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1. 发明申请

WO2011104389A3 METHOD FOR STRESS-ADJUSTED OPERATION OF A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND CORRESPONDING PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统的应力调整操作方法及相应的投影曝光系统
公开(公告)号：WO2011104389A3
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011/052953
申请日：2011-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KNEER, Bernhard , DEGUENTHER, Markus , GRUNER, Toralf
发明人： KNEER, Bernhard , DEGUENTHER, Markus , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The present invention relates to a projection exposure system and a method for operating a projection exposure system for microlithography with an illumination system which has at least one variably adjustable pupil-defining element (4), wherein the illumination stress of at least one optical element of the projection exposure system is determined automatically in the case of an adjustment of the at least one variably adjustable pupil-defining element and, from the automatically determined illumination stress, the maximum radiant power of the light source is set or determined and/or in which an illumination system is provided with which different illumination settings can be made, wherein the usage of the projection exposure system is recorded and, from the history of the usage, at least one state parameter of at least one optical element of the projection exposure system is determined.
摘要翻译：本发明涉及一种投影曝光系统和一种操作具有照明系统的用于微光刻的投影曝光系统的方法，该照明系统具有至少一个可变地调节的光瞳限定元件（4），其中照明投影曝光系统的至少一个光学元件的应力在调节至少一个可变地调节的光瞳限定元件的情况下自动地确定，并且根据自动确定的照明应力，光源的最大辐射功率是设置或确定和/或其中提供照明系统，利用该照明系统可以进行不同的照明设置，其中记录投影曝光系统的使用，并且从使用历史记录中获得至少一个状态参数确定投影曝光系统的光学元件。

2. 发明申请

WO2005081067A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2005081067A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2004/014727
申请日：2004-12-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus (110) is designed for immersion operation in which an immersion liquid (134) adjoins a photosensitive layer (126). The refractive index of the immersion liquid is greater than the refractive index of a medium (L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9). that adjoins the immersion liquid on the object side of the projection objective (120; 120'; 120"). The projection objective is designed such that the immersion liquid (134) is convexly curved towards the object plane (122) during immersion operation.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（110）的投影物镜被设计用于浸没操作，其中浸没液体（134）邻接感光层（126）。浸没液的折射率大于介质的折射率（L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9）。在所述投影物镜（120; 120'; 120“）的物体侧邻接所述浸没液体，所述投影物镜被设计为使得所述浸没液体（134）在浸入操作期间朝向所述物体平面（122）凸形弯曲。

3. 发明申请

WO2011104389A2 METHOD FOR STRESS-ADJUSTED OPERATION OF A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND CORRESPONDING PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统和相关投影曝光系统的应力调整方法
公开(公告)号：WO2011104389A2
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011052953
申请日：2011-02-28
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , KNEER BERNHARD , DEGUENTHER MARKUS , GRUNER TORALF
发明人： KNEER BERNHARD , DEGUENTHER MARKUS , GRUNER TORALF
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70116 , G03F7/70341 , G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： The present invention relates to a projection exposure system and a method for operating a projection exposure system for microlithography with an illumination system which has at least one variably adjustable pupil-defining element (4), wherein the illumination stress of at least one optical element of the projection exposure system is determined automatically in the case of an adjustment of the at least one variably adjustable pupil-defining element and, from the automatically determined illumination stress, the maximum radiant power of the light source is set or determined and/or in which an illumination system is provided with which different illumination settings can be made, wherein the usage of the projection exposure system is recorded and, from the history of the usage, at least one state parameter of at least one optical element of the projection exposure system is determined.
摘要翻译：本发明涉及一种投影曝光系统和一种用于利用具有至少一个可变可调光瞳限定元件（4）的照明系统来操作用于微光刻的投影曝光系统的方法，其中至少一个光学元件的照明应力在调整至少一个可变瞳孔限定元件的情况下自动确定投影曝光系统，并且根据自动确定的照明应力，设定或确定光源的最大辐射功率和/或其中提供照明系统，可以进行不同的照明设置，其中记录投影曝光系统的使用，并且根据使用历史，投影曝光系统的至少一个光学元件的至少一个状态参数是决心。

4. 发明申请

WO2005081068A2 ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PICTURE SYSTEM FOR A微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2005081068A2
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2005/000277
申请日：2005-01-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , DORSEL, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Abbildungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Projektionsobjektiv (200, 300, 500, 600) zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht; und einer Flüssigkeitszufuhr (205) zum Füllen eines Zwischenraums zwischen der Bildebene und einem bildebenenseitig letzten optischen Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs mit Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601); wobei das bildebenenseitig letzte optische Element des Projektionsobjektivs in Schwerkraftrichtung nachfolgend zur Bildebene angeordnet ist; und wobei das Projektionsobjektiv derart ausgelegt ist, dass im Immersionsbetrieb die Immersionsflüssigkeit in zur Bildebene abgewandter Richtung wenigstens bereichsweise konvex gekrümmt ist. Es wird auch vorgesehen, dass das bildebenenseitig letzte optische Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs unter der Bildebene derart angeordnet ist, dass die Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601) zumindest teilweise in einem im wesentlichen wannenförmigen Bereich auf dem bildebenenseitig letzten optischen Element angeordnet wird. Auch kann ein Rotator zum Drehen eines die lichtempfindliche Schicht (401) aufweisenden Substrats zwischen einer Transportorientierung, in der die lichtempfindliche Schicht auf einer entgegengesetzt zur Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, und einer Belichtungsorientierung, in welcher die lichtempfindliche Schicht (401) auf einer in Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, vorgesehen sein.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中所述投射物镜的像面侧最后光学元件被布置在图像平面下方的重力方向; 并且其中，所述投射物镜被设计成使得在浸液操作中，浸没液体在背离图像面方向至少部分地凸形弯曲远离。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后的光学元件被布置。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）布置，可以提供下面的基底表面。

5. 发明申请

WO2005081068A3 IMAGING SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHICAL PROJECTION LIGHT SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备的图解系统
公开(公告)号：WO2005081068A3
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：PCT/EP2005000277
申请日：2005-01-13
申请人： ZEISS CARL SMT AG , GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , KNEER BERNHARD , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , DORSEL ANDREAS
发明人： GRUNER TORALF , EPPLE ALEXANDER , KNEER BERNHARD , WABRA NORBERT , BEDER SUSANNE , DORSEL ANDREAS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an imaging system of a microlithographical projection light system, comprising a projection lens (200, 300, 500, 600) which is used to reproduce a mask which can be positioned on a lens plane on a light-sensitive layer which can be positioned on an image plane; and a fluid inlet (205) which is used to fill an intermediate chamber between the image plane and a final optical element (201, 309, 506) of the projection lens, with immersion liquid (202, 310, 507, 601), on the image plane. The final optical element of the projection lens on the image plane is arranged, in the direction of gravity, after the image plane and the projection lens is embodied in such a manner that the immersion fluid, in the immersion state, comprises a convex curve, in the direction oriented away from the image plane, at least in one area. According to the invention, the final optical element (201, 309, 506) of the projection lens on the image plane is arranged below the image plane in such a manner that the immersion fluid (202, 310, 507, 601) is at least partially arranged in an essentially dish-shaped area on the final optical element on the image plane. Said system can also comprises a rotator which is used to rotate a substrate comprising the light-sensitive layer (401) between a transport position, wherein the light-sensitive layer is arranged on a substrate surface disposed in the counter direction to the direction of gravity, and a position of exposure, wherein the light-sensitive layer (401) is arranged on a substrate surface disposed in the direction of gravity.
摘要翻译：具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中投影透镜的图像平面侧最后一个光学元件沿像平面在重力方向上布置; 并且其中所述投影透镜被设计成使得在浸没模式中，所述浸没液体在远离所述像平面的方向上至少部分地凸出地弯曲。还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地最后一个光学元件被安排。用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401）可以设置平躺的基板表面。

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