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    • 36. 发明申请
    • PHOTOVOLTAIC DEVICE COMPRISING A METAL HALIDE PEROVSKITE AND A PASSIVATING AGENT
    • 包含金属卤化物和钝化剂的光伏器件
    • WO2015092397A1
    • 2015-06-25
    • PCT/GB2014/053735
    • 2014-12-17
    • ISIS INNOVATION LIMITED
    • SNAITH, Henry J.ABATE, AntonioNOEL, Nakita K
    • H01L51/42H01G9/20H01L51/46
    • H01L31/02167H01L31/032H01L31/077H01L31/1868H01L51/0032H01L51/4213H01L51/4226H01L51/448H01L2251/306Y02E10/549Y02P70/521
    • The present invention relates to devices comprising metal halide perovskites and organic passivating agents. In particular, the invention relates to photovoltaic and optoelectronic devices comprising passivated metal halide perovskites. The device according to the invention comprises: (a)a metal halide perovskite; and (b) a passivating agent which is an organic compound; wherein molecules of the passivating agent are chemically bonded to anions or cations in the metal halide perovskite. The invention also provides aprocess for producing a photovoltaic device, which photovoltaic device comprises: (a) a metal halide perovskite; and (b) a passivating agent which is an organic compound; wherein molecules of the passivating agent are chemically bonded to anions or cations in the metal halide perovskite, wherein theprocess comprises treating a metal halide perovskitewith a passivating agent, which passivating agent is an organic compound and is suitable for chemically bonding to anions or cations in the metal halide perovskite.
    • 本发明涉及包含金属卤化物钙钛矿和有机钝化剂的装置。 特别地,本发明涉及包含钝化金属卤化物钙钛矿的光伏和光电器件。 根据本发明的装置包括:(a)金属卤化物钙钛矿; 和(b)作为有机化合物的钝化剂; 其中钝化剂的分子化学键合到金属卤化物钙钛矿中的阴离子或阳离子。 本发明还提供了一种用于生产光伏器件的方法,该光伏器件包括:(a)金属卤化物钙钛矿; 和(b)作为有机化合物的钝化剂; 其中钝化剂的分子化学键合在金属卤化物钙钛矿中的阴离子或阳离子上,其中该方法包括处理钝化剂为钝化剂的金属卤化物,该钝化剂为有机化合物,并且适用于化学键合阴离子或阳离子 金属卤化物钙钛矿。
    • 37. 发明申请
    • 光起電力素子およびその製造方法
    • 光伏元件及其制造方法
    • WO2014034677A1
    • 2014-03-06
    • PCT/JP2013/072899
    • 2013-08-27
    • 三菱電機株式会社
    • 綿引 達郎檜座 秀一佐藤 剛彦
    • H01L31/0747
    • H01L31/022475H01L31/03762H01L31/0747H01L31/077H01L31/1804H01L31/1884Y02E10/50
    •  n型シリコン基板1の第1主面1A、側面1Cおよび第2主面1Bの周縁部には、第1の非晶質シリコンi層2および非晶質シリコンp層4を備えている。一方、第1主面1Aおよび側面1Cに第1のITO層6を有し、第2主面1B上に第2の非晶質シリコンi層3および非晶質シリコンn層5を備え、その上に周縁部を残し、n型シリコン基板1よりも小面積の第2のITO層7を有している。そして、第2主面1B上の周縁部には、第1の非晶質シリコンi層2、非晶質シリコンp層4、第2の非晶質シリコンi層3、非晶質シリコンn層5をこの順に積層された構造を有する。従って追加のプロセスなしで第1および第2のITO層6,7の分離が可能となり、リーク電流を防ぐことができる。そして、端部においてもそれぞれの膜の順序を確保し、電荷の流れを正常に維持することで、集電効果を発揮し電池機能を発揮せしめ得るようにし有効面積を最大にする。
    • 在第一主表面(1A),侧表面(1C)和第二主表面(1B)的周缘部分上设置有第一非晶硅i层(2)和非晶硅p层(4) n型硅衬底(1)。 第一主表面(1A)和侧表面(1C)具有第一ITO层(6),第二非晶硅i层(3)和非晶硅n层(5),设置在第二主表面 ),除了周边部分之外,具有比n型硅衬底(1)的表面积小的第二ITO层(7)。 第二主表面(1B)的周边部分具有以下顺序层叠第一非晶硅i层(2),非晶硅p层(4),第二非晶硅i层 (3)和非晶硅n层(5)。 以这种方式,可以防止泄漏电流,同时允许分离第一和第二ITO层(6,7)而没有任何额外的工艺。 扩大有效表面积,以便通过在端部处确保膜的顺序来实现集电效应和电池功能,并保持正确的负载流。