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41. 发明申请

WO2007051574A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2007051574A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/EP2006/010397
申请日：2006-10-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HEIL, Tilmann
发明人： HEIL, Tilmann
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus has an illumination system (IS) for generating projection light (L), an absorption filter (20) which has a varying absorption coefficient distribution, and a mask (M) which is illuminated by the projection light (L). This mask (M) contains regions that differ from one another by the orientation of structures (34, 36) contained in them and whose transmissivity depends on the polarization state of the incident projection light (L). According to the invention, the absorption coefficient distribution of the absorption filter (20) is determined so as to compensate at least partially for the dependence of the transmissivity of the region on the polarization state of the incident projection light (L).
摘要翻译：微光刻投影曝光装置具有用于产生投影光（L）的照明系统（IS），具有变化的吸收系数分布的吸收滤光器（20）和由投影光（L）照射的掩模（M）。该掩模（M）包含通过其中包含的结构（34,36）的取向彼此不同的区域，其透射率取决于入射的投影光（L）的偏振状态。根据本发明，吸收滤光器（20）的吸收系数分布被确定为至少部分地补偿该区域的透射率对入射的投影光（L）的偏振状态的依赖性。

42. 发明申请

WO2007003439A2 PREPARATION DEVICE FOR PREPARING AN INTERVERTEBRAL DISC COMPARTMENT 审中-公开
标题翻译：用于制备椎间盘间隔间的制备装置
公开(公告)号：WO2007003439A2
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/EP2006/006610
申请日：2006-07-06
申请人： COPF, Franz, Jun.
发明人： COPF, Franz, Jun.
IPC分类号： A61B17/02 , A61B17/64 , A61B17/66
CPC分类号： A61B17/025 , A61B17/1757 , A61B17/66 , A61B17/7077 , A61B17/8625 , A61B2017/0256 , A61F2/4425 , A61F2/4684 , A61F2002/30538 , A61F2002/30616 , A61F2002/30736 , A61F2002/443 , A61F2250/0006
摘要： The invention relates to a preparation device for preparing an intervertebral disc compartment (14) which is delimited by a first and a second vertebra (16, 18). Such a preparation is carried out prior to the insertion of an intervertebral disc prosthesis (110), in order to guarantee a correct positioning of the intervertebral disc prosthesis between the vertebrae (16, 18) . The preparation device (10) comprises a reference frame (22), which is capable of being fastened above an operating table (12), and a first fixing element (58) which is capable of being rigidly connected to the first vertebra (16) ard capable of being fastened to the reference frame (22) in varying first positions. A second fixing element (68) is capable of being rigidly connected to the second vertebra (18) and capable of being fastened to the reference frame (22) in varying second positions. A material-abrading tool (78) is capable of being fastened to the reference frame (22), preferably in varying positions.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制备由第一和第二椎骨（16,18）限定的椎间盘室（14）的制备装置。这种制备在插入椎间盘假体（110）之前进行，以便确保椎间盘假体在椎骨（16,18）之间的正确定位。准备装置（10）包括能够紧固在操作台（12）上方的参考框架（22）和能够刚性地连接到第一椎骨（16）的第一固定元件（58）能够在变化的第一位置处固定到参考框架（22）。第二固定元件（68）能够刚性地连接到第二椎骨（18）并且能够以变化的第二位置紧固到参考框架（22）。材料研磨工具（78）能够被固定到参考框架（22）上，优选在不同的位置。

43. 发明申请

WO2007003438A2 INTERVERTEBRAL DISC PROSTHESIS 审中-公开
标题翻译：椎间盘突出症
公开(公告)号：WO2007003438A2
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/EP2006/006609
申请日：2006-07-06
申请人： COPF, Franz, Jun.
发明人： COPF, Franz, Jun.
IPC分类号： A61F2/44 , A61F2/46
CPC分类号： A61F2/4611 , A61F2/30767 , A61F2/30942 , A61F2/44 , A61F2/4425 , A61F2002/30001 , A61F2002/30014 , A61F2002/30016 , A61F2002/30133 , A61F2002/30321 , A61F2002/30322 , A61F2002/30331 , A61F2002/30349 , A61F2002/30364 , A61F2002/30383 , A61F2002/30563 , A61F2002/30604 , A61F2002/30614 , A61F2002/30616 , A61F2002/30662 , A61F2002/3069 , A61F2002/30714 , A61F2002/443 , A61F2002/4619 , A61F2002/4627 , A61F2220/0025 , A61F2220/0033 , A61F2230/0015 , A61F2250/0018 , A61F2250/0019 , A61F2250/0025 , A61F2250/0026 , A61F2250/0089 , A61F2310/00023 , A61F2310/0058
摘要： An intervertebral-disc prosthesis for insertion into an intervertebral disc compartment has a first and a second constituent element (910) each being provided on one side with a joint member (926; 1126) and on the other side with an abutment face which abuts against adjacent vertebrae. The abutment faces have a convexly curved region (916; 1016; 1116) that has at least substantially the shape of a ramp. Preferably the region is surrounded by an annular flat region (1023; 1123) having a larger roughness than the curved region. The curved region may have a vertex which contacts a vertex of a dome formed in the adjacent vertebra. This facilitates rotation of the constituent element within the intervertebral disc compartment.
摘要翻译：用于插入椎间盘隔室的椎间盘假体具有第一和第二构成元件（910），每个第一和第二构成元件（910）在一侧设置有关节构件（926; 1126），并且在另一侧上具有抵靠面相邻的椎骨。邻接面具有凸起弯曲的区域（916; 1016; 1116），其具有至少基本上斜坡的形状。优选地，区域被具有比弯曲区域更大的粗糙度的环形平坦区域（1023; 1123）围绕。弯曲区域可以具有接触相邻椎骨中形成的圆顶的顶点的顶点。这有利于构成元件在椎间盘隔室内旋转。

44. 发明申请

WO2006084476A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2006084476A1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/EP2005/001224
申请日：2005-02-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70066 , G03F7/70158
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical axis (28), a pupil plane (74) and a diffractive optical element (76; 76b) as a field defining element. The diffractive optical element (76, 76b) is positioned at least approximately in the pupil plane (74) and extends in an element plane (94) whose normal (96) is inclined with respect to the optical axis (28) by a tilt angle α 0 ° . Rotating the diffractive optical element deforms the illuminated field (14). For example, if the diffractive optical element (76; 76b) is configured such that it produces a rectangular light field (14') for α = 0 ° , rotating the diffractive optical element (76; 76b) around an axis of rotation (80) that is perpendicular both to the optical axis (28) and the scan direction (Y) results in an illuminated field (14) having the shape of a ring segment.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括作为场限定元件的光轴（28），光瞳平面（74）和衍射光学元件（76; 76b）。衍射光学元件（76,76b）至少大致位于瞳孔平面（74）中，并且在垂直（96）相对于光轴（28）倾斜倾斜角度的元件平面（94）中延伸 0°。旋转衍射光学元件使照明场（14）变形。例如，如果衍射光学元件（76; 76b）被配置为使得其产生用于= 0°的矩形光场（14'），则将衍射光学元件（76; 76b）旋转，围绕与光轴（28）和扫描方向（Y）垂直的旋转轴线（80）导致具有环形段形状的照明场（14）。

45. 发明申请

WO2006029796A2 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006029796A2
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/EP2005/009804
申请日：2005-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BROTSACK, Markus , DEGÜNTHER, Markus , ULRICH, Wilhelm , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , FELDMANN, Heiko , ZEILER, Andreas
发明人： BROTSACK, Markus , DEGÜNTHER, Markus , ULRICH, Wilhelm , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , FELDMANN, Heiko , ZEILER, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191
摘要： An illumination system (12) for a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a masking device (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive structures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least approximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspherically acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).
摘要翻译：一种用于微光刻曝光装置（10）的照明系统（12）包括掩蔽装置（36）和掩蔽物镜（38; 138; 238），掩蔽物镜（38; 138; 238）（36）到图像平面（18）上。照明系统还包括具有非球面形状或支撑衍射的表面（48; 44; 44'; 148a，148b）的光学校正元件（46; 34'; 146a，146b; 242; 242a，242b，242c）结构和害羞;至少基本上具有非球面表面效果的结构。该表面至少被设置成大致在掩蔽物镜的像平面（18）之前的场平面（40; 140）中。非球面和反射作用表面被设计成使得由照明系统产生的主光线分布（ 12; 112; 212）与投影物镜（16）所需的主光线分布相匹配。

46. 发明申请

WO2016180541A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND METHOD OF ADJUSTING AN IRRADIANCE DISTRIBUTION IN SUCH A SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微型投影装置的照明系统和调节这种系统中的辐射分布的方法
公开(公告)号：WO2016180541A1
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：PCT/EP2016/000794
申请日：2016-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： DAVYDENKO, Vladimir
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075 , G03F7/702
摘要： An illumination system of a microlithographic projection apparatus (10) comprises an irradiance adjustment unit (52) that adjusts an irradiance distribution of projection light on a surface (S). The irradiance adjustment unit (52) comprises a spatial light modulator (54a, 54b; 154) having an array of light deflection elements (55) and a light splitter (56a, 56b; 56; 156a) that splits the projection light into modulated light (58a, 58b; 158) that propagates along a modulation light path (59a, 59b; 159) and non-modulated light (60a, 60b; 160a, 160c, 160d) that propagates along a non-modulation light path (63; 163a, 163c, 163d). The spatial light modulator (54a, 54b; 154) is only arranged in the modulation light path (59a, 59b; 159), but not in the non- modulation light path (63; 163a, 163c, 163d). The modulated light (58a, 58b; 158) and the non-modulated light (60a, 60b; 160a, 160c, 160d) superimpose on the surface.
摘要翻译：微光刻投影装置（10）的照明系统包括调节投影光在表面（S）上的辐照度分布的照度调节单元（52）。辐照度调节单元（52）包括具有一组光偏转元件（55）和分光器（56a，56b; 56; 156a）的空间光调制器（54a，54b; 154），其将投影光分成调制光沿着调制光路（59a，59b; 159）和沿着非调制光路（63; 163a）传播的未调制光（60a，60b; 160a，160c，160d）传播的（58a，58b; 158），163c，163d）。空间光调制器（54a，54b; 154）仅布置在调制光路径（59a，59b; 159）中，而不布置在非调制光路径（63; 163a，163c，163d）中。调制光（58a，58b; 158）和非调制光（60a，60b; 160a，160c，160d）叠加在表面上。

47. 发明申请

WO2015124262A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN 审中-公开
标题翻译：的微光刻投射曝光设备用于操作相同的照明系统和方法
公开(公告)号：WO2015124262A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/000222
申请日：2015-02-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： DEGÜNTHER, Markus , DAVYDENKO, Vladimir , KORB, Thomas , EISENMENGER, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/702 , G02B26/0833 , G03F7/70041 , G03F7/70116 , G03F7/70475
摘要： Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist eine Lichtquelle (LS) auf, die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen eingerichtet ist. Im Lichtweg zwischen der Lichtquelle (LS) und einer Zielfläche (38) ist ein Array (28) von optischen Elementen (30) angeordnet, die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine im Lichtweg zwischen dem Array (28) und der Zielfläche (38) angeordnete verstellbare Lichtablenkungsoptik (32) ist dazu eingerichtet, auftreffendes Licht mit unterschiedlichen Ablenkwinkeln abzulenken. Eine Steuereinrichtung (52) steuert die Lichtablenkungsoptik (32) so an, dass eine Änderung der Ablenkwinkel zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen erfolgt.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统包括光源（LS），其被设置成产生光脉冲序列。在光源（LS）和目标表面（38）之间的光路是光学元件（30）布置，其被两个切换位置之间切换的数字的阵列（28）。甲在阵列（28）和所述目标表面（38）之间的光路布置可调光偏转光学器件（32）适于在不同的偏转角偏转入射光。控制器（52）控制以这样的方式，在两个连续的光脉冲之间的偏转角的变化进行光偏转光学器件（32）。

48. 发明申请

WO2015055306A1 FÖRDEREINHEIT UND FÖRDERSYSTEM ZUM FÖRDERN VON LADUNGSTRÄGERN 审中-公开
标题翻译：资助单位和支撑系统的支持货物承运人
公开(公告)号：WO2015055306A1
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：PCT/EP2014/002779
申请日：2014-10-15
申请人： EISENMANN SE
发明人： GAWELCZYK, Klaus , BERG, Leif
IPC分类号： B62B5/00 , B62B3/06 , B65G67/20 , B65D19/42
CPC分类号： B62B5/0093 , B62B3/06 , B62B3/0612 , B62B5/0033 , B62B5/0083 , B62B2203/10 , B65D19/42 , B65G67/20
摘要： Eine Fördereinheit zum Fördern von beladenen oder unbeladenen Ladungsträgern (12) umfasst ein Fahrwerk (24), welches auf Bodenrollen (26) verfahrbar ist. Ein von dem Fahrwerk (24) mitgeführtes Tragelement (28) ist bezogen auf das Fahrwerk (24) derart anhebbar oder absenkbar, dass die Fördereinheit in einer Leerkonfiguration einen Ladungsträger (12) unterfahren und in einer Förderkonfiguration einen Ladungsträger ( 12 ) mit dem Tragelement (28) aufnehmen und fördern kann. Mittels eines Antriebssystems (30) sind wenigstens eine der Bodenrollen (26) und das Tragelement (28) antreibbar. Das Antriebssystem (30) umfasst einen Fahrantrieb (32) für das Fahrwerk (24) und eine Hub-/Senkeinrichtung (52) für das Tragelement (28) und ist derart eingerichtet, dass das Tragelement (28) eine Bewegung durchführen kann, die durch eine Überlagerung einer horizontalen Bewegungskomponente des Fahrwerks (24) und einer vertikalen Bewegungskomponente des Tragelements (28) bewirkt wird. Außerdem ist ein Fördersystem zum Fördern von beladenen oder unbeladenen Ladungsträgern (12) mit mehreren Fördereinrichtungen (18) angegeben, bei dem jeweils wenigstens zwei solche Fördereinheiten (20) zusammenarbeiten.
摘要翻译：用于输送装载或卸载货物的载体（12）的输送单元包括：底架（24），其可在基辊（26）移动。一个机箱（24）的夹带的元件（28）相对于支撑于升高或降低在这样的底盘（24），该输送单元由处于开放配置驱动的电荷载体（12）和在输送结构的电荷载体（12）（与支撑构件可容纳28）和推动。由一个驱动系统（30）的底辊（26）和支承构件（28）的至少一个的装置可以被驱动。所述驱动系统（30）包括用于将所述底盘（24）和提升的行驶驱动器（32）/降低的支持元件机构（52），（28）和被布置成使得所述支撑元件（28）能够执行动作，其通过底盘（24）和所述支撑元件的运动的垂直分量的运动的水平分量的叠加（28）实现。此外，用于与多个输送机的输送装载或卸载货物的载体（12）的输送机系统被指示（18），与所述至少两个这样的运输单元（20）配合。

49. 发明申请

WO2015039741A1 VERFAHREN ZUM MESSEN DER EINDRINGTIEFE EINES LASERSTRAHLS IN EIN WERKSTÜCK SOWIE LASERBEARBEITUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法用于测量激光束穿透深度工件与激光处理装置
公开(公告)号：WO2015039741A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：PCT/EP2014/002483
申请日：2014-09-13
申请人： PRECITEC OPTRONIK GMBH
发明人： SCHÖNLEBER, Martin , KOGEL-HOLLACHER, Markus , BAUTZE, Thibault , FRAAS, Christian
IPC分类号： G01B9/02 , B23K26/02
CPC分类号： G01B11/22 , B23K26/03 , B23K26/046 , B23K26/048 , G01B9/02019 , G01B9/02044 , G01B9/02091
摘要： Bei einem Verfahren zum Messen der Eindringtiefe eines Laserstrahls (19) in ein Werkstück (24, 26) wird der Laserstrahl mit Hilfe einer in einem Bearbeitungskopf angeordneten Fokussieroptik (14) in einem Brennfleck (22) fokussiert. Der Brennfleck erzeugt dabei in dem Werkstück eine Dampfkapillare (88). Ein optischer Kohärenztomograph (40) erzeugt einen ersten Messstrahl (70a) und einen zweiten Messstrahl (70b). Der erste Messstrahl (70a) wird auf einen ersten Messpunkt (MPa) am Grund der Dampfkapillare (88) gerichtet, um dadurch einen ersten Abstand (a1) zwischen einem Referenzpunkt und dem ersten Messpunkt (MPa) zu messen. Gleichzeitig wird der zweite Messstrahl (70b) auf einen zweiten Messpunkt (MPb) auf einer zum Bearbeitungskopf (14) weisenden Oberfläche (92) des Werkstücks (24) außerhalb der Dampfkapillare (88) gerichtet, um dadurch einen zweiten Abstand (a2) zwischen dem Referenzpunkt und dem zweiten Messpunkt (MPb) zu messen. Die Eindringtiefe (d) des Laserstrahls ergibt sich dann als Differenz zwischen dem zweiten Abstand (a2) und dem ersten Abstand (a1).
摘要翻译：在通过设置在聚焦透镜的加工头的装置测量激光束（19）的穿透深度在激光束的工件（24,26）的方法（14）被聚焦在焦点（22）。在工件的蒸气的毛细管（88）由此产生的焦斑。一种光学相干层析成像（40），产生第一测量光束（70A）和第二测量光束（70B）。第一测量光束（70a）上被引导到在所述蒸气的毛细管（88）的基极的第一测量点（兆帕），从而来测量的基准点和第一个测量点（兆帕）之间的第一距离（a1）中。涉及同时第二测量光束（70B）的上一个设置为第二测量点（MPB）的蒸气的毛细管（88）的外侧的工件（24）的加工头（14）的面对表面（92），从而形成之间的第二距离（a2）的参考点与第二测量点（MPB），以进行测量。激光束的穿透深度（d），然后为第二距离（a2）和所述第一间隔（A1）之间的差值获得。

50. 发明申请

WO2015036002A1 METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：操作微波投影仪的方法
公开(公告)号：WO2015036002A1
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：PCT/EP2013/002767
申请日：2013-09-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/70 , G03F1/144 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G06F17/5068 , G06F17/5081 , G06F2217/12
摘要： The invention relates to a method of operating a microlithographic projection exposure apparatus. In a first step (S1) projection objective (20) comprising a plurality of real manipulators (M1, M2, M3) is provided. In a second step (S2) a virtual manipulator is defined that is configured to produce preliminary control signals for at least two of the real manipulators. In a third step (S3) performed during operation of the apparatus a real image error of the projection objective (20) is determined. In a fourth step (S4) a desired corrective effect is determined. In a fifth step (S5) first virtual control signals for the virtual manipulator are determined. In a sixth step (S6) second virtual control signals for the real manipulators are determined. In a seventh step (S7) final control signals for the real manipulators as a function of the first and second virtual control signals are determined. In a eighth step (S8) the final control signals are applied to the real manipulators.
摘要翻译：本发明涉及一种操作微光刻投影曝光装置的方法。在第一步骤（S1）中，提供包括多个真实操纵器（M1，M2，M3）的投影物镜（20）。在第二步骤（S2）中，定义虚拟操纵器，其被配置为产生至少两个真实操纵器的初步控制信号。在设备的操作期间执行的第三步骤（S3）中，确定投影物镜（20）的真实图像误差。在第四步骤（S4）中，确定期望的校正效果。在第五步骤（S5）中，确定虚拟操纵器的第一虚拟控制信号。在第六步骤（S6）中，确定用于真实操纵器的第二虚拟控制信号。在第七步骤（S7）中，确定作为第一和第二虚拟控制信号的函数的真实操纵器的最终控制信号。在第八步（S8）中，最终的控制信号被施加到真实的操纵器。

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