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1. 发明申请

WO2016041805A1 PROJECTION LENS, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影镜头，投影曝光装置和投影曝光方法
公开(公告)号：WO2016041805A1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：PCT/EP2015/070391
申请日：2015-09-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ANDRÉ, Stephan , GOLDE, Daniel , GRUNER, Toralf , RUOFF, Johannes , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Ricarda , SCHNEIDER, Sonja
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70266 , G03F7/7015 , G03F7/70233 , G03F7/70258
摘要： A projection lens (PO) for imaging a pattern arranged in an object plane (OS) of the projection lens into an image plane (IS) of the projection lens by means of electromagnetic radiation having an operating wavelength λ from the extreme ultraviolet range (EUV) comprises a multiplicity of mirrors (M1 - M6) having mirror surfaces which are arranged in a projection beam path between the object plane and the image plane in such a way that a pattern of a mask (M) that is arranged in the object plane is imagable into the image plane by means of the mirrors. A first imaging scale in a first direction (y-direction) running parallel to a scan direction is smaller in terms of absolute value than a second imaging scale in a second direction (x-direction) perpendicular to the first direction. Provision is made of a dynamic wavefront manipulation system for correcting astigmatic wavefront aberration portions caused by reticle displacement.
摘要翻译：一种投影透镜（PO），用于通过具有来自极紫外线范围的工作波长λ（EUV）的电磁辐射，将布置在投影透镜的物平面（OS）中的图案成像为投影透镜的像平面（IS））包括多个反射镜（M1-M6），其具有布置在物平面和图像平面之间的投影光束路径中的镜面，使得布置在物平面中的掩模（M）的图案通过镜子可以进入图像平面。在与第一方向垂直的第二方向（x方向）上，在与扫描方向平行的第一方向（y方向）上的第一成像刻度在绝对值上小于第二成像刻度。提供了一种用于校正由掩模版位移引起的散光波前像差部分的动态波前操纵系统。

2. 发明申请

WO2013075930A1 ILLUMINATION AND DISPLACEMENT DEVICE FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置的照明和位移装置
公开(公告)号：WO2013075930A1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：PCT/EP2012/071846
申请日：2012-11-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHNEIDER, Sonja , WABRA, Norbert , VON HODENBERG, Martin , BITTNER, Boris , SCHNEIDER, Ricarda
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2002 , G03F7/70191 , G03F7/70558
摘要： An illumination and displacement device for a projection exposure apparatus (1) comprises an illumination optical unit (25) for illuminating an illumination field (18). An object holder (17a) serves for mounting an object (17) in such a way that at least one part of the object (17) can be arranged in the illumination field (18). An object holder drive (17b) serves for displacing the object (17) during illumination in an object displacement direction (y). A correction device (23) serves for the spatially resolved influencing of an intensity of the illumination at least of sections of the illumination field (18), wherein there is a spatial resolution of the influencing of the intensity of the illumination of the illumination field (18) at least along the object displacement direction (y). This results in an illumination and displacement device in which field-dependent imaging aberrations which are present during the projection exposure do not undesirably affect a projection result.
摘要翻译：投影曝光装置（1）的照明和位移装置包括用于照明照明场（18）的照明光学单元（25）。物体保持器（17a）用于安装物体（17），使得物体（17）的至少一部分可以布置在照明区域（18）中。物体保持器驱动器（17b）用于在物体移动方向（y）的照射期间使物体（17）移动。校正装置（23）用于对照明场（18）的至少部分的照明强度进行空间分辨的影响，其中存在影响照明场照明强度的空间分辨率（ 18）至少沿着物体位移方向（y）。这导致照明和位移装置，其中在投影曝光期间存在的场依赖的成像像差不会不期望地影响投影结果。

3. 发明申请

WO2015132198A1 OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL ARRANGEMENT THEREWITH 审中-公开
标题翻译：光学元件和光学布置
公开(公告)号：WO2015132198A1
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：PCT/EP2015/054295
申请日：2015-03-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PAUL, Hans-Jochen , BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHICKETANZ, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/113 , G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B5/0833 , G02B5/0891 , G02B5/208 , G02B27/005 , G03F7/70266 , G03F7/70316 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： The invention relates to an optical element (1) comprising: a substrate (2), a coating (3, 9, 5) applied to the substrate (2), wherein the coating (3, 9, 5) comprises: a reflective multi-layer coating (5b) embodied for reflecting radiation (4) with a used wavelength (λΕυν) and an antireflection coating (3) arranged between the substrate (2) and the reflective multi-layer coating (5b) for suppressing the reflection of heating radiation (7) with a heating wavelength (λΗ) that differs from the used wavelength (λΕυν). The invention also relates to an optical arrangement, which comprises at least one such optical element (1) and at least one device for thermal manipulation of the optical element (1), which device comprises at least one heating light source (8) for producing heating radiation (7).
摘要翻译：本发明涉及一种光学元件（1），包括：基底（2），施加到基底（2）的涂层（3,9,5），其中所述涂层（3,9,5）包括：反射多用于反射具有使用波长（λEυν）的辐射（4）和布置在基板（2）和反射多层涂层（5b）之间的抗反射涂层（3）的层间涂层（5b），用于抑制加热反射具有与使用波长（λEυν）不同的加热波长（λH）的辐射（7）。本发明还涉及一种光学装置，其包括至少一个这样的光学元件（1）和用于光学元件（1）的热操纵的至少一个装置，该装置包括至少一个加热光源（8），用于产生加热辐射（7）。

4. 发明申请

WO2015049319A1 PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影曝光方法和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2015049319A1
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：PCT/EP2014/071096
申请日：2014-10-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , VON HODENBERG, Martin , SCHNEIDER, Sonja
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70083 , G03F7/70258 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F7/70891
摘要： Projection exposure method for exposing a radiation-sensitive substrate (W) with at least one image of a pattern comprises the following steps: providing the pattern between an illumination system (ILL) and a projection lens (PO) of a projection exposure apparatus (WSC) in such a way that the pattern is arranged in the region of an object plane (OS) of the projection lens and can be imaged by means of the projection lens into an image plane (IS) of the projection lens, said image plane being optically conjugate with respect to the object plane, wherein imaging-relevant properties of the pattern can be characterized by pattern data; illuminating an illumination region of the pattern with an illumination radiation provided by the illumination system (ILL) in accordance with an illumination setting which is specific to a use case and which can be characterized by illumination setting data; characterized by: determining use case data which are specific to the use case and which comprise pattern data and/or illumination setting data; determining imaging specification data using the use case data; controlling controllable optical components of the projection lens (PO) by means of a control unit (CU) of the projection lens in a manner dependent on the imaging specification data for the purpose of adapting the imaging behaviour of the projection lens to the use case; imaging the pattern onto the substrate with the aid of the projection lens adapted to the use case.
摘要翻译：用于使图案的至少一个图像曝光于辐射敏感基板（W）的投影曝光方法包括以下步骤：在投影曝光装置（WSC）的照明系统（ILL）和投影透镜（PO）之间提供图案），使得图案布置在投影透镜的物平面（OS）的区域中，并且可以通过投影透镜成像到投影透镜的像平面（IS）中，所述图像平面是相对于物平面光学共轭，其中图案的成像相关特性可以通过图案数据表征; 利用照明系统（ILL）提供的照明辐射来照射图案的照明区域，该照明区域根据用例特有的照明设置，并且可以通过照明设置数据表征; 其特征在于：确定用例特有的用例数据，其中包括图案数据和/或照明设置数据; 使用所述用例数据确定成像规格数据; 通过投影透镜的控制单元（CU）以取决于成像指定数据的方式控制投影透镜（PO）的可控光学部件，以将投影透镜的成像行为适应于用例; 借助于适合用例的投影透镜将图案成像到基板上。

5. 发明申请

WO2015007832A1 OPTICAL ASSEMBLY 审中-公开
标题翻译：光学装置
公开(公告)号：WO2015007832A1
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：PCT/EP2014/065357
申请日：2014-07-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PAULS, Walter , WAGNER, Hendrik , AHLES, Florian , WALD, Christian , FRITZSCHE, Steffen , WABRA, Norbert , BITTNER, Boris , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70258 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to an optical assembly (100), in particular for a lithography system for imaging lithographic micro- or nanostructures, comprising at least two optical elements (101, 103) arranged successively in a beam path of the optical assembly (100), an acquisition device (110) designed to acquire radiation signals (131) from marking elements (414, 424, 720, 721, 722, 723) on or at the at least two optical elements (101, 103), the marking elements (414, 424) being fitted outside of optically active regions (102, 104) of the at least two optical elements (101, 103), wherein the acquisition device (110) is arranged outside a beam path (132) between a first optical element (101) and a last optical element (103) of the at least two optical elements (101, 103), wherein the radiation signals (131) contain information about one or a plurality of properties of an optically active surface (102, 104) of the at least two optical elements (101, 103), and a control device (120), which is coupled to the acquisition device (110) and which is designed to determine the plurality of properties of the optically active surface (102, 104) of the at least two optical elements (101, 103) as a function of the information contained in the radiation signals (131) originating from the marking elements. The invention additionally relates to a method for operating the optical assembly (100).
摘要翻译：本发明涉及一种光学组件（100），特别涉及用于成像光刻微观或纳米结构的光刻系统，其包括依次布置在光学组件（100）的光束路径中的至少两个光学元件（101,103）设计用于从所述至少两个光学元件（101,103）上或所述至少两个光学元件（101,103）上的标记元件（414,424,720,721,722,723）获取辐射信号（131）的采集设备（110），所述标记元件，424）被安装在所述至少两个光学元件（101,103）的光学活性区域（102,104）之外，其中所述采集装置（110）布置在第一光学元件 101）和所述至少两个光学元件（101,103）的最后一个光学元件（103），其中所述辐射信号（131）包含关于光学活性表面（102,104）的一个或多个特性的信息所述至少两个光学元件（101,103）和控制装置（120）耦合到所述采集装置（110）并被设计成根据所述辐射中包含的信息确定所述至少两个光学元件（101,103）的所述光学活性表面（102,104）的多个属性来自标记元件的信号（131）。本发明还涉及一种用于操作光学组件（100）的方法。

6. 发明申请

WO2014012643A2 SYSTEM CORRECTION FROM LONG TIMESCALES 审中-公开
标题翻译：系统从长时间校正
公开(公告)号：WO2014012643A2
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2013/002077
申请日：2013-07-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , VON HODENBERG, Martin , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , MACK, Ruediger
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： Aberrations of a projection lens for microlithography can be subdivided into two classes: a first class of aberrations, which are distinguished by virtue of the fact that their future size increases by a non-negligible value after a constant time duration, independently of their current size, and a second class of aberrations, which, after reaching a threshold, only increase by a negligible value after each further time duration. An adjustment method is proposed, which adjusts these two classes of aberrations in parallel in time with one another.
摘要翻译：用于微光刻的投影透镜的像差可以细分为两类：第一类像差，其由于其未来尺寸在常数之后增加了不可忽略的值持续时间与其当前尺寸无关，以及第二类像差，其在达到阈值之后，在每个其他持续时间后仅增加可忽略的值。提出了一种调整方法，它可以在时间上平行调整这两类像差。

7. 发明申请

WO2020157111A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE MIT EINER OPTISCHEN ANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2020157111A1
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：PCT/EP2020/052131
申请日：2020-01-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FINGERHUTH, Judith , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , DJURIC-RISSNER, Ferdinand , GRAF, Peter , FINKEN, Reimar
IPC分类号： G02B7/185 , G03F7/20 , G02B27/00
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleitertechnik mit einer optischen Anordnung (30), umfassend ein optisches Element (31) mit einer optisch aktiven Fläche (32) und einen Aktuator (34), wobei die optische Anordnung (30) dazu eingerichtet ist, die optisch aktive Fläche (32) zu deformieren und wobei der Aktuator (34) im optischen Element (31) eingelassen ist. Dabei ist der Aktuator (34) außerhalb der optisch aktiven Fläche (32) und außerhalb des hinter der optisch aktiven Fläche liegenden Bereiches angeordnet.

8. 发明申请

WO2018162286A1 PROJEKTIONSSYSTEM FÜR EINE LITHOGRAPHIEANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2018162286A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：PCT/EP2018/054833
申请日：2018-02-27
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHNEIDER, Sonja , WEISS, Robert , FINGERHUTH, Judith , WABRA, Norbert , GRAF, Peter , DJURIC-RISSNER, Ferdinand
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70258 , G03F7/70891
摘要： Optische Anordnung in einem Projektionssystem für eine Lithographieanlage, welche einen Strahlengang zum Abbilden lithographischer Strukturen aufweist, mit eine in dem Strahlengang angeordneten Wellenfrontmanipulator, welcher im Betrieb der Lithographieanlage von einem in dem Strahlengang verlaufenden Strahlenbündel entlang einer Durchstrahlrichtung durchstrahlt wird und welcher dazu eingerichtet ist, eine optische Weglänge für das Strahlenbündel einzustellen, wobei der Wellenfrontmanipulator aufweist: ein segmentiertes optisches Element mit quer zur Durchstrahlrichtung nebeneinander angeordneten Segmenten, wobei zumindest ein Segment derart beweglich angeordnet ist, dass sich bei einer Positionsänderung des Segments relativ zu dem das Segment durchstrahlende Strahlenbündel die optische Weglänge für das Strahlenbündel ändert.

9. 发明申请

WO2016184718A1 PROJECTION LENS WITH WAVE FRONT MANIPULATOR, AND PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影镜头与波前机械手，投影曝光方法和投影曝光装置
公开(公告)号：WO2016184718A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/060398
申请日：2016-05-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHÖMER, Ricarda
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70266 , G02B13/143 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70308
摘要： A projection lens (PO) for imaging a pattern of a mask arranged in the region of an object plane (OS) of the projection lens into an image plane (IS) of the projection lens by means of electromagnetic radiation with a work wavelength λ
摘要翻译：一种投影透镜（PO），用于通过具有工作波长λ<1的电磁辐射将布置在投影透镜的物平面（OS）的区域中的掩模图案成像为投影透镜的像平面（IS） 260nm具有多个具有光学表面的光学元件，其被布置在物平面（OS）和像平面（IS）之间的投影光束路径中，使得布置在物平面中的图案可成像为图像平面通过光学元件。此外，提供了用于可控地影响从物平面到图像平面的投影辐射的波前的波前操纵系统（WFM）。波前操纵系统具有操纵器（MAN），其具有布置在投影光束路径中的操纵元件（ME）和用于在投影光束路径的辐射上可逆地改变操纵器元件的光学效果的致动装置（DR）。操纵器元件的操纵器表面被布置在与该场平面的光学附近中的投影透镜的最近的场平面有限距离（D）处，使得机械手元件的局部不同的光学效应可以通过装置用于从场平面的不同场点发射的光束的致动装置。此外，提供灵敏度适应系统，用于使机械手的敏感度适应成像特性的变化，其中这些变化可以通过相对于物体平面移动掩模和/或通过使掩模变形而引起。

10. 发明申请

WO2015155061A1 MIRROR ARRANGEMENT, PROJECTION LENS AND EUV LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：镜面布置，投影镜头和EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2015155061A1
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：PCT/EP2015/057013
申请日：2015-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , SCHMIDT, Holger
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00 , B82Y10/00 , G02B7/18 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B7/1815 , G02B27/0043 , G03F7/70266 , G03F7/70891 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a mirror arrangement (1) comprising: a mirror (2) with a substrate (3) and with a reflective coating (4) for EUV radiation (9), wherein the substrate (3) is formed from a material with a temperature-dependent coefficient of thermal expansion, which, in a first volume region (V1), has a zero crossing at a first zero crossing temperature (T ZC1 ) and which, in at least one second, thermally actuatable surface-near volume region (V2), has a zero crossing at a second zero crossing temperature (T ZC2 ) that differs from the first, and at least one thermal actuator (6) for the thermal actuation of the second volume region (V2) of the substrate (3).
摘要翻译：本发明涉及一种反射镜装置（1），包括：具有基板（3）的反射镜（2）和用于EUV辐射（9）的反射涂层（4），其中基板（3）由具有在第一体积区域（V1）中，在第一过零温度（TZC1）处具有零交叉，并且在至少一秒钟的热可致动表面近体积区域（ V2）在与用于基板（3）的第二体积区域（V2）的热致动的第一和至少一个热致动器（6）不同的第二过零点温度（TZC2）处具有过零点。

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