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    • 2. 发明申请
    • イオンビーム装置
    • 离子束装置
    • WO2016084162A1
    • 2016-06-02
    • PCT/JP2014/081244
    • 2014-11-26
    • 株式会社日立ハイテクノロジーズ
    • 武藤 博幸川浪 義実
    • H01J27/26H01J37/08
    • H01J37/28F25B2500/13F25D19/006H01J27/022H01J27/26H01J37/08H01J37/1474H01J37/285H01J2237/002H01J2237/0216H01J2237/0807
    •  イオン源のエミッタティップを冷却する冷却機構の冷凍機によって生じる振動が、エミッタティップに伝達されてしまうことを極力防ぐとともに、冷却機構の冷却性能の大幅向上をはかる。エミッタティップ(45)が設けられ、イオン化ガス若しくはガス分子が供給されるイオン源室(27)を画成するイオン源筐体(22)と、イオン源室(27)にエミッタティップ(45)と熱的に接続されて設けられ、冷凍機(52)の冷却ステージ(57)が物理的に直接接触することなしに収容されるガスポット(51)と、ガスポット(51)に収容される冷却ステージ(57)の周面に設けられ、冷却ステージ(57)の周面とガスポット(51)の内周面との間隔を一定以上に保つスペーサ(59)とを、イオンビーム装置(10)に設けた。
    • 在本发明中,由冷冻机构产生的用于冷却离子源发射极尖端的冷却机构的振动尽可能地被防止传递到发射极尖端,同时冷却机构的冷却能力得到广泛的提高。 离子束装置(10)配备有:设置有发射极尖端(45)并限定供应有电离气体或气体分子的离子源室(27)的离子源壳体(22) 设置在所述离子源室(27)中以与所述发射极端部(45)热连接并容纳的气罐(51),以便不与冷冻器(52)的冷却台(57)直接物理接触 ); 以及设置在由所述燃气罐(51)容纳的所述冷却台(57)的周面的间隔件(59),并且在所述冷却台(57)的周面与所述冷却台(57)的内周面之间保持给定的间隔以上 气罐(51)。
    • 5. 发明申请
    • イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置
    • 离子源和离子束设备使用它
    • WO2013054799A1
    • 2013-04-18
    • PCT/JP2012/076161
    • 2012-10-10
    • 株式会社日立ハイテクノロジーズ
    • 志知 広康松原 信一小瀬 洋一川浪 義実荒井 紀明
    • H01J27/26H01J37/08H01J37/28
    • H01J27/022H01J37/08H01J37/26H01J37/28H01J2237/0216H01J2237/0807
    • エミッタティップ先端の機械的振動振幅が小さく、超高分解能の試料観察像が得られ、かつ試料観察像にゆれなどをなくす荷電粒子線顕微鏡を提供する。イオンを生成するエミッタティップと、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウントと、該エミッタティップを加熱する機構と、エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極と、エミッタティップの近傍にガスを供給する機構と、を有するガス電界電離イオン源において、エミッタティップ加熱機構が、少なくとも2個の端子間を接続するフィラメントに通電して前記エミッタティップを加熱する機構であり、前記端子間がV字状のフィラメントで接続され、V字のなす角度が鈍角であり、前記フィラメントの略中央に前記エミッタティップが接続されたことを特徴とするガス電界電離イオン源を搭載する荷電粒子顕微鏡とする。
    • 本发明提供一种具有显示机械振动振幅小的发射极尖端的带电粒子束显微镜,能够产生超高分辨率的样本观察图像,并且消除了样本观察图像中的模糊。 更具体地,提供一种带电粒子束显微镜,其装备有具有用于产生离子的发射极尖端的气体电离源,用于支撑发射极尖端的发射极基座,用于加热发射极尖端的机构, 发射极尖端和用于向发射极尖端附近供应气体的机构。 气体电离源的特征在于:发射极尖端加热机构通过连接至少两个端子的灯丝加热发射极尖端; 端子通过V形丝连接; V形的角度是钝的; 并且发射极尖端大致连接到灯丝的中心。
    • 6. 发明申请
    • LIQUID METAL ION SOURCE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID METAL ION SOURCE, AND ION BEAM EMISSION INSTRUMENT
    • 液体金属离子源,制造液体金属离子源的方法和离子束发射仪
    • WO2011122687A1
    • 2011-10-06
    • PCT/JP2011/058375
    • 2011-03-25
    • ULVAC-PHI, INCORPORATEDWIECK, Andreas DirkSAKAI, DaisukeKAWASAKI, Toyosei
    • WIECK, Andreas DirkSAKAI, DaisukeKAWASAKI, Toyosei
    • H01J49/10H01J27/26H01J37/08
    • H01J49/10H01J27/26H01J37/08H01J2237/061H01J2237/065H01J2237/0805
    • A liquid metal ion source 10 consists of a needle electrode 11 which is made from two metal wires 11a and 11b arranged in parallel with their outer surfaces being in contact with each other. The needle electrode 11 has a guide passage 11c and an emission end T, both of which are also formed by two metal wires 11a and 11b. The guide passage 11c continuously extends to the emission end T. Towards the bottom of the guide passage 11c, the width of the guide passage 11c decreases to zero. When liquid metal is supplied to the guide passage 11c, capillary action is created in the region close to the bottom of the guide passage 11c, and "volume flow" instead of the usual "surface flow" of the liquid metal occurs. The principle and phenomenon of "volume flow" corresponds with that of a fountain pen. The guide passage 11c continuously extends to the emission end T. Thus, the flow of the liquid metal towards the emission end T is stably continued, and the emission current of the ion beam is stabilized even in case of liquid metal with low wettability. Furthermore, the emission end T is formed to be the hypothetical single emission end. Thus, the controllability of the point and direction of the ion beam is maintained.
    • 液体金属离子源10由与其外表面相互平行布置的两个金属线11a和11b制成的针状电极11组成。 针状电极11具有引导通道11c和发射端T,它们都由两条金属线11a和11b形成。 引导通道11c连续延伸到排放端T.向导向通道11c的底部,引导通道11c的宽度减小到零。 当液体金属被供给到引导通道11c时,在靠近引导通道11c的底部的区域中产生毛细作用,而是发生液体金属的“体积流动”而不是通常的“表面流动”。 “流量”的原理和现象对应于钢笔的原理和现象。 引导通道11c连续延伸到发射端T.因此,即使在具有低润湿性的液态金属的情况下,液态金属朝向发射端T的流动稳定地继续,并且离子束的发射电流也稳定。 此外,发射端T形成为假设的单发射端。 因此,保持离子束的点和方向的可控性。
    • 8. 发明申请
    • ガス電界電離イオン源装置およびこれを搭載した走査荷電粒子顕微鏡
    • 气体离子源装置和扫描带有粒子的微粒子
    • WO2011001797A1
    • 2011-01-06
    • PCT/JP2010/059718
    • 2010-06-08
    • 株式会社日立ハイテクノロジーズ荒井 紀明石谷 亨
    • 荒井 紀明石谷 亨
    • H01J27/26H01J37/08H01J37/28H01J37/317
    • H01J27/26H01J37/023H01J37/08H01J37/28H01J2237/006H01J2237/061H01J2237/0807
    •  小型で高性能であり、エミッタ先端位置をほぼ一定に維持した状態で傾斜調整が可能なガス電界電離イオン源装置を実現する。エミッタ(1)はエミッタ室の室壁(4)に囲まれ、エミッタ(1)の先端からイオンが放出される。エミッタ室にはイオン材料であるガスが高電圧の印加される引き出し電極(3)及び配管(15)を通じて導入される。エミッタ(1)は冷凍手段(10)から金属網(11)及びエミッタ基部(12)を介して冷却される。エミッタ基部(12)は傾斜手段(13)の可動部(13a)に固定され、可動部(13a)は非可動部(13b)とすべり面(14)を介して接続される。すべり面(14)はエミッタ(1)の先端を通過し光軸に直交する軸を中心軸とした円筒面の一部となっている。この形状面とし、すべり面(14)のすべり量を制御すればエミッタ(1)の先端を移動させる事無くエミッタ(1)の傾斜制御ができる。
    • 本发明提供一种尺寸小,性能优异的气体电离离子源装置,能够进行倾斜调整,发射极的前端位置保持大致恒定。 发射极(1)由发射极室的室壁(4)包围,离子从发射体(1)的顶端发射。 通过施加高电压的引出电极(3)和管(15)向发射极室输送作为离子材料的气体。 发射器(1)由冷冻装置(10)通过金属网(11)和发射极基座(12)冷却。 发射极基座(12)固定在倾斜装置(13)的可动部分(13a)上,可移动部分(13a)通过滑动表面(14)与不可移动部分(13b)连接。 滑动表面(14)是圆柱形表面的一部分,其具有穿过发射器(1)的尖端并垂直于光轴的中心轴线。 通过表面具有上述构造,通过控制滑动面(14)的滑动量,可以在不移动发射体(1)的尖端的情况下控制发射器(1)的倾斜。
    • 10. 发明申请
    • TRITIUM SENSOR AND METHOD
    • 三极管传感器和方法
    • WO2009045642A2
    • 2009-04-09
    • PCT/US2008/073024
    • 2008-08-13
    • LOS ALAMOS NATIONAL SECURITY LLCPAGLIERI, Stephen, N.RICHMOND, Scott
    • PAGLIERI, Stephen, N.RICHMOND, Scott
    • H01J27/26
    • G01T1/00
    • A tritium sensor and method are provided. The sensor involves the use of an electrode having a semiconductor coating that has properties selected to allow the passage of beta particles at the particular energy level for tritium through the semiconductor layer to a conductive electrode core and produce current. Current flow in the core can be measured by a current measuring device. The current flow can be correlated to the concentration of tritium in the gas surrounding the electrode to provide an indication of the amount of tritium present. The device can be used in a static system or a system in which the tritium containing gas flows. The apparatus provides real time readings of the tritium concentration in gas.
    • 提供了一种氚传感器和方法。 传感器涉及使用具有半导体涂层的电极,其具有选择的特性,以允许通过半导体层的氚通过特定能级的β粒子到导电电极芯并产生电流。 芯中的电流可由电流测量装置测量。 电流可以与电极周围的气体中的氚浓度相关,以提供存在的氚的量的指示。 该装置可用于静态系统或含氚气体的系统中。 该装置提供气体中氚浓度的实时读数。