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1. 发明专利

TW201947266A 控制光學系統之方法审中-公开
简体标题：控制光学系统之方法
公开(公告)号：TW201947266A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108136059
申请日：2017-08-04
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：畢比湯瑪士費德列克艾倫二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G02B6/43 , G02F1/025
摘要：用於控制一光學系統之技術包括：存取自該光學系統發射之一脈衝式光束之一特定脈衝之一性質的一量測值，該性質與該光束之同調性之一數量有關；比較該光束之該性質的該量測值與該性質的一目標值；基於該比較而判定是否產生一控制信號；以及若基於該比較而產生一控制信號，則藉由基於該控制信號修改該光學系統之一態樣來調整該光束中之同調性之該數量，以減小在該特定脈衝之後的一脈衝之同調性之一數量。
简体摘要：用于控制一光学系统之技术包括：存取自该光学系统发射之一脉冲式光束之一特定脉冲之一性质的一量测值，该性质与该光束之同调性之一数量有关；比较该光束之该性质的该量测值与该性质的一目标值；基于该比较而判定是否产生一控制信号；以及若基于该比较而产生一控制信号，则借由基于该控制信号修改该光学系统之一态样来调整该光束中之同调性之该数量，以减小在该特定脉冲之后的一脉冲之同调性之一数量。

2. 发明专利

TWI645451B 脈衝光束的光譜特徵之控制有权
简体标题：脉冲光束的光谱特征之控制
公开(公告)号：TWI645451B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106135285
申请日：2017-10-16
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：康利維爾拉厄爾 , CONLEY, WILLARD EARL , 梅森艾瑞克安德爾斯 , MASON, ERIC ANDERS , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

3. 发明专利

TWI543482B 兩腔室氣體放電雷射系統中自動氣體最佳化之系統及方法有权
简体标题：两腔室气体放电激光系统中自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TWI543482B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW101123021
申请日：2012-06-27
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文M , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 索恩斯約書亞J , THORNES, JOSHUA JON , 萊格斯丹尼爾J , RIGGS, DANIEL JASON , 江銳 , JIANG, RUI
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/2251 , H01S3/2366

4. 发明专利

TW201920936A 在氣體放電光源中之氟偵測审中-公开
简体标题：在气体放电光源中之氟侦测
公开(公告)号：TW201920936A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133095
申请日：2018-09-20
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 羅思齊 , LUO, EDWARD SIQI , 佩德瑪邦度甘瑪萊拉拉吉 G , PADMABANDU, GAMARALALAGE G
IPC分类号： G01N21/3504 , G01N1/22
摘要：本發明係關於一種設備，包括：一氣體維持系統，其具有流體地連接至一或多個氣體放電室之一氣體供應系統；一偵測設備，其流體地連接至每個氣體放電室；以及一控制系統，其連接至該氣體維持系統及該偵測設備。該偵測設備包括：界定一反應空腔之一容器，其容納一金屬氧化物且流體地連接至該氣體放電室以用於接收包括該反應空腔中來自該氣體放電室之氟之混合氣體，該容器實現所接收到之混合氣體中之氟與該金屬氧化物之間的一反應以形成包括氧氣之一新氣體混合物；及一氧氣感測器，其流體地連接至該新氣體混合物以感測該新氣體混合物內之氧氣之一量。該控制系統經組態以估計接收到之混合氣體中氟之一濃度。
简体摘要：本发明系关于一种设备，包括：一气体维持系统，其具有流体地连接至一或多个气体放电室之一气体供应系统；一侦测设备，其流体地连接至每个气体放电室；以及一控制系统，其连接至该气体维持系统及该侦测设备。该侦测设备包括：界定一反应空腔之一容器，其容纳一金属氧化物且流体地连接至该气体放电室以用于接收包括该反应空腔中来自该气体放电室之氟之混合气体，该容器实现所接收到之混合气体中之氟与该金属氧化物之间的一反应以形成包括氧气之一新气体混合物；及一氧气传感器，其流体地连接至该新气体混合物以传感该新气体混合物内之氧气之一量。该控制系统经组态以估计接收到之混合气体中氟之一浓度。

5. 发明专利

TW201812367A 調整光束之同調性之數量审中-公开
简体标题：调整光束之同调性之数量
公开(公告)号：TW201812367A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106126314
申请日：2017-08-04
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：畢比湯瑪士費德列克艾倫二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G02B6/43 , G02F1/025
CPC分类号： G01J9/00 , G01J1/4257 , G01J2009/006 , G02B5/005 , G02B26/0825 , G02B27/0988 , G03F7/70058 , G03F7/70583
摘要：用於控制一光學系統之技術包括：存取自該光學系統發射之一脈衝式光束之一特定脈衝之一性質的一量測值，該性質與該光束之同調性之一數量有關；比較該光束之該性質的該量測值與該性質的一目標值；基於該比較而判定是否產生一控制信號；以及若基於該比較而產生一控制信號，則藉由基於該控制信號修改該光學系統之一態樣來調整該光束中之同調性之該數量，以減小在該特定脈衝之後的一脈衝之同調性之一數量。
简体摘要：用于控制一光学系统之技术包括：存取自该光学系统发射之一脉冲式光束之一特定脉冲之一性质的一量测值，该性质与该光束之同调性之一数量有关；比较该光束之该性质的该量测值与该性质的一目标值；基于该比较而判定是否产生一控制信号；以及若基于该比较而产生一控制信号，则借由基于该控制信号修改该光学系统之一态样来调整该光束中之同调性之该数量，以减小在该特定脉冲之后的一脉冲之同调性之一数量。

6. 发明专利

TWI688796B 控制光學系統之方法有权
简体标题：控制光学系统之方法
公开(公告)号：TWI688796B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW106126314
申请日：2017-08-04
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：畢比湯瑪士費德列克艾倫二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G02B6/43 , G02F1/025

7. 发明专利

TWI629458B 用於量測脈衝光束之光譜特徵的度量衡系統及方法有权
简体标题：用于量测脉冲光束之光谱特征的度量衡系统及方法
公开(公告)号：TWI629458B
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：TW105114464
申请日：2016-05-10
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞強 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： G01J3/45 , G01J3/26

8. 发明专利

TWI625509B 用於雷射源之線上校準的系統及方法有权
简体标题：用于激光源之在线校准的系统及方法
公开(公告)号：TWI625509B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13

9. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

10. 发明专利

TWI696821B 在氣體放電光源中之氟偵測有权
简体标题：在气体放电光源中之氟侦测
公开(公告)号：TWI696821B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW107133095
申请日：2018-09-20
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 羅思齊 , LUO, EDWARD SIQI , 佩德瑪邦度甘瑪萊拉拉吉 G , PADMABANDU, GAMARALALAGE G
IPC分类号： G01N21/3504 , G01N1/22

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