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    • 29. 发明申请
    • 導電性フィルムの製造方法、導電性フィルム、タッチパネルセンサー、アンテナ、指紋認証部、および、タッチパネル
    • 生产导电膜,导电膜,触摸屏传感器,天线,指纹认证部分和触摸屏的方法
    • WO2018047608A1
    • 2018-03-15
    • PCT/JP2017/029623
    • 2017-08-18
    • 富士フイルム株式会社
    • 一木 孝彦吉田 昌史
    • G06F3/041G06F3/044H05K3/18
    • G06F3/041G06F3/044H05K3/18
    • 本発明の課題は、線幅2.0μm以下の金属細線を形成できる導電性フィルムの製造方法を提供することである。また、本発明の課題は、導電性フィルム、タッチパネルセンサー、アンテナ、指紋認証部、およびタッチパネルを提供することにもある。本発明の導電性フィルムの製造方法は、基板上に第1金属膜を形成する工程と、第1金属膜上にレジスト膜形成用組成物層を形成する工程と、線幅1.5μm以下の開口が形成されたマスクと第1金属膜との距離が1.5μm以下となるように、レジスト膜形成用組成物層の上にマスクを配置する工程と、レジスト膜形成用組成物層の露光処理を平行光露光機で工程と、露光領域を除去して開口が形成されたレジスト膜を得る工程と、レジスト膜の開口内に第2金属膜を形成する工程と、レジスト膜を除去する工程と、第1金属膜の一部を除去して導電部を形成する工程と、を含む。
    • 本发明的一个目的是提供一种制造能够形成线宽为2.0μm或更小的金属细线的导电膜的方法。 本发明的另一个目的是提供一种导电膜,触摸屏传感器,天线,指纹认证部分和触摸板。 用于制造本发明的导电性膜的方法包括:形成在基板上的第一金属膜的工序,形成抗蚀剂上的第一金属膜形成用组合物层,线宽比为1.5μm以下 作为具有与所述第一金属膜形成的开口掩模的距离为1.5μm的或更小,将掩模放置在该抗蚀剂膜形成用组合物层,曝光抗蚀剂膜形成组合物层 步骤平行光曝光机加工,获得其中一个开口由去除暴露的区域,在抗蚀剂膜的开口部,除去所述抗蚀剂膜的步骤中形成的第二金属膜而形成的抗蚀剂膜 以及通过去除第一金属膜的一部分来形成导电部分的步骤。