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1. 发明申请

WO2007135347A1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEPOLLUTION D'ENVIRONNEMENT CONFINE 审中-公开
标题翻译：从限制环境中移除污染物的方法和装置
公开(公告)号：WO2007135347A1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：PCT/FR2007/051328
申请日：2007-05-24
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , BELLET, Bertrand , BERNARD, Roland , METAIS, Xavier
发明人： FAVRE, Arnaud , BELLET, Bertrand , BERNARD, Roland , METAIS, Xavier
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67389 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , Y10T137/0419 , Y10T137/6579
摘要： La présente invention a pour objet un procédé de dépoiiution d'un environnement confiné comportant un espace intérieur limité par une paroi, comprenant les étapes suivantes: on place l'environnement confiné comportant une fuite dans une chambre étanche comprenant des moyens d'introduction de gaz et des moyens de pompage de gaz; on pompe simultanément le gaz contenu dans la chambre et le gaz contenu à l'intérieur de l'enceinte à travers la fuite, de manière â ce que la différence de pression de part et d'autre de la paroi soit à tout moment inférieure au seuil d'endomniagement de la paroi. L'invention a aussi pour objet un dispositif de dépollution d'un environnement confiné comprenant: une chambre de dépoilutîon apte à contenir l'environnement confiné; des moyens d'introduction de gaz de purge; des moyens de pompage de gaz à capacité de pompage variable; des moyens de pilotage de la vitesse de pompage; des moyens de contrôle de la différence de pression entre l'intérieur et l'extérieur de l'environnement.
摘要翻译：本发明的主题是一种从封闭环境中除去污染的方法，该环境包含由墙壁限定的内部空间，其包括以下步骤：将具有泄漏的密闭环境置于密封室中，该密封室包括引入气体和抽气的手段容纳在腔室中的气体和包含在空间内的气体同时被泵送通过泄漏，使得跨壁的压力差总是低于壁损伤阈值。本发明的另一个主题是一种用于消除受限环境污染的装置，包括：能够容纳有限环境的污染物去除室; 引入净化气体的方法; 泵送具有可变抽吸能力的气体的手段; 控制泵送速率的手段; 用于监测环境内部和外部之间的压力差的装置。

2. 发明申请

WO2009138637A1 STATION ET PROCEDE DE MESURE DE LA CONTAMINATION D'UNE ENCEINTE DE TRANSPORT DE SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS 审中-公开
标题翻译：用于测量用于运输半导体基板的外壳的污染的站和方法
公开(公告)号：WO2009138637A1
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：PCT/FR2009/050713
申请日：2009-04-16
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
发明人： FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67253 , H01L21/67017 , H01L21/67389
摘要： L'invention concerne une station de mesure de la contamination tin particules d'une enceinte de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi- conducteurs, ladite enceinte comprenant une enveloppe obrurable par une porte d'accès amovible, ladite station comportant : une interface (5) susceptible de ^accoupler à une enveloppe d'une enceinte de transport: (3), à la place de ladite porte, l´interface (5) comportant au moins une buse d'injection (9) disposée à un Extrémité mobile d'un tuyau saillant de ladite interface pour diriger un jet de gaz dam une direction perpendiculaire à une portion de paroi (13) à l'intérieur (10) de ladite enveloppe accouplée à ladite station de mesure, de manière â détacher des particules (1 1) de ladite enveloppe (3) par l'impact du jet de gaz sur ladite paroi (13) et, un dispositif de mesure (7) comportant une pompe à vide (17), un compteur de particules (19) et une canalisation de mesure (21) dont une entrée (23) débouche â l´intérieur (10) de ladite enveloppe (3) et dont une sortie (25) est raccordée à la pompe à vide (17), la canalisation de mesure (21) étant en outre raccordée au compteur de particules (19), pour mettre, en communication l'intérieur (10) de l'enveloppe de lénceinteαπte de transport (3) accouplée à ladite section de mesure avec Ie compteur de particules (19). L'invention concerne également un procédé de mesure de la contamination en particules d'une enceinte de transport pour le convoyage en Je stockage atmosphérique de substrats semi- conducteurs.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量用于大气存储和运输半导体衬底的运输箱的颗粒的污染物的站，所述外壳包括可由可拆卸的检修门封闭的外壳，所述站包括：接口（5），其可以联接到运输外壳的外壳;（3）代替所述门，所述接口（5）包括至少一个注射喷嘴（9），所述喷嘴位于软管突出的软管的移动端从所述界面引导气体喷射方向，该方向垂直于耦合到所述测量站的所述壳体的内壁（10）上的壁部分（13）的方向，从而将颗粒（11）从所述壳体（3）通过撞击所述壁（13）的气体射流;以及测量装置（7），包括真空泵（17），颗粒计（19）和测量管（21），一个入口（23）向所述内部（10）开口壳体（3）和一个出口（25）连接到真空泵（17），测量管（21）还连接到颗粒计（19），以便将壳体（10）放置在壳体（3），其与所述测量部分联接，与所述颗粒计（19）连通。本发明还涉及用于测量用于大气存储和运输半导体衬底的运输箱的颗粒污染的方法。

3. 发明申请

WO2012000951A1 DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE SÉCHAGE D'UN PHOTOMASQUE 审中-公开
标题翻译：用于干燥光刻胶的装置和方法
公开(公告)号：WO2012000951A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：PCT/EP2011/060750
申请日：2011-06-27
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS , THOVEX, Cindy , BELLET, Bertrand
发明人： THOVEX, Cindy , BELLET, Bertrand
IPC分类号： F26B5/04 , F26B7/00 , F26B21/14
CPC分类号： G03F1/68 , F26B5/048 , F26B7/00 , F26B21/14 , G03F1/82
摘要： La présente invention a pour objet un dispositif de séchage d'un photomasque comprenant: -une enceinte (2) étanche contenant au moins un photomasque (13), -un groupe de pompage (3 ) pour installer et maintenir le vide à l'intérieur de ladite 1 ' enceinte (2), -un support (12) du photomasque (13), placé à l'intérieur de ladite enceinte(2), -des moyens de rayonnement infrarouge (6) placés à l'intérieur de ladite enceinte (2), -un système d'injection de gaz (10) dans ladite enceinte (2), Selon l'invention, les moyens de rayonnement infrarouge comprennent une pluralité de sources de rayonnement infrarouge (6) réparties dans un plan parallèle au plan du photomasque (13) de telle sorte que la distance du photomasque (13) aux moyens de rayonnement IR soit donnée par la relation: D=1,5 x d dans laquelle D est la distance entre le plan contenant les sources de rayonnement infrarouge (6) et le photomasque (13), et d est la distance entre les points centraux de deux sources de rayonnement infrarouge (6), et le système d'injection de gaz (10) comprend une pluralité d'injecteurs de gaz (30) réparties dans un plan parallèle au plan du photomasque (13) de telle sorte que les injecteurs (30) respectent une invariance par rotation de 90° autour du point central du photomasque (13).
摘要翻译：本发明的目的是一种用于干燥光掩模的装置，包括：密封室（2），包括至少一个光掩模（13）; 用于在所述室（2）内提供和保持真空的泵组（3）; 用于光掩模（13）的保持器（12），放置在所述腔室（2）内; 放置在所述室（2）内的红外辐射装置（6）; 以及用于将气体注入所述室（2）中的系统（10）。根据本发明，红外辐射装置包括分布在与光掩模（13）的平面平行的平面中的多个红外源（6），使得从光掩模（13）到产生IR的装置的距离被给予通过等式：D = 1.5×d，其中D是包含红外源（6）和光掩模（13）的平面之间的距离，d是两个红外源（6）的中心点之间的距离，以及用于喷射气体的系统（10）包括分布在平行于光掩模（13）的平面的平面中的多个气体喷射器（30），使得喷射器（30）围绕中心点（13）围绕90°旋转不变，的光掩模。

4. 发明申请

WO2010142792A1 DISPOSITIF ET PROCEDE D'ANALYSE DE GAZ, ET STATION DE MESURE ASSOCIEE 审中-公开
标题翻译：用于分析气体和相关测量站的装置和方法
公开(公告)号：WO2010142792A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/EP2010/058251
申请日：2010-06-11
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
发明人： FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
IPC分类号： G01N33/00
CPC分类号： G01N33/0018
摘要： L'invention concerne une station de mesure de la contamination gazeuse d'une enceinte de transport de substrats semi-conducteurs comportant un dispositif d'analyse de gaz pour déterminer la concentration du gaz à analyser, ledit dispositif d'analyse comprenant : - une unité de dilution (3) configurée pour diluer un flux de gaz à analyser (Q) selon un coefficient de dilution (D), et - une unité d'analyse (5) communiquant avec l'unité de dilution (3) via une canalisation de prélèvement (7) pour prélever par pompage un flux de gaz dilué (Qa), et comportant au moins un moyen de traitement pour : • analyser le flux de gaz dilué prélevé (Qa), et • déterminer la concentration (C) du flux de gaz à analyser (Q) à partir dudit flux de gaz dilué analysé (Qa) et du coefficient de dilution (D). L'invention concerne encore un procédé d'analyse de gaz associé.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量半导体衬底的运输箱体中的气体污染物的站，包括用于确定待分析气体浓度的气体分析装置，所述分析装置包括：稀释单元（3），其被配置为稀释根据稀释系数（D）分析的气体（Q）和通过取样管（7）与稀释单元（3）连通的分析单元（5），以便对稀释气体（Qa）进行采样，并且包括至少一个处理装置，用于分析稀释气体的采样流量（Qa），并根据所分析的稀释气体流量（Qa）确定要分析的气体流量（Q）的浓度（℃））和稀释系数（D）。本发明还涉及一种相关联的气体分析方法。

5. 发明申请

WO2010003910A1 DRAIN DEVICE AND METHOD 审中-公开
标题翻译：排水装置和方法
公开(公告)号：WO2010003910A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：PCT/EP2009/058479
申请日：2009-07-06
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , RUDE, Cindy , BELLET, Bertrand
发明人： FAVRE, Arnaud , RUDE, Cindy , BELLET, Bertrand
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/6735 , H01L21/67017 , Y10T137/0318
摘要： The aim of the present invention is a drain device for a transporting box with an input/output opening which can be blocked by a box door and which contains substrate wafers stacked according to parallel planes. The drain device comprises a volume limited by a sealed wail divided into at least an upper part with a purging gas inlet orifice and a lower part with a purging gas outlet orifice, with the two parts being separated by a sealed partition, and a range of guides defining the openings arranged parallel to those of the wafers and connecting with the volume of the drain device to direct the purging gas towards the transporting box.
摘要翻译：本发明的目的是一种用于具有输入/输出开口的输送箱的排水装置，该输入/输出开口可以被箱门阻挡，并且其包含根据平行平面堆叠的基板晶片。排水装置包括受密封壁限制的体积，该密封壁至少分成具有吹扫气体入口孔的上部，下部具有吹扫气体出口孔，两个部分由密封隔板分开，引导件限定平行于晶片的开口并与排水装置的体积连接，以将清洗气体引向输送箱。

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