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91. 发明申请

WO2013161837A1 荷電粒子顕微鏡审中-公开
标题翻译：充电颗粒显微镜
公开(公告)号：WO2013161837A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/JP2013/061963
申请日：2013-04-24
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：松原　信一 , 川浪　義実 , 田中　弘之 , 志知　広康 , 小瀬　洋一
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/08 , H01J37/28 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/0807
摘要：　ガス電界電離イオン源は、イオン化ガスに含まれる不純物により電界電離イオン源が不安定になる。電界電離イオン源のエミッタティップに供給されるイオン化ガスを冷却することにより高純度化し、信頼性が高く安定なイオンビームの供給を可能とする。　本発明は、電界電離イオン源の一部と熱的に連結する第１の熱交換器（４６）と、前記第１の熱交換器（４６）に接続された冷媒が循環する第２のガスライン（４４）と、イオン化ガスを供給する第１のガスライン（４３）と、コールドヘッド（４１２、４１３）が冷却可能である冷凍機（４１）と、第１及び第２のガスラインをともに冷却する、前記コールドヘッドに接続された第２の熱交換器（４７）を持つように構成する。
摘要翻译：使用气体离子源，包含在电离气体中的杂质导致不稳定的场电离离子源。冷却供给场电离离子源的发射极尖端的电离气体提高了纯度，并且可以提供高可靠性，稳定的离子束。本发明被配置为具有：与场离子化离子源的一部分热耦合的第一热交换器（46）; 第二气体管线（44），其连接到第一热交换器（46）并且通过冷却剂介质循环; 提供电离气体的第一气体管线（43）能够冷却冷头（412,413）的冰箱（41）; 和与冷头连接并冷却第一和第二气体管线的第二热交换器（47）。

92. 发明申请

WO2012038369A1 INSTALLATION ET TRAITMENT D'UN OBJET, PLUS PARTICULIEREMENT DE LA SURFACE D'UN OBJET EN POLYMERE 审中-公开
标题翻译：处理对象的单元，特别是聚合物对象的表面
公开(公告)号：WO2012038369A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/066193
申请日：2011-09-19
申请人： VALEO VISION , MORET, Frédéric , BRASSIER, Marc , CHENET, Alexis
发明人： MORET, Frédéric , BRASSIER, Marc , CHENET, Alexis
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/22 , C23C16/44 , H01L21/00 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC分类号： C23C16/486 , C23C14/22 , C23C14/56 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/44 , H01J37/18 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32458 , H01J37/32889 , H01J37/32899
摘要： Cette installation de traitement d'un objet, par exemple un objet en polymère pour feu ou projecteur de véhicule automobile, comprend une chambre à vide (12), dans laquelle l'objet (22) est destiné à être placé, des moyens (24) de mise sous vide de la chambre (12), et des moyens (44) de bombardement ionique, destinés à traiter l'objet (22), comprenant un générateur (46) d'ions et au moins un applicateur (48) d'ions destiné à émettre un faisceau d'ions. Cette installation comprend de plus un premier sas (36), des moyens (40) de mise en communication sélective de la chambre à vide (12) et du premier sas (36), et des moyens (24) de mise sous vide de ce premier sas (36). Les moyens de bombardement ionique (44) sont agencés à l'extérieur de la chambre à vide (12). L'applicateur d'ions (48) est logé dans le premier sas (36).
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理物体的单元，例如用于机动车辆前灯的聚合物物体。该单元包括：用于容纳物体（22）的真空室（12）; 用于将所述腔室（12）置于真空下的装置（24）和用于处理物体（22）的离子轰击装置（44）。所述装置（44）包括离子发生器（46）和用于发射离子束的至少一个离子施加器（48）。该单元还包括第一气闸（36），用于在真空室（12）和第一气闸（36）之间建立选择性连通的装置（40）以及用于将气闸（36）放置在真空下的装置（24）。离子轰击装置（44）布置在真空室（12）的外部。离子施加器（48）容纳在第一气闸（36）内。

93. 发明申请

WO2011158458A1 荷電粒子線装置および防音カバー审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置和防爆罩
公开(公告)号：WO2011158458A1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/JP2011/003137
申请日：2011-06-03
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 武藤大輔 , 渡部眞徳 , 辻浩志 , 松島勝
发明人：武藤　大輔 , 渡部　眞徳 , 辻　浩志 , 松島　勝
IPC分类号： H01J37/09 , G10K11/16 , G10K11/162 , H01J37/16
CPC分类号： G10K11/16 , G21K5/00 , H01J37/28 , H01J2237/0216
摘要：本発明は、クリーンルームで使用される荷電粒子線装置等の機器（２０；７０）を取り囲む防音カバーであって、前記機器が配置される遮音したい空間を囲む側壁（１１－１４）と天井面（１５）とを有し、前記天井面の下部には、前記遮音したい空間側に向けた複数の孔（４１ａ；４６ａ）と、前記複数の孔につながった空洞部（４１ｄ；４６ｄ；４６ｅ）を有する吸音構造部（４０）を設け、前記吸音構造部を前記側壁と前記天井面で囲まれた空間で発生する定在波の周波数に特化した構造とすることを特徴とする。また、吸音構造部には、発塵性のない部材を用いる。これにより、効果的な防音が可能であって、かつ発塵性を低減した防音カバーを提供することが可能になった。
摘要翻译：公开了一种隔离罩，其包围在洁净室中使用的包括带电粒子束装置的装置（20; 70）。隔音罩包括侧壁（11-14）和包围设备所在的空间的天花板面（15），并且需要隔音; 吸声结构部分（40）还包括面向需要隔音的空间的多个孔（41a; 46a）和连接到所述多个孔的中空部分（41d; 46d; 46c）处于天花板表面的底部; 并且吸声结构部具有专门用于在由侧壁和天花板面包围的空间中产生的驻波的频率的结构。吸音结构部件采用不产生灰尘的部件。因此，可以提供能够有效隔音并使灰尘的产生最小化的隔音罩。

94. 发明申请

WO2011043391A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒辐射装置
公开(公告)号：WO2011043391A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/JP2010/067569
申请日：2010-10-06
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 辻浩志 , 立花一郎
发明人：辻浩志 , 立花一郎
IPC分类号： H01J37/16 , F16F15/04 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/09 , F16F1/50 , F16F9/306 , F16F15/08 , H01J37/28 , H01J2237/0216
摘要：　簡易な構成で荷電粒子光学鏡筒の傾きと上下方向の振動をともに抑えることのできる荷電粒子線装置を提供する。　本発明に係る荷電粒子線装置は、支持板（１７Ａ，１７Ｂ）で粘弾性体シート（１６Ａ，１６Ｂ）を挟んでなる制振部材（１９）を備え、粘弾性体シートのシート面を含む平面が荷電粒子光学鏡筒の中心軸に対して直交しないようになっている。
摘要翻译：提供一种带电粒子辐射装置，其可以使用简单的结构来抑制带电粒子光学透镜管的倾斜和垂直振动。带电粒子辐射装置设置有振动抑制构件（19），其中粘弹性片（16A，16B）被支撑板（17A，17B）夹在中间，使得包括每个粘弹性片的片表面的平面不垂直于带电粒子光学透镜管的中心轴线。

95. 发明申请

WO2010094804A1 LITHOGRAPHY MACHINE AND SUBSTRATE HANDLING ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHY MACHINE和基板处理装置
公开(公告)号：WO2010094804A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：PCT/EP2010/052221
申请日：2010-02-22
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , DE BOER, Guido , BALTUSSEN, Sander , DE JONG, Hendrik Jan
发明人： DE BOER, Guido , BALTUSSEN, Sander , DE JONG, Hendrik Jan
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01L21/677 , H01L21/00 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/16 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/18 , H01J37/3177 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67225
摘要： An arrangement comprising a plurality of charged particle lithography apparatuses, each charged particle lithography apparatus having a vacuum chamber (400). The arrangement further comprises a common robot (305) for conveying wafers to the plurality of lithography apparatuses, and a wafer load unit (303) for each charged particle lithography apparatus arranged at a front side of each respective vacuum chamber (400). The plurality of lithography apparatuses are arranged in a row with the front side of the lithography apparatuses facing an aisle (310) accommodating passage of the common robot (305) for conveying wafers to each apparatus, and the rear side of each lithography apparatus faces an access corridor (306), and the back wall of each vacuum chamber is provided with an access door for access to the respective lithography apparatus.
摘要翻译：一种包括多个带电粒子光刻设备的装置，每个带电粒子光刻设备具有真空室（400）。该装置还包括用于将晶片输送到多个光刻设备的公共机器人（305），以及布置在每个相应的真空室（400）的前侧的每个带电粒子光刻设备的晶片加载单元（303）。多个光刻设备被布置成一排，其中光刻设备的前侧面向通用机器人（305）的通道（310），用于将晶片传送到每个设备，并且每个光刻设备的后侧面向通路走廊（306）和每个真空室的后壁设置有用于接近相应光刻设备的通道门。

96. 发明申请

WO2010082466A1 イオンビーム装置审中-公开
标题翻译：离子束装置
公开(公告)号：WO2010082466A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2010/000086
申请日：2010-01-08
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 志知広康 , 松原信一 , 佐保典英 , 荒井紀明 , 石谷亨
发明人：志知広康 , 松原信一 , 佐保典英 , 荒井紀明 , 石谷亨
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/26 , H01J37/15 , H01J2237/0216 , H01J2237/0807 , H01J2237/28
摘要：　エミッタティップの振動を非接触で防止できるガス電界電離イオン源を備えたイオンビーム装置を提供する。　ガス電界電離イオン源は、イオンを生成するエミッタティップ（２１）と、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウント（６４）と、前記エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極（２４）を有し且つ前記エミッタティップ（２１）を囲むように構成されたイオン化室と、前記エミッタティップの近傍にガスを供給するガス供給管（２５）と、を有し、エミッタベースマウントと真空容器との間に磁気的相互作用が働く機構を有する。
摘要翻译：提供了一种具有气体电离电离离子源的离子束装置，其能够防止发射极尖端以非接触的方式振动。气体电场离子源由用于产生离子的发射极尖端（21）组成; 发射极底座（64），用于支撑发射器尖端; 电离室具有与发射极尖端相对的引出电极（24），其构造为围绕发射极尖端（21）; 以及用于将气体供给到发射极尖端附近的气体供给管（25）。发射极基座和真空容器彼此磁性相互作用。

97. 发明申请

WO2008107705A1 APPARATUS 审中-公开
标题翻译：仪器
公开(公告)号：WO2008107705A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/GB2008/050118
申请日：2008-02-21
申请人： NORDIKO TECHNICAL SERVICES LIMITED , HOLMES, Andrew, James, Timothy , DAVIS, Mervyn, Howard
发明人： HOLMES, Andrew, James, Timothy , DAVIS, Mervyn, Howard
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J27/02 , C23C14/48
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/024 , H01J2237/061 , H01J2237/31 , H01J2237/317
摘要： Apparatus for the production of a charged particle beam, comprising: an ion source plasma chamber (104), having a door (106), and an accelerator (102) mounted on the face of the door remote from the ion source plasma chamber.
摘要翻译：一种用于生产带电粒子束的装置，包括：具有门（106）的离子源等离子体室（104）和安装在远离离子源等离子体室的门的表面上的加速器（102）。

98. 发明申请

WO2004095500A8 VACUUM CHAMBER WITH RECESSED VIEWING TUBE AND IMAGING DEVICE SITUATED THEREIN 审中-公开
标题翻译：具有凹入式观察管的真空室和在其中形成的成像装置
公开(公告)号：WO2004095500A8
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/US2004011553
申请日：2004-04-15
申请人： IMAGO SCIENT INSTR , STRAIT DAVID ROBERT
发明人： STRAIT DAVID ROBERT
IPC分类号： B01J3/00 , F16M11/06 , G01Q30/16 , G02B7/00 , H01J37/16 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/22 , H01J37/16
摘要： A vacuum chamber (100) includes chamber walls (104) separating a chamber interior and a chamber exterior, with one or more access ports (102) defined in the chamber walls. A viewing tube (200) extends from the chamber exterior into the chamber interior and terminates in a window (206). A positioner (300) for imaging devices (304) is then provided within the viewing tube, and is thus situated at least partially within the chamber interior with its imaging device(s) oriented towards the window of the viewing tube to allow imaging of areas within the vacuum chamber. The positioner preferably allows translation and/or rotation of an imaging device within the viewing tube within two perpendicular planes oriented along the axis of the viewing tube, thereby allowing the imaging device to view an area of interest from more angles oriented about the area of interest than would otherwise be possible if the imaging device was situated outside the vacuum chamber.
摘要翻译：真空腔室（100）包括分隔腔室内部和腔室外部的腔室壁（104），腔室壁中限定有一个或多个进入端口（102）。观察管（200）从腔室外部延伸到腔室内部并终止于窗口（206）中。然后在观察管内提供用于成像装置（304）的定位器（300），并且因此至少部分地位于腔室内部，其成像装置（一个或多个）朝向观察管的窗口取向以允许成像区域在真空室内。定位器优选允许成像装置在观察管内沿着观察管的轴线取向的两个垂直平面内平移和/或旋转，由此允许成像装置从更多角度观察关于感兴趣区域的更多角度如果成像装置位于真空室外部，则会比其他情况下可能的情况更为可能。

99. 发明申请

WO2004095500A3 VACUUM CHAMBER WITH RECESSED VIEWING TUBE AND IMAGING DEVICE SITUATED THEREIN 审中-公开
标题翻译：具有观察管的真空室和位于其中的成像装置
公开(公告)号：WO2004095500A3
公开(公告)日：2005-07-14
申请号：PCT/US2004011553
申请日：2004-04-15
申请人： IMAGO SCIENT INSTR , STRAIT DAVID ROBERT
发明人： STRAIT DAVID ROBERT
IPC分类号： B01J3/00 , F16M11/06 , G01Q30/16 , G02B7/00 , H01J37/16 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/22 , H01J37/16
摘要： A vacuum chamber (100) includes chamber walls (104) separating a chamber interior and a chamber exterior, with one or more access ports (102) defined in the chamber walls. A viewing tube (200) extends from the chamber exterior into the chamber interior and terminates in a window (206). A positioner (300) for imaging devices (304) is then provided within the viewing tube, and is thus situated at least partially within the chamber interior with its imaging device(s) oriented towards the window of the viewing tube to allow imaging of areas within the vacuum chamber. The positioner preferably allows translation and/or rotation of an imaging device within the viewing tube within two perpendicular planes oriented along the axis of the viewing tube, thereby allowing the imaging device to view an area of interest from more angles oriented about the area of interest than would otherwise be possible if the imaging device was situated outside the vacuum chamber.
摘要翻译：真空室（100）包括将腔室内部和腔室外部分隔开的室壁（104），其中腔室壁中限定有一个或多个进气口（102）。观察管（200）从室外延伸到室内部并终止在窗（206）中。然后，用于成像装置（304）的定位器（300）被设置在观察管内，并且因此至少部分地位于腔室内部，其成像装置朝向观察管的窗口定向以允许成像区域在真空室内。定位器优选地允许在观察管内的成像装置在沿着观察管的轴线定向的两个垂直平面内的平移和/或旋转，从而允许成像装置从关于感兴趣区域的更多角度观察感兴趣的区域如果成像装置位于真空室外，否则将是可能的。

100. 发明申请

WO02058102A3 ADJUSTABLE CONDUCTANCE LIMITING APERTURE FOR ION IMPLANTERS 审中-公开
标题翻译：可调节导线限制离子植入物的孔
公开(公告)号：WO02058102A3
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：PCT/US0201164
申请日：2002-01-16
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
发明人： RENAU ANTHONY , HERMANSON ERIC DAVID , SCHEUER JAY THOMAS
IPC分类号： G01Q30/08 , H01J37/16 , H01J37/317 , H01L21/265 , H01J37/18 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/3171 , H01J2237/045 , H01J2237/188
摘要： A charged particle beam apparatus includes a charged particle beam source for directing a charged particle beam along a beam path in a downstream direction to a traget, and a processing station that defines a target chamber. The processing station includes a chamber divider which divides the target chamber into upstream and downstream regions during charged particle beam processing of the target, the target being located in the downstream region. The divider has an aperture therethrough sized to permit passage of the ion beam to the target without substantial blockage and to limit backflow of gas into the upstream region of the chamber. The divider minimizes the beam volume which is exposed to extraneous species generated at the target and thereby reduces the probability of beam-altering collisions.
摘要翻译：带电粒子束装置包括用于将带电粒子束沿着沿下游方向的光束路径引导到三极管的带电粒子束源，以及限定目标腔室的处理站。处理站包括一个室分隔器，其在靶的带电粒子束处理期间将目标室分成上游和下游区域，目标位于下游区域。分隔器具有穿过其中的孔，其尺寸允许离子束通过靶，而不会实质阻塞，并限制气体回流到腔室的上游区域。分隔器最小化暴露于在目标处产生的外来物种的光束体积，从而降低光束变化碰撞的可能性。

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