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1. 发明专利

TW201903369A 自空間輸出恢復光譜形狀审中-公开
简体标题：自空间输出恢复光谱形状
公开(公告)号：TW201903369A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107111739
申请日：2018-04-03
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：金布萊恩艾德華 , KING, BRIAN EDWARD
IPC分类号： G01J3/45 , G01J3/28
摘要：本發明執行一種用於估計一光束之光譜的方法。該方法包括：將該光束投影至一光譜儀之相異空間區域上，其中每一空間區域接收該光譜之一不同經濾波版本；在該光譜儀之該等相異空間區域中之每一者處偵測該所投影光束之一特性；接收一二維矩陣，其中該矩陣之每一項提供一或多個空間區域與每一光譜特徵之間的一關係，其中該二維矩陣與該光譜儀之輸入-輸出關係相關；及基於使用該等偵測到之光束特性與該接收到之二維矩陣兩者的一分析而估計該光束之該光譜。
简体摘要：本发明运行一种用于估计一光束之光谱的方法。该方法包括：将该光束投影至一光谱仪之相异空间区域上，其中每一空间区域接收该光谱之一不同经滤波版本；在该光谱仪之该等相异空间区域中之每一者处侦测该所投影光束之一特性；接收一二维矩阵，其中该矩阵之每一项提供一或多个空间区域与每一光谱特征之间的一关系，其中该二维矩阵与该光谱仪之输入-输出关系相关；及基于使用该等侦测到之光束特性与该接收到之二维矩阵两者的一分析而估计该光束之该光谱。

2. 发明专利

TWI612281B 干涉分光元件封裝裝置有权
简体标题：干涉分光组件封装设备
公开(公告)号：TWI612281B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105131056
申请日：2016-09-26
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張家榮 , CHANG, CHIA JUNG , 謝佑聖 , HSIEH, YU SHENG , 林靖淵 , LIN, JING YUAN , 許志豪 , HSU, CHIH HAO
IPC分类号： G01J3/02 , G01J3/45
CPC分类号： G01J3/12 , G01J1/06 , G01J3/0216 , G01J3/0229 , G01J3/0256 , G01J3/0262 , G01J3/26 , G01J3/2803 , G01J2003/1226

3. 发明专利

TW201918448A 光學裝置审中-公开
简体标题：光学设备
公开(公告)号：TW201918448A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107123426
申请日：2018-07-06
申请人：日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：杉本達哉 , SUGIMOTO, TATSUYA , 鈴木智史 , SUZUKI, TOMOFUMI , 港谷恭輔 , KOTANI, KYOSUKE
IPC分类号： B81B3/00 , G02B26/00 , G01J3/45
CPC分类号： B81B3/00 , G01J3/45 , G02B26/00
摘要：本發明之光學裝置具備：彈性支持部，其以可動部能夠沿著第1方向移動之方式支持可動部；第1梳齒電極，其具有複數個第1梳齒；及第2梳齒電極，其具有複數個第2梳齒。彈性支持部具有：扭力棒，其沿著與第1方向垂直之第2方向延伸；及非線性緩和彈簧，其連接於扭力棒與可動部之間。非線性緩和彈簧構成為，於可動部於第1方向移動之狀態下，非線性緩和彈簧繞第2方向之變形量小於扭力棒繞第2方向之變形量，且與第1方向及第2方向垂直之第3方向上之非線性緩和彈簧之變形量大於第3方向上之扭力棒之變形量。相鄰之第1梳齒與第2梳齒係於第2方向上彼此相對。
简体摘要：本发明之光学设备具备：弹性支持部，其以可动部能够沿着第1方向移动之方式支持可动部；第1梳齿电极，其具有复数个第1梳齿；及第2梳齿电极，其具有复数个第2梳齿。弹性支持部具有：扭力棒，其沿着与第1方向垂直之第2方向延伸；及非线性缓和弹簧，其连接于扭力棒与可动部之间。非线性缓和弹簧构成为，于可动部于第1方向移动之状态下，非线性缓和弹簧绕第2方向之变形量小于扭力棒绕第2方向之变形量，且与第1方向及第2方向垂直之第3方向上之非线性缓和弹簧之变形量大于第3方向上之扭力棒之变形量。相邻之第1梳齿与第2梳齿系于第2方向上彼此相对。

4. 发明专利

TW201814256A 干涉分光元件封裝裝置审中-公开
简体标题：干涉分光组件封装设备
公开(公告)号：TW201814256A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW105131056
申请日：2016-09-26
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張家榮 , CHANG, CHIA JUNG , 謝佑聖 , HSIEH, YU SHENG , 林靖淵 , LIN, JING YUAN , 許志豪 , HSU, CHIH HAO
IPC分类号： G06F3/041 , G01J3/45 , G06K9/58
CPC分类号： G01J3/12 , G01J1/06 , G01J3/0216 , G01J3/0229 , G01J3/0256 , G01J3/0262 , G01J3/26 , G01J3/2803 , G01J2003/1226
摘要：本揭露內容係提供一種干涉分光元件封裝裝置。干涉分光元件封裝裝置包括一干涉分光元件使一預定波長範圍的光線穿透、一感光單元以及一透光結構。透光結構包括一透光柱狀結構及一吸光層，吸光層環繞透光柱狀結構，並且吸收前述預定波長範圍的光線。干涉分光元件、透光柱狀結構和感光單元沿透光柱狀結構的延伸方向對齊設置，且當一入射光入射時，係通過干涉分光元件和透光柱狀結構後被感光單元接收。
简体摘要：本揭露内容系提供一种干涉分光组件封装设备。干涉分光组件封装设备包括一干涉分光组件使一预定波长范围的光线穿透、一感光单元以及一透光结构。透光结构包括一透光柱状结构及一吸光层，吸光层环绕透光柱状结构，并且吸收前述预定波长范围的光线。干涉分光组件、透光柱状结构和感光单元沿透光柱状结构的延伸方向对齐设置，且当一入射光入射时，系通过干涉分光组件和透光柱状结构后被感光单元接收。

5. 发明专利

TW201809590A 利用可調波長雷射之精確定位系統审中-公开
简体标题：利用可调波长激光之精确定位系统
公开(公告)号：TW201809590A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118824
申请日：2017-06-07
申请人：美商賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B9/02 , G01N21/45 , G01J3/45
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02 , G01B9/02004 , G01B9/02091 , H01S5/06
摘要：一種用於決定測試腔特性的方法，該方法包括針對可調雷射的頻寬內的多個光學頻率中的每一個，測量來自測試腔與具有已知特性的參考腔的干涉訊號。該方法包括根據來自參考腔與已知特性參考腔的測得的干涉訊號，決定多個光學頻率的值，以及使用多個光學頻率的已定值來決定測試腔的特性。
简体摘要：一种用于决定测试腔特性的方法，该方法包括针对可调激光的带宽内的多个光学频率中的每一个，测量来自测试腔与具有已知特性的参考腔的干涉信号。该方法包括根据来自参考腔与已知特性参考腔的测得的干涉信号，决定多个光学频率的值，以及使用多个光学频率的已定值来决定测试腔的特性。

6. 发明专利

TW201829992A 基於傅立葉轉換紅外光譜的特徵化設備审中-公开
简体标题：基于傅里叶转换红外光谱的特征化设备
公开(公告)号：TW201829992A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106107275
申请日：2017-03-06
申请人：上海新昇半導體科技有限公司 , ZING SEMICONDUCTOR CORPORATION
发明人：王燕 , WANG, YAN , 劉源 , LIU, YUAN , 邦凡蒂保羅 , BONFANTI, PAOLO
IPC分类号： G01J3/45 , G01N21/359
摘要：本發明提供了一種基於傅立葉轉換紅外光譜(FTIR)的特徵化設備，通過兩個與水平面傾斜的可移動反射鏡，使紅外光到達探測器之前，兩次穿過晶片，增加了光通量。類似地，本發明可新增一個V型鏡的方法來增加光通量。紅外光兩次穿過晶片增加所述晶片吸收紅外光的量，這樣能夠在晶片厚度保持不變的情況下增強對所述晶片中碳濃度的敏感度，使特徵化設備能夠在不增加所述晶片厚度的情況下對其中的碳濃度進行檢測。
简体摘要：本发明提供了一种基于傅里叶转换红外光谱(FTIR)的特征化设备，通过两个与水平面倾斜的可移动反射镜，使红外光到达探测器之前，两次穿过芯片，增加了光通量。类似地，本发明可添加一个V型镜的方法来增加光通量。红外光两次穿过芯片增加所述芯片吸收红外光的量，这样能够在芯片厚度保持不变的情况下增强对所述芯片中碳浓度的敏感度，使特征化设备能够在不增加所述芯片厚度的情况下对其中的碳浓度进行检测。

7. 发明专利

TWI629458B 用於量測脈衝光束之光譜特徵的度量衡系統及方法有权
简体标题：用于量测脉冲光束之光谱特征的度量衡系统及方法
公开(公告)号：TWI629458B
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：TW105114464
申请日：2016-05-10
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞強 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： G01J3/45 , G01J3/26

8. 发明专利

TW201805603A 用於檢測裝置之照明源、檢測裝置及檢測方法审中-公开
简体标题：用于检测设备之照明源、检测设备及检测方法
公开(公告)号：TW201805603A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106122306
申请日：2017-07-04
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 林楠 , LIN, NAN , 盧波山德巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
IPC分类号： G01J3/10 , G01J3/45
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/4788 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G01N2201/0697 , G02F1/353 , G03F7/70008 , G03F7/70616
摘要：本發明揭示一種用於產生用於一檢測裝置之量測輻射之照明源。該源產生至少第一量測輻射及第二量測輻射，使得該第一量測輻射與該第二量測輻射進行干涉以形成運用一差拍分量進行調變之經組合量測輻射。該照明源可為一高階諧波產生(HHG)源。亦揭示一種包含此源之檢測裝置及一種相關聯檢測方法。
简体摘要：本发明揭示一种用于产生用于一检测设备之量测辐射之照明源。该源产生至少第一量测辐射及第二量测辐射，使得该第一量测辐射与该第二量测辐射进行干涉以形成运用一差拍分量进行调制之经组合量测辐射。该照明源可为一高级谐波产生(HHG)源。亦揭示一种包含此源之检测设备及一种相关联检测方法。

9. 发明专利

TWI682150B 自動校準光干涉裝置及光干涉裝置自動校準方法有权
简体标题：自动校准光干涉设备及光干涉设备自动校准方法
公开(公告)号：TWI682150B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW107147454
申请日：2018-12-27
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：江鴻志 , CHIANG, HUNG CHIH , 張正宜 , CHANG, CHENG YI , 張庭瑋 , CHANG, TING WEI , 張啟伸 , CHANG, CHI SHEN
IPC分类号： G01J9/02 , G01J3/45

10. 发明专利

TWI665431B 估計光束之光譜的方法及度量衡設備有权
简体标题：估计光束之光谱的方法及度量衡设备
公开(公告)号：TWI665431B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107111739
申请日：2018-04-03
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：金布萊恩艾德華 , KING, BRIAN EDWARD
IPC分类号： G01J3/45 , G01J3/28

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