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1. 发明专利

TW201809590A 利用可調波長雷射之精確定位系統审中-公开
简体标题：利用可调波长激光之精确定位系统
公开(公告)号：TW201809590A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118824
申请日：2017-06-07
申请人：美商賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B9/02 , G01N21/45 , G01J3/45
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02 , G01B9/02004 , G01B9/02091 , H01S5/06
摘要：一種用於決定測試腔特性的方法，該方法包括針對可調雷射的頻寬內的多個光學頻率中的每一個，測量來自測試腔與具有已知特性的參考腔的干涉訊號。該方法包括根據來自參考腔與已知特性參考腔的測得的干涉訊號，決定多個光學頻率的值，以及使用多個光學頻率的已定值來決定測試腔的特性。
简体摘要：一种用于决定测试腔特性的方法，该方法包括针对可调激光的带宽内的多个光学频率中的每一个，测量来自测试腔与具有已知特性的参考腔的干涉信号。该方法包括根据来自参考腔与已知特性参考腔的测得的干涉信号，决定多个光学频率的值，以及使用多个光学频率的已定值来决定测试腔的特性。

2. 发明专利

TWI646303B 決定裝置之儀器轉移函數之方法以及系統有权
简体标题：决定设备之仪器转移函数之方法以及系统
公开(公告)号：TWI646303B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW105144147
申请日：2016-12-30
申请人：美商賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/30 , G01B9/02

3. 发明专利

TWI489081B 使用編碼器系統的低同調干涉技術有权
简体标题：使用编码器系统的低同调干涉技术
公开(公告)号：TWI489081B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW101141503
申请日：2012-11-08
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊思禮L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/14
CPC分类号： G01B9/0209 , G01D5/266 , G01D5/268 , G01D5/34723

4. 发明专利

TWI489083B 使用相位移之干涉量測信號的同調掃描干涉量測方法有权
简体标题：使用相位移之干涉量测信号的同调扫描干涉量测方法
公开(公告)号：TWI489083B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW103122025
申请日：2014-06-26
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：古魯特彼得J , GROOT, PETER J. , 迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02081 , G01B11/2441 , G01B2290/70

5. 发明专利

TW201428229A 降低雜訊的位置監控系統审中-公开
简体标题：降低噪声的位置监控系统
公开(公告)号：TW201428229A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102135792
申请日：2013-10-03
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊思禮L , DECK, LESLIE L. , 衛斯里亞歷山德勒D , WESLEY, ALEXANDER D. , 福爾摩斯麥可洛厄爾 , HOLMES, MICHAEL LOWELL , 卡安吉羅斯羅伯M , CARANGELO, ROBERT M. , 利森諾珍 , LIESENER, JAN
IPC分类号： G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02044 , G01B9/02062 , G01B9/02065 , G01B9/0207 , G01B9/02072 , G01B9/02074 , G01B2290/60
摘要：一種干涉技術系統，適用於監控一物體的位置改變，上述干涉技術系統包括一光譜寬頻光源以及具有一干涉儀之一感應器模組，該干涉儀從上述光源沿著分開路徑引導光部分。該系統包括具有一偵測器之一強度監控器，該偵測器用於測量由光源導出之額外光的強度且產稱一監控輸出訊號。該系統包括一電子處理模組，用於跟據上述監控輸出訊號處理一感測器輸出訊號用以解釋該光源之光輸出的強度波動，且判定關於物體位置改變的資訊。上述強度監控器藉由波長函數或光譜相關之強度波動來表示強度波動。
简体摘要：一种干涉技术系统，适用于监控一物体的位置改变，上述干涉技术系统包括一光谱宽带光源以及具有一干涉仪之一感应器模块，该干涉仪从上述光源沿着分开路径引导光部分。该系统包括具有一侦测器之一强度监控器，该侦测器用于测量由光源导出之额外光的强度且产称一监控输出信号。该系统包括一电子处理模块，用于跟据上述监控输出信号处理一传感器输出信号用以解释该光源之光输出的强度波动，且判定关于物体位置改变的信息。上述强度监控器借由波长函数或光谱相关之强度波动来表示强度波动。

6. 发明专利

TW201514443A 使用相位移之干涉量測信號的同調掃描干涉量測方法审中-公开
简体标题：使用相位移之干涉量测信号的同调扫描干涉量测方法
公开(公告)号：TW201514443A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103122025
申请日：2014-06-26
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：古魯特彼得J , GROOT, PETER J. , 迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02081 , G01B11/2441 , G01B2290/70
摘要：低同調掃描系統和用以操作相同系統的方法，包括同時測量對應於強度圖案的兩相位移干涉圖，分別在第1和第2偵測器上以參考光干涉從測試物反射的測試光而產生，其中測試光和參考光得自共同的來源。第1偵測器測量的干涉圖定義第1組的掃描干涉量測信號，以及第2偵測器測量的干涉圖定義第2組的掃描干涉量測信號，對應於測試物上大體上相同的多重橫向位置，其中第2組的各干涉量測信號係相對於對應的第1組的各干涉量測信號相位移。電子處理器處理互相獨立或以結合方式之第1組和第2組的干涉量測信號，得到關於測試物的資訊。
简体摘要：低同调扫描系统和用以操作相同系统的方法，包括同时测量对应于强度图案的两相位移干涉图，分别在第1和第2侦测器上以参考光干涉从测试物反射的测试光而产生，其中测试光和参考光得自共同的来源。第1侦测器测量的干涉图定义第1组的扫描干涉量测信号，以及第2侦测器测量的干涉图定义第2组的扫描干涉量测信号，对应于测试物上大体上相同的多重横向位置，其中第2组的各干涉量测信号系相对于对应的第1组的各干涉量测信号相位移。电子处理器处理互相独立或以结合方式之第1组和第2组的干涉量测信号，得到关于测试物的信息。

7. 发明专利

TW201738529A 最佳化干涉儀之光學性能之方法以及裝置审中-公开
简体标题：最优化干涉仪之光学性能之方法以及设备
公开(公告)号：TW201738529A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105144147
申请日：2016-12-30
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/30 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02072 , G01B11/30 , G01M11/0292
摘要：方法包括利用裝置於裝置之第一表面測量具有一個或者多個包含已知形貌之表面特徵之人工製品之第一表面場。方法包括根據包含一個或者多個表面特徵之第一表面輪廓之至少一部分決定第一表面之第一聚焦計量。方法包括將第一表面場數位化轉換至裝置之第二表面之第二表面場、自第二表面場取得第二表面輪廓、以及計算第二表面輪廓之第二聚焦計量、並根據兩個或者多個聚焦計量值決定用於評估儀器轉移函數之最佳表面。方法包括根據自最佳表面之表面場所取得之表面輪廓之至少一部分決定裝置之儀器轉移函數。
简体摘要：方法包括利用设备于设备之第一表面测量具有一个或者多个包含已知形貌之表面特征之人工制品之第一表面场。方法包括根据包含一个或者多个表面特征之第一表面轮廓之至少一部分决定第一表面之第一聚焦计量。方法包括将第一表面场数码化转换至设备之第二表面之第二表面场、自第二表面场取得第二表面轮廓、以及计算第二表面轮廓之第二聚焦计量、并根据两个或者多个聚焦计量值决定用于评估仪器转移函数之最佳表面。方法包括根据自最佳表面之表面场所取得之表面轮廓之至少一部分决定设备之仪器转移函数。

8. 发明专利

TWI471535B 用來判斷關於沿著編碼器刻度之自由度改變的資訊的方法、編碼器系統、光刻系統、光刻方法有权
简体标题：用来判断关于沿着编码器刻度之自由度改变的信息的方法、编码器系统、光刻系统、光刻方法
公开(公告)号：TWI471535B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW100107548
申请日：2011-03-07
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊思禮L , DECK, LESLIE L. , D E 古魯特彼德J , DE GROOT, PETER J. , 史柯洛德麥可 , SCHROEDER, MICHAEL
IPC分类号： G01D5/347 , G01B9/02
CPC分类号： G01D5/266 , G01D5/38

9. 发明专利

TWI431243B 使用於干涉儀中的光學總成、干涉系統及干涉方法有权
简体标题：使用于干涉仪中的光学总成、干涉系统及干涉方法
公开(公告)号：TWI431243B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW099119849
申请日：2010-06-18
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人： D E 古魯特彼德J , DE GROOT, PETER J. , 迪克萊思禮L , DECK, LESLIE L. , 貝根詹姆士F , BIEGEN, JAMES F. , 克里歐保羅斯克里斯 , KOLIOPOULOS, CHRIS
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02058 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02059 , G01B9/0209 , G02B21/14

10. 发明专利

TWI425184B 低同調性掃描干涉技術的掃瞄誤差校正之系統、方法、裝置，及其程序有权
简体标题：低同调性扫描干涉技术的扫瞄误差校正之系统、方法、设备，及其进程
公开(公告)号：TWI425184B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW098140066
申请日：2009-11-25
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：戴維森馬克 , DAVIDSON, MARK , 利森諾珍 , LIESENER, JAN , DE 古魯特彼德 , DE GROOT, PETER , 柯隆納迪雷加塞維爾 , COLONNA DE LEGA, XAVIER , 德克萊思利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02007 , G01B9/0201 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02068 , G01B9/02077 , G01B11/2441 , G01B2290/45 , G01B2290/70 , Y10T29/49002

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