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31. 发明申请

WO2013069410A1 冷却装置、イオン顕微鏡、観察装置、又は検査装置审中-公开
标题翻译：冷却装置，离子显微镜和观察装置或检查装置
公开(公告)号：WO2013069410A1
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：PCT/JP2012/076566
申请日：2012-10-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：佐保　典英 , 田中　弘之 , 荒井　紀明 , 志知　広康 , 川浪　義美 , 松田　和也
IPC分类号： H01J37/09 , F25B9/14 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/08 , F25D19/00 , H01J37/28 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/061 , H01J2237/0807 , H01J2237/24514
摘要：　本発明の目的は、被冷却物へ振動を伝えることを抑制した冷却装置、これを用いたイオン顕微鏡、観察装置、又は検査装置を提供することに関する。　真空容器内に収納された被冷却物であって、少なくとも室温よりも低い温度に少なくともその一部が冷却される被冷却物と熱的に連結される冷却熱伝導体（５３、４０６）と、前記冷却熱伝導体と熱的に結合されるとともに、前記真空容器と直接的又は間接的に機械的に連結される熱交換器（４０５、４１４）と、前記熱交換器へ少なくとも前記被冷却物を冷却する室温よりも低い温度の冷媒を供給し、該熱交換器から前記冷媒を回収する往復配管（４０３、４０７、４１３、４１５）と、前記冷媒を冷却する冷凍機（４０１）とをその経路に有する冷媒循環回路と、前記冷媒循環回路の前記熱交換器と前記冷凍機との間の前記往復配管に設けられ、２次元方向若しくは３次元方向に可撓する撓み保有構造機構（５００、５０８）と、を備える冷却装置、これを用いたイオン顕微鏡、観察装置、又は検査装置が提供される。
摘要翻译：本发明的目的在于提供一种抑制向待冷却物体传递振动的冷却装置以及使用该冷却装置的离子显微镜和观察装置或检查装置。提供一种利用该冷却装置的冷却装置和离子显微镜以及观察装置或检查装置，所述冷却装置配备有：与要冷却的对象热连接的冷却热导体（53,406）放置在真空容器内并且至少部分冷却至少至低于室温的温度; 热交换器（405,414），其热连接到冷却热导体，同时机械地直接或间接地连接到真空容器; 制冷剂循环回路，在其路径上具有用于供给制冷剂的往复式管道装置（403,407,413,415），所述制冷剂至少具有低于室温的温度，以将待冷却的物体冷却至热交换器，用于从热交换器回收制冷剂;以及冷藏库（401），用于冷却制冷剂; 以及弯曲保持结构机构（500,508），其设置在制冷剂循环回路的往复运动管道装置之间的热交换器和冰箱之间，并且可以在二维或三维方向上弯曲。

32. 发明申请

WO2012132230A1 電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：电子显微镜
公开(公告)号：WO2012132230A1
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/JP2012/001363
申请日：2012-02-29
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 能田弘行 , 大沼満 , 長沖功 , 馬見新秀一
发明人：能田　弘行 , 大沼　満 , 長沖　功 , 馬見新　秀一
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/16 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/224 , H01J37/16 , H01J37/244 , H01J37/26
摘要：　本発明の電子顕微鏡（２０）は、第１撮影装置（２９１）と、透過ビーム（Ｐ）に対して退避可能な第２撮影装置（２４０）と、他の検出装置（２６０）を備える。　そして、前記第２撮影装置は前記第１撮影装置の上部の観察室（２３０）に設けられ、前記他の検出装置の取付部（２３１）は、前記第２撮影装置と同一平面であって前記第２撮影装置の取付位置から９０度回転させた位置に設けられる。　これにより、架台筐体のテーブル面上に設けられる観察室に、第２撮影手段や他の検出器をコンパクトに取り付けて、これら機器の作業性やテーブル面の有効活用が図れる電子顕微鏡を提供することができる。
摘要翻译：该电子显微镜（20）包括：第一成像装置（291）; 可以远离透射光（P）移动的第二成像装置（240）; 和另一检测装置（260）。第二成像装置设置在第一成像装置上方的观察室（230）中，另一检测装置的安装部（231）设置在与第二成像装置的安装位置相对旋转90度的位置设置有第二成像装置的同一平面。因此，第二成像装置和另一个检测器可以紧凑地附接到设置在安装壳体的台面上的观察室，由此可以提供电子显微镜，其中可以实现装置的可操作性和桌面的有效使用。

33. 发明申请

WO2012081428A1 走査電子顕微鏡及びそれを用いた測長方法审中-公开
标题翻译：扫描电子显微镜和使用该扫描电子显微镜的长度测量方法
公开(公告)号：WO2012081428A1
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/JP2011/078013
申请日：2011-12-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 備前大輔 , 牧野浩士 , 田中潤一 , 江角真
发明人：備前　大輔 , 牧野　浩士 , 田中　潤一 , 江角　真
IPC分类号： H01J37/22 , G01B15/00 , H01J37/05 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/244 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/05 , G01B15/00 , H01J37/10 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/04735 , H01J2237/24485
摘要：本発明の走査電子顕微鏡は、電子源（１０２）と、一次電子線（１３８）を試料（１１３）に照射するための電子光学系（１０９、１１０、１１１）と、前記試料から放出される信号電子（１３９）を検出する電子検出器（１２７）と、減速電界型エネルギーフィルタ（１０８）とを備え、前記減速電界型エネルギーフィルタは信号電子のエネルギー弁別用の導体薄膜（３０４）を有する。これにより、リターディング光学系を有する場合であっても高いエネルギー分解能が得られる減速電界型エネルギーフィルタを備えた走査電子顕微鏡を実現できる。
摘要翻译：该电子扫描显微镜包括用于将样品（113）暴露于一次电子束（138）的电子源（102），用于检测信号电子（139）的电子检测器（127）的电子光学系统（109,110,111）从所述样品发射的减速电场型能量过滤器（108）。减速电场型能量滤波器具有用于区分信号电子能量的半导体薄膜（304）。利用这种结构，即使在扫描电子显微镜具有延迟光学系统的情况下，也可以实现具有能够获得高能量分辨率的减速电场型能量过滤器的扫描电子显微镜。

34. 发明申请

WO2012060416A1 イオンミリング装置审中-公开
标题翻译：离子切割装置
公开(公告)号：WO2012060416A1
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：PCT/JP2011/075306
申请日：2011-11-02
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 岩谷徹 , 武藤宏史 , 高須久幸 , 上野敦史 , 金子朝子
发明人：岩谷　徹 , 武藤　宏史 , 高須　久幸 , 上野　敦史 , 金子　朝子
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/30 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3053 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3007 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/26
摘要：　本発明のイオンミリング装置は、真空チャンバ内（１５）に配置されイオンビームに直交する第１の軸に平行な傾斜軸を持つ傾斜ステージ（８）と、前記第１の軸に直交する第２の軸に平行な回転軸及び傾斜軸を持ち試料（３）を回転或いは傾斜させる駆動機構（９、５１）と、前記傾斜ステージを傾斜させながら試料を回転或いは往復傾斜させてイオンビームを照射する状態と、前記傾斜ステージを非傾斜状態とすると共に前記試料を往復傾斜させてイオンビームを照射する状態とを切り替えることを可能にする切替部を備えている。これにより、同一の真空チャンバ内で試料の断面加工と平面加工とを行うことが可能なイオンミリング装置が実現された。
摘要翻译：本发明的离子铣削装置设置有倾斜台（8），其设置在真空室（15）中并具有平行于与离子束正交的第一轴线的倾斜轴线，驱动机构（9,51 ），其具有旋转轴线和平行于与所述第一轴线正交的第二轴线的倾斜轴线，并且使样本（3）旋转或倾斜;以及切换单元，其能够在所述样本之间切换所述离子束的状态在倾斜台倾斜时旋转或摆动，并且在倾斜台进入直到状态并且样品摆动的同时施加离子束的状态。因此，实现了能够在相同的真空室中对样品进行横截面加工和平坦处理的离子铣削装置。

35. 发明申请

WO2012046775A1 荷電粒子線用試料装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束样品装置
公开(公告)号：WO2012046775A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/JP2011/072994
申请日：2011-10-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 長久保康平 , 谷垣俊明 , 広田秀樹 , 伊藤勝治 , 浅川孝之
发明人：長久保　康平 , 谷垣　俊明 , 広田　秀樹 , 伊藤　勝治 , 浅川　孝之
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/185 , H01J2237/2006 , H01J2237/204 , H01J2237/208
摘要： FIBとSEMとの間で、雰囲気を遮断した状態で試料の受け渡しが容易な荷電粒子線用試料装置を提供する。FIB１又はSEMの試料室４とゲートを介して連通する試料交換器5の中に、大気と遮断した雰囲気遮断試料ホルダー7のフタ9を着脱するための雰囲気遮断ユニット10を設け、試料交換棒１１を押すだけでフタ9が外れて、試料ホルダー7のみが試料室４内にセットされる。雰囲気遮断試料ホルダー7は、大気と遮断した雰囲気中、例えば真空中で試料を搭載した後、フタ9をすることで試料と外気とを遮断し、この状態で試料交換棒１１を押すだけでFIB１又はSEM内で試料の加工および観察ができ、さらに試料交換棒１１を引き出すときは雰囲気遮断ユニット10でフタ9をすることで、試料と外気との遮断状態を保持する。
摘要翻译：提供了一种用于带电粒子束的样品装置，其有助于在隔离气氛的同时在FIB和SEM之间传送样品。在与样品室（4）连通的样本交换器（5）中，设置有用于放置和取出与空气隔离的大气隔离样品架（7）的盖（9）的气氛隔离单元（10） FIB（1）或通过门的SEM，仅通过推动样品交换棒（11）取下盖（9），并且只将样品保持器（7）放置在样品室（4）中。大气隔离样品架（7）在例如真空中与空气隔离的气氛中装载样品，然后用盖（9）覆盖，从而将样品和外部空气彼此隔离，可以在FIB（1）或SEM中仅通过在该状态下推动样品交换棒（11）而在FIB（1）或SEM中进行处理和观察，此外，当抽出样品交换棒11时，气氛隔离单元 10）被盖（9）覆盖，从而保持样品与外部空气之间的隔离状态。

36. 发明申请

WO2012014362A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2012014362A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/JP2011/003213
申请日：2011-06-08
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 石井良一 , 土肥隆 , 佐藤修 , 海老塚泰
发明人：石井　良一 , 土肥　隆 , 佐藤　修 , 海老塚　泰
IPC分类号： H01J37/18 , H01J37/16
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/185 , H01J2237/2001 , H01J2237/2802
摘要：　本発明は、弁体の交換頻度を抑制しつつ、効果的にチップ部分の清浄状態を保つことが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。　上記目的を達成するために、荷電粒子線装置において、荷電粒子源側の真空空間と、試料台側の真空空間との間に配置され、荷電粒子ビームの通過開口を有する隔壁と、荷電粒子ビーム光軸中の第１の位置と、荷電粒子ビーム光軸外の第２の位置との間で遮蔽部材を移動させる駆動機構と、駆動機構を制御する制御装置とを備え、第１の位置は遮蔽部材が隔壁と離間した位置であって、制御装置は、遮蔽部材を前記第１の位置に位置付けた状態にて、試料室と試料交換室との間のバルブを開放する制御を行うことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种带电粒子束装置，使得尖端部分可以有效地保持在清洁状态，同时阀体更换的频率也降低。为了实现该目的，提供一种带电粒子束装置，包括：分隔件，位于带电粒子源侧真空空间和样品台侧真空空间之间，所述隔板还包括用于带电粒子束的开口通过; 驱动器机构，其将快门部件移动到带电粒子束的光轴内的第一位置与带电粒子束的光轴外的第二位置; 以及控制驱动器机构的控制装置。第一位置是其中挡板构件与分隔件隔开的位置，并且当挡板构件处于位于第一位置的状态时，控制装置执行在样本室和交换器之间打开阀的控制。

37. 发明申请

WO2011126041A1 複合顕微鏡装置审中-公开
标题翻译：化合物显微镜装置
公开(公告)号：WO2011126041A1
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：PCT/JP2011/058684
申请日：2011-04-06
申请人：大学共同利用機関法人自然科学研究機構 , ナガヤマアイピーホールディングスエルエルシー , 日本電子株式会社 , 永山國昭 , 新井善博 , 飯島寛文 , 寺川進
发明人：永山　國昭 , 新井　善博 , 飯島　寛文 , 寺川　進
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/141 , H01J37/16 , H01J37/20 , H01J37/22
CPC分类号： G02B21/0076 , G02B21/0032 , G02B21/365 , H01J37/228 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/045 , H01J2237/2608
摘要：　本発明の複合顕微鏡装置（１）は、透過型の電子顕微鏡（２）と、光学顕微鏡（４）とを備える。電子線の電子光軸（Ｃ）上には試料（１０）と反射鏡（４１）とが配置され、前記反射鏡は光学対物レンズ（４３）と試料に向かって前記電子光軸から傾斜している。試料から発生する蛍光光、反射光等の光は、反射鏡で反射されて光学対物レンズに入射し、光学検出部（４６）で検出される。試料を透過した電子線は反射鏡の設置中心孔（４２）を通過して、検出部（３０）で検出される。　これにより、透過電子顕微鏡と光学顕微鏡で同一試料を同時に観察可能な複合顕微鏡装置を提供することが可能になった。
摘要翻译：公开了一种具有透射型电子显微镜（2）和光学显微镜（4）的复合显微镜装置（1）。在电子束的电子光轴（C）上设置有样品（10）和反射镜（41），反射镜从电子光轴朝向光学物镜（43）倾斜，样品。由样品产生的诸如荧光，反射光等的光被反射镜反射而被输入到光学物镜上，由光学检测部检测。已经通过样品的电子束通过反射镜的安装中心孔（42），由检测部（30）检测。因此，提供了通过透射电子显微镜和光学显微镜可以同时观察相同样品的复合显微镜装置。

38. 发明申请

WO2011041223A1 METHOD FOR ION SOURCE COMPONENT CLEANING 审中-公开
标题翻译：用于离子源组分清洗的方法
公开(公告)号：WO2011041223A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/US2010/050150
申请日：2010-09-24
申请人： PRAXAIR TECHNOLOGY, INC. , SINHA, Ashwini , CAMPEAU, Serge, Marius , BROWN, Lloyd, Anthony
发明人： SINHA, Ashwini , CAMPEAU, Serge, Marius , BROWN, Lloyd, Anthony
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/16 , H01J37/08 , C23C14/56
CPC分类号： H01J37/3171 , C23C14/48 , C23C14/564 , H01J37/08 , H01J37/32412 , H01J37/32862 , H01J2237/022
摘要： This invention relates in part to a method for cleaning an ion source component of an ion implanter used in semiconductor and microelectronic manufacturing. The ion source component includes an ionization chamber and one or more components contained within the ionization chamber. The interior of the ionization chamber and/or the one or more components contained within the ionization chamber have at least some deposits thereon of elements contained within a dopant gas, e.g., carborane (C 2 B 10 H 12 ). The method involves introducing a cleaning gas into the ionization chamber, and reacting the cleaning gas with the deposits under conditions sufficient to remove at least a portion of the deposits from the interior of the ionization chamber and/or from the one or more components contained within the ionization chamber. The cleaning gas is a mixture of F 2 , one or more inert gases selected from noble gases and/or nitrogen, and optionally O 2 , or a mixture of an oxygen/fluorine-containing gas and one or more inert gases selected from noble gases and/or nitrogen. The deposits adversely impact the normal operation of the ion implanter causing frequent down time and reducing tool utilization.
摘要翻译：本发明部分地涉及用于清洁半导体和微电子制造中使用的离子注入机的离子源组分的方法。离子源组件包括电离室和包含在电离室内的一个或多个组分。离子化室的内部和/或包含在电离室内的一个或多个组分的内部至少有一些沉积在诸如碳硼烷（C2B10H12）的掺杂剂气体中的元素。该方法包括将清洁气体引入电离室，并且在足以从电离室的内部和/或从电离室内部包含的一个或多个组分中去除至少一部分沉积物的条件下使清洁气体与沉积物反应电离室。清洁气体是F2，选自惰性气体和/或氮气中的一种或多种惰性气体，以及任选的O 2，或含氧/含氟气体和一种或多种选自惰性气体和/或惰性气体的惰性气体的混合物的混合物，或氮气。沉积物对离子注入机的正常运行产生不利影响，导致频繁的停机时间并降低刀具利用率。

39. 发明申请

WO2010094719A1 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
标题翻译：充气颗粒沉积装置和在真空室中产生真空的方法
公开(公告)号：WO2010094719A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：PCT/EP2010/052004
申请日：2010-02-17
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , DE BOER, Guido , BALTUSSEN, Sander , JAGER, Remco , PEIJSTER, Jerry, Johannes, Martinus , TEEPEN, Tijs, Frans , VAN NIEUWSTADT, Joris, Anne, Henri , WEEDA, Willem, Maurits , VAN VEEN, Alexander, Hendrik, Vincent
发明人： DE BOER, Guido , BALTUSSEN, Sander , JAGER, Remco , PEIJSTER, Jerry, Johannes, Martinus , TEEPEN, Tijs, Frans , VAN NIEUWSTADT, Joris, Anne, Henri , WEEDA, Willem, Maurits , VAN VEEN, Alexander, Hendrik, Vincent
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/16 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/165 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01J37/3174 , H01J2237/16
摘要： The invention relates to a charged particle lithography apparatus (100) with a charged particle source (101) for creating one or more charged particle beams (123), a charged particle projector (108, 109, 110) for projecting the beams onto a wafer; and a moveable wafer stage (132) for carrying the wafer (130). The charged particle source, charged particle projector, and moveable wafer stage are disposed in a common vacuum chamber (140) forming a vacuum environment. The vacuum chamber further has an opening for loading wafers into the chamber and a door.
摘要翻译：本发明涉及一种具有用于产生一个或多个带电粒子束（123）的带电粒子源（101）的带电粒子光刻设备（100），用于将光束投射到晶片上的带电粒子投影仪（108,109,110） ; 以及用于承载晶片（130）的可移动晶片台（132）。带电粒子源，带电粒子投影仪和可移动晶片台设置在形成真空环境的公共真空室（140）中。真空室还具有用于将晶片装载到室中的开口和门。

40. 发明申请

WO2008032725A1 ビーム加工装置およびビーム観察装置审中-公开
标题翻译：光束加工设备和光束观察装置
公开(公告)号：WO2008032725A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/JP2007/067704
申请日：2007-09-12
申请人：株式会社平出精密 , 学校法人東洋大学 , 長野県 , 増澤恒明 , 田中文敏 , 山崎智洋 , 守屋俊浩 , 吉田善一 , 池田博通 , 小口京吾 , 山岸光 , 若林優治 , 小林耕治
发明人：増澤恒明 , 田中文敏 , 山崎智洋 , 守屋俊浩 , 吉田善一 , 池田博通 , 小口京吾 , 山岸光 , 若林優治 , 小林耕治
IPC分类号： H01J37/30 , B23K15/00 , B23K26/00 , B23K26/08 , B23K26/42 , G21K5/04 , H01J37/16 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3056 , B23K26/04 , B23K26/12 , B23K26/127 , H01J37/18 , H01J37/301 , H01J2237/188 , H01J2237/31749
摘要：　ビーム加工装置（１）は、ワーク（２）の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源（１３）と、ビーム出射源（１３）から出射されたビームが通過する第１経路（３４）を有する真空チャンバー（３）と、第１経路（３４）に連通し第１経路（３４）を通過したビームが通過する第２経路（４０）およびワーク（２）に向けてビームを出射する出射孔（７８ａ）を有する局所真空チャンバー（２７）と、ビームの照射位置を検出するために、出射孔（７８ａ）等に配置され被照射部材（５３）を有する検出手段とを備えている。このビーム加工装置（１）によって、真空チャンバー（３）および局所真空チャンバー（２７）の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワーク（２）の加工を行うことができる。
摘要翻译：一种光束加工设备（1）设置有用于输出用于加工工件（2）的光束的光束输出源（13）; 具有从所述光束输出源（13）输出的光束通过的第一通道（34）的真空室（3）具有连接到第一通道（34）的第二通道（40）用于穿过通过第一通道（34）的梁的局部真空室（27）和用于将梁朝向工作（2）; 以及检测装置，其布置在具有待照射的构件（53）等的输出端口（78a）等上，用于检测光束照射位置。光束加工装置（1）对至少部分地布置在真空室（3）和局部真空室（27）的外部大气压下的工件（2）进行加工。

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