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1. 发明申请

WO2005081067A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2005081067A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2004/014727
申请日：2004-12-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus (110) is designed for immersion operation in which an immersion liquid (134) adjoins a photosensitive layer (126). The refractive index of the immersion liquid is greater than the refractive index of a medium (L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9). that adjoins the immersion liquid on the object side of the projection objective (120; 120'; 120"). The projection objective is designed such that the immersion liquid (134) is convexly curved towards the object plane (122) during immersion operation.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（110）的投影物镜被设计用于浸没操作，其中浸没液体（134）邻接感光层（126）。浸没液的折射率大于介质的折射率（L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9）。在所述投影物镜（120; 120'; 120“）的物体侧邻接所述浸没液体，所述投影物镜被设计为使得所述浸没液体（134）在浸入操作期间朝向所述物体平面（122）凸形弯曲。

2. 发明申请

WO2005081068A2 ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PICTURE SYSTEM FOR A微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2005081068A2
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2005/000277
申请日：2005-01-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Abbildungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Projektionsobjektiv (200, 300, 500, 600) zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht; und einer Flüssigkeitszufuhr (205) zum Füllen eines Zwischenraums zwischen der Bildebene und einem bildebenenseitig letzten optischen Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs mit Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601); wobei das bildebenenseitig letzte optische Element des Projektionsobjektivs in Schwerkraftrichtung nachfolgend zur Bildebene angeordnet ist; und wobei das Projektionsobjektiv derart ausgelegt ist, dass im Immersionsbetrieb die Immersionsflüssigkeit in zur Bildebene abgewandter Richtung wenigstens bereichsweise konvex gekrümmt ist. Es wird auch vorgesehen, dass das bildebenenseitig letzte optische Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs unter der Bildebene derart angeordnet ist, dass die Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601) zumindest teilweise in einem im wesentlichen wannenförmigen Bereich auf dem bildebenenseitig letzten optischen Element angeordnet wird. Auch kann ein Rotator zum Drehen eines die lichtempfindliche Schicht (401) aufweisenden Substrats zwischen einer Transportorientierung, in der die lichtempfindliche Schicht auf einer entgegengesetzt zur Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, und einer Belichtungsorientierung, in welcher die lichtempfindliche Schicht (401) auf einer in Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, vorgesehen sein.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中所述投射物镜的像面侧最后光学元件被布置在图像平面下方的重力方向; 并且其中，所述投射物镜被设计成使得在浸液操作中，浸没液体在背离图像面方向至少部分地凸形弯曲远离。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后的光学元件被布置。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）布置，可以提供下面的基底表面。

3. 发明申请

WO2006053751A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光设备的投影目标
公开(公告)号：WO2006053751A2
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012327
申请日：2005-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
发明人： BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20) auf, das ein Objekt (24) auf eine Bildebene (28) abbildet und eine Linse (L3) mit einer gekrümmten Fläche (S) hat. In dem Projektionsobjektiv (20) befindet sich ein flüssiges oder festes Medium (34), das unmittelbar an die gekrümmte Fläche (S) über einen Bereich hinweg angrenzt, der für die Abbildung des Objekts (24) nutzbar ist. Die Projektionsbelichtungsanlage weist außerdem einen verstellbaren Manipulator (M) zur Verringerung einer Bildfeldwölbung auf, die durch eine Erwärmung des Mediums (34) während des Projektionsbetriebs verursacht wird.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20）到图像平面（28）的图像的对象（24）和具有一个冠导航中使用的透镜（L3）奈德FL＆AUML;枝（S）具有，在投影透镜20中，存在液体或固体介质34，其在与图像相邻的区域上紧邻曲面S 物体（24）的尺寸是可用的。投影曝光＆害羞;植物具有坳道除了可调节的操纵器（M），以减少一个Bildfeldw＆OUML; lbung，其通过EI＆害羞; NE广告＆AUML;所述介质（34）的变暖W＆AUML; Projektionsbe＆期间害羞;引起驱动。

4. 发明申请

WO2006005547A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：目标投影目标
公开(公告)号：WO2006005547A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：PCT/EP2005/007431
申请日：2005-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/00 , G02B17/00 , G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0828 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/70341
摘要： A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective has a first, refractive objective part for imaging the pattern provided in the object plane into a first intermediate image; a second objective part including at least one concave mirror for imaging the first intermediate imaging into a second intermediate image; and a third, refractive objective part for imaging the second intermediate imaging onto the image plane; wherein the projection objective has a maximum lens diameter D max , a maximum image field height Y', and an image side numerical aperture NA; wherein COMP1 = D max / (Y' • NA 2 ) and wherein the condition COMP1
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的像平面上的折反射投射物镜具有用于将设置在物平面中的图案成像为第一中间图像的第一折射目标部分; 第二目标部分，其包括用于将第一中间成像成像成第二中间图像的至少一个凹面镜; 以及第三折射物镜部分，用于将所述第二中间成像成像到所述图像平面上; 其中所述投影物镜具有最大透镜直径D

5. 发明申请

WO2008064845A1 METHOD OF MANUFACTURING A PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION OBJECTIVE MANUFACTURED BY THAT METHOD 审中-公开
标题翻译：通过该方法制造投影目标和投影目标的方法
公开(公告)号：WO2008064845A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010244
申请日：2007-11-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander
发明人： FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/705 , G03F7/70983
摘要： A method of manufacturing a projection objective including the steps of defining an initial design for a projection objective and optimizing the design using a merit function having a plurality of merit function components AB, IRRAD EFP, each of which reflects a particular quality parameter. One of that merit function components defines a maximum irradiance requirement requiring that a normalized effective irradiance value representing an effective irradiance AB, IRRAD EFF normalized to an effective irradiance in an image surface of the projection objective does not exceed a predefined irradiance threshold value IRR TV on each optical surface of the projection objective except for a last optical surface directly adjacent to an image surface of the projective objective. Optical surfaces positioned within caustic regions and/or critically small effective sub-apertures on optical surfaces are thereby systematically avoided.
摘要翻译：一种制造投影物镜的方法，包括以下步骤：定义投影物镜的初始设计，并使用具有多个优点函数分量AB，IRRAD EFP的优值函数优化设计，每个优点函数分量反映了特定的质量参数。其中一个优点功能组件定义了最大辐照度要求，要求表示在投影物镜的图像表面中归一化为有效辐照度的有效辐照度AB，IRRAD EFF的归一化有效辐照度值不超过预定的辐照度阈值IRR TV 投影物镜的每个光学表面除了与投影物镜的图像表面直接相邻的最后光学表面之外。因此系统地避免了位于苛性区域内的光学表面和/或光学表面上的临界小的有效子孔。

6. 发明申请

WO2006084479A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006084479A1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/EP2005/001435
申请日：2005-02-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , DEGÜNTHER, Markus
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G03F7/70141 , G03F7/70191
摘要： A projection exposure apparatus has a projection lens (10) with an object plane (34), an image plane, an optical axis (28) and a non-telecentric entrance pupil (32). The apparatus further comprises an illumination system (12) having an intermediate field plane (80) and a field stop (36; 36'). The field stop is positioned in or in close proximity to the intermediate field plane (80) and defines an illuminated field (14) in the object plane (34) that does not contain the optical axis (28) of the projection lens (24). The illumination system (12) is configured such that, in the object plane (34), a mean of the angles formed between all principal rays (42) emanating from the intermediate field plane (80) on the one hand and the optical axis (28) of the projection lens (24) on the other hand differs from 0 ° .
摘要翻译：投影曝光装置具有具有物平面（34），像平面，光轴（28）和非远心入射光瞳（32）的投影透镜（10）。该装置还包括具有中间场平面（80）和场停止（36; 36'）的照明系统（12）。场停止件位于中间场平面（80）中或紧邻中间场平面（80），并且在物平面（34）中限定不包含投影透镜（24）的光轴（28）的照明场（14）。照明系统（12）被配置为使得在物平面（34）中，一方面从中间场平面（80）发射的所有主光线（42）和光轴（42）之间形成的平均角另一方面，投影透镜（24）的光束（28）不同于0°。

7. 发明申请

WO2005033800A1 LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM SOLCHEN LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光刻镜头和投影曝光系统与至少一个该光刻镜头
公开(公告)号：WO2005033800A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/007753
申请日：2004-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches Abbildungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenfläche und eine zweite Linsenfläche aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelasphärenlinse, bei der die erste Linsenfläche und die zweite Lin-senfläche eine asphärische Fläche ist. Bei Doppelasphärenlinsen ist es möglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflächenbearbeitung und Prüfung der Linsenoberflächen Linsen mit guter Qualität herzustellen, die die Wirkung einer Asphäre mit sehr starker Deformation haben.
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光设备的成像光学系统被用于成像放置在成像系统的物平面中布置在所述成像系统的图像场的图像平面中的物场的对象。它可以是在特定的投影透镜或在照明系统中继透镜被分配。该成像系统具有多个被布置在物平面和像平面，并且每个具有第一透镜表面和第二透镜表面之间的透镜。至少所述透镜中的一个是一个Doppelasphärenlinse，其中，所述第一透镜表面和第二透镜表面是非球面表面。在Doppelasphärenlinsen它可以使在表面处理和透镜的测试以合理的成本与具有非球面表面的具有非常强的变形的效果良好的品质的透镜面。

8. 发明申请

WO2005111689A2 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH INTERMEDIATE IMAGES 审中-公开
标题翻译：具有中间图像的目标投影
公开(公告)号：WO2005111689A2
公开(公告)日：2005-11-24
申请号：PCT/EP2005/005250
申请日：2005-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/06 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G03F7/7015 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A catadioptric projection objective for imaging of a pattern, which is arranged on the object plane of the projection objective, on the image plane of the projection objective has a first objective part for imaging of an object field to form a first real intermediate image, a second objective part for production of a second real intermediate image using the radiation coming from the first objective part; and a third objective part for imaging of the second real intermediate image on the image plane. The second objective part is a catadioptric objective part with a concave mirror. A first folding mirror for deflection of the radiation coming from the object plane in the direction of the concave mirror and a second folding mirror for deflection of the radiation coming from the concave mirror in the direction of the image plane are provided. A field lens with a positive refractive power is arranged between the first intermediate image and/or the first folding mirror and the concave mirror, in an area close to the field of the first intermediate image.
摘要翻译：用于对投影物镜的物平面上配置的图案进行成像的反折射投射物镜具有用于对物场进行成像以形成第一实际中间图像的第一物镜部分，使用来自第一目标部分的辐射来生成第二实际中间图像的第二目标部分; 以及用于在图像平面上成像第二实际中间图像的第三目标部分。第二个目标部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供了用于使来自物体平面的辐射在凹面镜的方向上偏转的第一折叠镜和用于在像面方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠镜。在第一中间图像和/或第一折叠镜和凹面镜之间，在靠近第一中间图像的场的区域内布置具有正屈光力的场透镜。

9. 发明申请

WO2005096098A2 PROJECTION OBJECTIVE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND REFLECTIVE RETICLE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标，投影曝光装置和反射镜
公开(公告)号：WO2005096098A2
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：PCT/EP2005/002898
申请日：2005-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70225 , G03F7/70283
摘要： A projection objective for microlithography serves for imaging a pattern of a mask arranged in its object surface into an image field arranged in its image surface with a demagnifying imaging scale. It has a multiplicity of optical elements arranged along the optical axis of the projection objective, the optical elements being designed and arranged in such a way that the projection objective has an imageside numerical aperture NA > 0.85 and a demagnifying imaging scale where |b|
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜用于将布置在其物体表面中的掩模的图案成像成具有缩小的成像刻度的布置在其图像表面中的图像场。它具有沿着投影物镜的光轴布置的多个光学元件，光学元件被设计和布置成使得投影物镜具有图像数值孔径NA> 0.85和缩小成像刻度，其中|| b | | <0.05，并且具有适合于大于1mm的微光刻的最小图像场直径的平面图像场。

10. 发明申请

WO2003052462A3 CATADIOPTRIC REDUCTION LENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2003052462A3
公开(公告)日：2003-06-26
申请号：PCT/EP2002/013887
申请日：2002-12-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David, R. , EPPLE, Alexander
发明人： SHAFER, David, R. , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/08
摘要： A catadioptric projection lens for imaging a pattern arranged in an object plane onto an image plane while creating a real intermediate image, having a catadioptric first lens section having a concave mirror and a beam-deflection device, as well as a dioptric second lens section that follows the catadioptric lens section, between its object plane and image plane. The beam-deflection device has a first reflective surface for deflecting radiation coming from the object plane to the concave mirror. Positive refractive power is arranged following the first reflective surface, between the latter and the concave mirror, within an optical near-field of the object plane, within which the height of the principal ray of the outermost field point of radiation coming from the object exceeds the marginal-ray height. The intermediate image lies well ahead of a second reflective surface that is provided for the purpose of allowing arranging the object plane and image plane such that they will be parallel to one another. A lens is provided between the intermediate image and second reflective surface.

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