聚焦离子束装置的加工监测方法和加工方法
公开(公告)号：WO2009020151A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/JP2008/064123
申请日：2008-08-06
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 皆藤孝 , 中川良知 , 田代純一 , 杉山安彦 , 藤井利昭 , 相田和男 , 小川貴志
发明人：皆藤孝 , 中川良知 , 田代純一 , 杉山安彦 , 藤井利昭 , 相田和男 , 小川貴志
IPC分类号： H01J37/317 , G01N1/28 , H01J37/08 , H01J37/30
CPC分类号： H01J37/08 , G01N1/04 , G01N1/06 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J2237/0807 , H01J2237/0817 , H01J2237/31745
摘要：　本発明の複合集束イオンビーム装置は、第１のイオンを発生させるプラズマ型ガスイオン源を備えた第１のイオンビーム照射系（１０）と、第２のイオンを発生させるガスフィールドイオン源を備えた第２のイオンビーム照射系（２０）と、を有し、第２のイオンビーム照射系（２０）から射出される第２のイオンビーム（２０Ａ）のビーム径は、第１のイオンビーム照射系（１０）から射出される第１のイオンビーム（１０Ａ）のビーム径よりも小さい。本発明の複合集束イオンビーム装置は、液体金属イオン源を用いていないので、試料を汚染することがなく迅速に加工することができ、高分解能の観察や微細な加工が可能である。
摘要翻译：复合聚焦离子束装置设有具有等离子体型气体离子源的第一离子束照射系统（10），用于产生第一离子; 和具有产生第二离子的气体场离子源的第二离子束照射系统（20）。从第二离子束照射系统（20）输出的第二离子束（20A）的光束直径小于从第一离子束照射系统（10）输出的第一离子束（10A）的光束直径。由于复合聚焦离子束装置不使用液体金属离子源，因此可以在不污染样品的情况下进行高速加工，并且可以进行高分辨率监测和精细加工。

2. 发明申请

WO2009020150A1 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法、加工方法审中-公开
标题翻译：复合聚焦离子光束装置，以及使用复合聚焦离子束装置的加工监测方法和加工方法
公开(公告)号：WO2009020150A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/JP2008/064122
申请日：2008-08-06
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 皆藤孝 , 田代純一 , 杉山安彦 , 岩崎浩二 , 藤井利昭 , 相田和男 , 小川貴志
发明人：皆藤孝 , 田代純一 , 杉山安彦 , 岩崎浩二 , 藤井利昭 , 相田和男 , 小川貴志
IPC分类号： H01J37/317 , G01N1/28 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J37/30
CPC分类号： H01J37/3056 , G01N1/286 , G01N1/32 , G03F1/74 , G03F1/84 , H01J37/08 , H01J37/3005 , H01J2237/0805 , H01J2237/0807 , H01J2237/31745
摘要：　本発明の複合集束イオンビーム装置は、第１のイオンを発生させる液体金属イオン源を備えた第１のイオンビーム照射系（１０）と、第２のイオンを発生させるガスフィールドイオン源を備えた第２のイオンビーム照射系（２０）とを有し、第２のイオンビーム照射系（２０）から射出される第２のイオンビーム（２０Ａ）のビーム径が、第１のイオンビーム照射系（１０）から射出される第１のイオンビーム（１０Ａ）のビーム径よりも小さい。本発明のガスフィールドイオン源を備えた第２のイオンビーム照射系（２０）は、ビーム径を１ｎｍ以下に絞ることができるため、高分解能の観察が可能である。
摘要翻译：复合聚焦离子束装置设置有具有用于产生第一离子的液态金属离子源的第一离子束照射系统（10）; 和具有产生第二离子的气体场离子源的第二离子束照射系统（20）。从第二离子束照射系统（20）输出的第二离子束（20A）的光束直径小于从第一离子束照射系统（10）输出的第一离子束（10A）的光束直径。由于具有气体离子源的第二离子束照射系统（20）可以将光束直径减小到1nm或更小，因此可以进行高分辨率的监视。

3. 发明申请

WO2007086254A1 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束设备
公开(公告)号：WO2007086254A1
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/JP2007/050190
申请日：2007-01-11
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志 , 武藤洋人
发明人：小川貴志 , 武藤洋人
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/02 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/022 , H01J2237/12 , H01J2237/31749
摘要： Charged particle beam equipment capable of applying a high voltage to an electrostatic lens by preventing a very small amount of dust from depositing to an objective lens, i.e. the electrostatic lens. The charged particle beam equipment (1) comprises a chamber (2) having the interior (2a) which can be exhausted by an in-chamber exhaust means (4), and a body tube (3) for irradiating a sample (S) arranged in the interior (2a) of the chamber (2) with a charged particle beam (B1). The body tube (3) comprises a tube body (5) having an irradiation opening (6) for discharging the charged particle beam (B1), a charged particle supply section (7) housed on the proximal end (5c) side in the interior (5b) of the tube body (5) and discharging the charged particle beam (B1), and an objective lens (11) having an electrostatic lens housed on the distal end (5b) side in the interior (5b) of the tube body (5), and focusing the charged particle beam (B1) discharged from the charged particle supply section (7) by generating an electric field. The tube body (5) of the body tube (3) is provided, on the proximal end of the objective lens (11), with an air supply means (12) for supplying gas (G) to the interior (5b) of the tube body (5).
摘要翻译：通过防止非常少量的灰尘沉积到物镜，即静电透镜，能够对静电透镜施加高电压的带电粒子束设备。带电粒子束设备（1）包括具有可由腔内排气装置（4）排出的内部（2a）的腔室（2），以及用于照射布置的样品（S）的体管（3）在室（2）的内部（2a）中带有带电粒子束（B1）。体管（3）包括具有用于排出带电粒子束（B1）的照射开口（6）的管体（5），容纳在内部的近端（5c）侧的带电粒子供应部分（5）的管（5b）和带电粒子束（B1）的放电，以及容纳在管体的内部（5b）的远端（5b）侧的静电透镜的物镜（11）（5），并且通过产生电场来聚焦从带电粒子供给部（7）排出的带电粒子束（B1）。主体管（3）的管体（5）在物镜（11）的近端上设置有用于向内部（5b）供应气体（G）的空气供应装置（12）管体（5）。

4. 发明申请

WO2008102635A1 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子光学系の調整方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置和充电颗粒光学系统调整方法
公开(公告)号：WO2008102635A1
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/JP2008/051784
申请日：2008-02-04
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志 , 山本洋 , 松村浩
发明人：小川貴志 , 山本洋 , 松村浩
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/153 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J2237/1501 , H01J2237/216
摘要：　短時間で容易に、かつ、精度良く荷電粒子光学系の調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、荷電粒子光学系の調整方法を提供する。荷電粒子ビーム装置（１）は、荷電粒子源（９）と、荷電粒子ビーム（Ｉ）を入力値と対応するビーム特性値に設定して試料に照射させる荷電粒子光学系（１２）、（１６）と、荷電粒子ビーム（Ｉ）の照射位置を相対移動させることが可能な走査手段（１７）と、画像を取得可能な観察手段（３２）と、制御部（３０）とを備え、制御部（３０）は、入力値を異なる値に設定し、試料に位置を異なるものとして荷電粒子ビーム（Ｉ）を複数回照射させて、複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段（３３）と、スポット特性値が最小値を示すスポットパターンを選択するスポットパターン解析手段（３４）と、を有し、選択されたスポットパターンと対応する入力値にと等しい値に荷電粒子光学系（１２）、（１６）の入力値を設定する。
摘要翻译：一种具有带电粒子光学系统的带电粒子束装置，其在短时间内容易且精确地调节，并且带电粒子束光学系统调节方法。带电粒子束装置（1）包括带电粒子源（9），带电粒子光学系统（12,16），用于通过具有光束特性值的带电粒子束（I）照射样品，输入值，能够相对移动带电粒子束（I）的照射位置的扫描装置（17），用于获取图像的观察装置（32）和控制单元（30）。控制单元（30）具有点图形形成装置（33），用于通过将输入值设定为不同的值和点图案分析装置（34），通过使不同位置处的带电粒子束（I）反复照射样品来形成点图案，用于选择表现出最小光斑特征值的斑点图案。带电粒子光学系统（12,16）的输入值被设置为等于对应于所选择的斑点图案的输入值的值。

5. 发明申请

WO2008023559A1 荷電粒子ビーム装置及びアパーチャの軸調整方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束设备和调整孔径的方法
公开(公告)号：WO2008023559A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/JP2007/065237
申请日：2007-08-03
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志 , 山本洋 , 松村浩
发明人：小川貴志 , 山本洋 , 松村浩
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/04 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J2237/024 , H01J2237/0458
摘要： Charged particle beam equipment in which the position of the central axis of an aperture can be adjusted easily with high precision in a short time, and a method for adjusting the axis of an aperture. The charged particle beam equipment (1) comprises a charged particle source (9), an aperture (18), an objective lens (12), an observation means (32), an aperture drive section (19), and a control section (30). The control section (30) comprises a spot pattern forming means (33) for forming a plurality of spot patterns on the surface (N1) of a sample (N) by irradiating it with a charged particle beam (I), an analysis means (34) for calculating the position of spot center of a spot pattern and the geometrical central position of halo, and a adjustment position determining means (35) for calculating an adjustment position based on a position where the lines connecting the positions of spot centers in individual spot patterns with the central positions of halos intersect. Position of the aperture (18) is adjusted by shifting the central axis of the aperture (18) to the adjustment position.
摘要翻译：可以在短时间内以高精度容易地调节孔径的中心轴的位置的带电粒子束设备，以及用于调节孔径的方法。带电粒子束设备（1）包括带电粒子源（9），孔径（18），物镜（12），观察装置（32），孔径驱动部分（19）和控制部分 30）。控制部（30）包括用于通过用带电粒子束（I）照射样品（N）的表面（N1）上形成多个点图案的点图形形成装置（33），分析装置 34），用于计算光斑图案的光点中心的位置和光晕的几何中心位置;以及调整位置确定装置（35），用于基于将个体中的点中心的位置连接的线的位置来计算调整位置与光环的中心位置的斑点相交。通过将孔（18）的中心轴移动到调节位置来调节孔（18）的位置。

6. 发明申请

WO2005081305A1 半導体検査方法及びそのシステム审中-公开
标题翻译：半导体检测方法及其系统
公开(公告)号：WO2005081305A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/JP2005/002537
申请日：2005-02-18
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志
发明人：小川貴志
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01R31/307 , G01N23/225
摘要：　プローブのランダムアクセス操作のような厄介な作業をすることなく、電子顕微鏡等の走査型荷電粒子顕微鏡の観察から半導体デバイスにおける回路要素の導通等の検査を可能とする検査手法を提示し、それを実現するシステムを提供する。　電子鏡筒２とイオンビーム鏡筒１と二次荷電粒子検出器４とをそなえた複合装置を用い、電子ビーム又は正電荷のイオンビームを半導体デバイス試料面に照射して高い帯電をさせた場合と、該高い帯電状態を示した領域の所望のパターンに逆電荷の正電荷のイオンビーム又は電子ビームを照射した場合との試料面のコントラスト変化を顕微鏡観察して電子回路検査するものである。
摘要翻译：通过在诸如电子显微镜的扫描型带电粒子显微镜下的观察，可以检查半导体器件中的电路元件的导通等的检查方法，而不需要诸如探针随机存取操作的麻烦的工作，以及系统实现它。设置有电子镜筒（2），离子束透镜镜筒（1）和二次带电粒子检测器（4）的复杂系统用于通过在显微镜下观察样品表面上的对比度变化来检查电子电路当将电子束或带正电的离子束施加到半导体器件样品表面以使其大量带电时，并且当将带负电的带正电的离子束或电子束施加到重电气区域中的期望图案时。

7. 发明申请

WO2008023558A1 荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2008023558A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/JP2007/065236
申请日：2007-08-03
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 , 小川貴志
发明人：小川貴志
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/026 , H01J37/153 , H01J37/3023 , H01J37/3056 , H01J2237/004 , H01J2237/047 , H01J2237/1202 , H01J2237/1534 , H01J2237/31749
摘要： A charged particle beam apparatus capable of applying a charged particle beam to a specimen with a reduced aberration and without causing electric discharge even when gas is introduced onto the surface of the specimen. A charged particle beam apparatus (1) comprises a charged particle source (9) for emitting a charged particle beam (I), correcting/deflecting means (19) for correcting/deflecting the charged particle beam (I), a charged particle beam optical system (11) having an objective (16) composed of two outer electrodes (16a, 16b) and at least one intermediate electrode (16c) interposed between the outer electrodes (16a, 16b) the three arranged in the application direction and used for converging the charged particle beam (I) and applying it to a specimen (M), and an objective control power supply (36) for applying a voltage to the intermediate electrode (16c) to cause a positive or negative potential difference with respect to the outer electrodes (16a, 16b) by changing the voltage.
摘要翻译：一种带电粒子束装置，其能够将具有降低的像差的带电粒子束施加到样本，并且即使当气体被引入到样本的表面上也不引起放电。带电粒子束装置（1）包括用于发射带电粒子束（I）的带电粒子源（9），用于校正/偏转带电粒子束（I）的校正/偏转装置（19），带电粒子束光系统（11）具有由两个外部电极（16a，16b）构成的物镜（16）和插入在外部电极（16a，16b）之间的至少一个中间电极（16c），该两个外部电极沿着应用方向布置并用于会聚带电粒子束（I）并将其施加到样本（M）上;以及物镜控制电源（36），用于向中间电极（16c）施加电压以引起相对于外部电极的正或负电位差电极（16a，16b）通过改变电压。

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