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1. 发明专利

TWI682150B 自動校準光干涉裝置及光干涉裝置自動校準方法有权
简体标题：自动校准光干涉设备及光干涉设备自动校准方法
公开(公告)号：TWI682150B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW107147454
申请日：2018-12-27
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：江鴻志 , CHIANG, HUNG CHIH , 張正宜 , CHANG, CHENG YI , 張庭瑋 , CHANG, TING WEI , 張啟伸 , CHANG, CHI SHEN
IPC分类号： G01J9/02 , G01J3/45

2. 发明专利

TW201814239A 干涉儀及其成像方法审中-公开
简体标题：干涉仪及其成像方法
公开(公告)号：TW201814239A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106127569
申请日：2017-08-15
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張庭瑋 , CHANG, TING-WEI , 李源欽 , LEE, YUAN-CHIN , 張啟伸 , CHANG, CHI-SHEN , 江鴻志 , CHIANG, HUNG-CHIH , 陳順成 , CHEN, SHUEN-CHEN
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02
摘要：具解調功能的干涉儀，適於檢測一待測樣品。該干涉儀包括：一光源，提供一光束；一分光元件，接收光源所發出的光束，並將光束分成一第一入射光及一第二入射光，其中第一入射光入射至待測樣品並反射成一第一反射光；一反射元件，接收第二入射光並反射成一第二反射光；一光偵測元件，接收第一反射光與第二反射光，以產生一干涉信號；一信號處理模組，耦接至光偵測元件，信號處理模組接收干涉信號並對干涉信號進行空間微分處理，以得到待測樣品之一解調影像。
简体摘要：具解调功能的干涉仪，适于检测一待测样品。该干涉仪包括：一光源，提供一光束；一分光组件，接收光源所发出的光束，并将光束分成一第一入射光及一第二入射光，其中第一入射光入射至待测样品并反射成一第一反射光；一反射组件，接收第二入射光并反射成一第二反射光；一光侦测组件，接收第一反射光与第二反射光，以产生一干涉信号；一信号处理模块，耦接至光侦测组件，信号处理模块接收干涉信号并对干涉信号进行空间微分处理，以得到待测样品之一解调影像。

3. 发明专利

TW201732219A 波前分析的裝置與方法审中-公开
简体标题：波前分析的设备与方法
公开(公告)号：TW201732219A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142697
申请日：2016-12-22
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：威格曼尤瑞奇 , WEGMANN, ULRICH
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02 , G01B11/24
CPC分类号： G03F7/706 , G01M11/0271
摘要：本發明關於用於波前分析的裝置及方法。用於波前分析的裝置係設計用以分析通過一光學系統之至少一光波的波前，且包含至少一照明光罩(105、205、305、405、406、407)、至少一第一光柵(120、220、320、420)，其具有至少一第一光柵結構並從一待分析波前產生一干涉圖於一預定義平面中，該待分析波前從照明光罩行進並通過光學系統、至少一第二光柵(130、230、330、430)，其配置於該預定義平面中，該至少一第二光柵具有至少一第二結構並藉由第二光柵結構與由第一光柵所產生的干涉圖的疊加而產生一疊加圖案、以及至少一偵測器(140、240、340、440)，用以偵測該疊加圖案。
简体摘要：本发明关于用于波前分析的设备及方法。用于波前分析的设备系设计用以分析通过一光学系统之至少一光波的波前，且包含至少一照明光罩(105、205、305、405、406、407)、至少一第一光栅(120、220、320、420)，其具有至少一第一光栅结构并从一待分析波前产生一干涉图于一预定义平面中，该待分析波前从照明光罩行进并通过光学系统、至少一第二光栅(130、230、330、430)，其配置于该预定义平面中，该至少一第二光栅具有至少一第二结构并借由第二光栅结构与由第一光栅所产生的干涉图的叠加而产生一叠加图案、以及至少一侦测器(140、240、340、440)，用以侦测该叠加图案。

4. 发明专利

TWI639809B 干涉儀及其成像方法有权
简体标题：干涉仪及其成像方法
公开(公告)号：TWI639809B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106127569
申请日：2017-08-15
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張庭瑋 , CHANG, TING-WEI , 李源欽 , LEE, YUAN-CHIN , 張啟伸 , CHANG, CHI-SHEN , 江鴻志 , CHIANG, HUNG-CHIH , 陳順成 , CHEN, SHUEN-CHEN
IPC分类号： G01B9/02 , G01J9/02

5. 发明专利

TW201807389A 決定波前像差的測量系統审中-公开
简体标题：决定波前像差的测量系统
公开(公告)号：TW201807389A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106122691
申请日：2017-07-06
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：威格曼尤瑞奇 , WEGMANN, ULRICH
IPC分类号： G01J9/02 , G01J3/18
CPC分类号： G01M11/0271 , G01J9/0215 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要：本發明關於用以決定光學成像系統(12)的波前像差的量測系統(10)，其包含用以使量測輻射(26)通過成像系統(12)的一照射裝置(24)、設置在成像系統(12)下游且以可橫向於成像系統(12)的一光學軸(20)位移的方式配置於量測輻射的光束路徑(40)中的一分析光柵(30)、以及用以記錄量測輻射(26)的輻射分布的一偵測裝置(32)。量測系統(10)組態以在分析光柵(30)的複數個位移位置處產生由分析光柵(30)所形成的相應干涉圖(62)，用於記錄在偵測裝置(32)上。此外，量測系統(10)組態以藉由通過光學成像系統(12)的一控制光束路徑(46)在至少其中一位移位置處確定分析光柵(30)的至少一位置資訊項(78)。
简体摘要：本发明关于用以决定光学成像系统(12)的波前像差的量测系统(10)，其包含用以使量测辐射(26)通过成像系统(12)的一照射设备(24)、设置在成像系统(12)下游且以可横向于成像系统(12)的一光学轴(20)位移的方式配置于量测辐射的光束路径(40)中的一分析光栅(30)、以及用以记录量测辐射(26)的辐射分布的一侦测设备(32)。量测系统(10)组态以在分析光栅(30)的复数个位移位置处产生由分析光栅(30)所形成的相应干涉图(62)，用于记录在侦测设备(32)上。此外，量测系统(10)组态以借由通过光学成像系统(12)的一控制光束路径(46)在至少其中一位移位置处确定分析光栅(30)的至少一位置信息项(78)。

6. 发明专利

TWI428559B 在低同調干涉下系統性效應之補償方法和系統有权
简体标题：在低同调干涉下系统性效应之补偿方法和系统
公开(公告)号：TWI428559B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW096126320
申请日：2007-07-19
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：彼德德葛魯特 , DE GROOT, PETER
IPC分类号： G01B11/24 , G01J9/02
CPC分类号： G01B9/0201 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B9/02084 , G01B9/0209 , G01B11/2441 , G01B2290/70

7. 发明专利

TW202018261A 共光程外差式微小偏極旋轉測量計及方法审中-公开
简体标题：共光程外差式微小偏极旋转测量计及方法
公开(公告)号：TW202018261A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107140401
申请日：2018-11-14
申请人：國立虎尾科技大學 , NATIONAL FORMOSA UNIVERSITY
发明人：邱銘宏 , CHIU, MING HUNG , 何珈濃 , HE, JIA NONG
IPC分类号： G01J9/02 , G01J1/22
摘要：本發明係有關一種共光程外差式微小偏極旋轉測量計及方法，其包括外差光源單元及量測架構單元。外差光源單元用以發出外差光源。量測架構單元包含分光鏡、第一檢偏板、第二檢偏板、第一光偵測器、第二光偵測器、二分之一波片及相位量測模組。分光鏡用以將外差光源分光成穿透光與反射光，反射光經第一檢偏板與第一光偵測器，並以第一光偵測器所偵測的光信號作為參考信號。穿透光經過待測物與二分之一波片，再第二檢偏板與第二光偵測器，並以第二光偵測器所偵測的光信號作為測試信號，再以相位量測模組計算出測試信號與參考信號之間的相位差，藉由所測得之相位差而比對出待測物的偏極旋轉量以供利用，俾能藉由干涉儀採用共光程外差干涉儀架構設置，所以可不受外在環境擾動影響，故可有效提升相位解析度以及所得的量測物理量值解析度。
简体摘要：本发明系有关一种共光程外差式微小偏极旋转测量计及方法，其包括外差光源单元及量测架构单元。外差光源单元用以发出外差光源。量测架构单元包含分光镜、第一检偏板、第二检偏板、第一光侦测器、第二光侦测器、二分之一波片及相位量测模块。分光镜用以将外差光源分光成穿透光与反射光，反射光经第一检偏板与第一光侦测器，并以第一光侦测器所侦测的光信号作为参考信号。穿透光经过待测物与二分之一波片，再第二检偏板与第二光侦测器，并以第二光侦测器所侦测的光信号作为测试信号，再以相位量测模块计算出测试信号与参考信号之间的相位差，借由所测得之相位差而比对出待测物的偏极旋转量以供利用，俾能借由干涉仪采用共光程外差干涉仪架构设置，所以可不受外在环境扰动影响，故可有效提升相位分辨率以及所得的量测物理量值分辨率。

8. 发明专利

TWI688754B 共光程外差式微小偏極旋轉測量計及方法有权
简体标题：共光程外差式微小偏极旋转测量计及方法
公开(公告)号：TWI688754B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW107140401
申请日：2018-11-14
申请人：國立虎尾科技大學 , NATIONAL FORMOSA UNIVERSITY
发明人：邱銘宏 , CHIU, MING HUNG , 何珈濃 , HE, JIA NONG
IPC分类号： G01J9/02 , G01J1/22

9. 发明专利

TWI664402B 相位差測定裝置及相位差測定方法有权
简体标题：相位差测定设备及相位差测定方法
公开(公告)号：TWI664402B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW107118746
申请日：2018-05-31
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岸本良 , KISHIMOTO, RYO , 山本真吾 , YAMAMOTO, SHINGO
IPC分类号： G01J9/02

10. 发明专利

TWI453381B 波面像差測量裝置及方法、以及波面像差調整方法有权
简体标题：波面像差测量设备及方法、以及波面像差调整方法
公开(公告)号：TWI453381B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW097132502
申请日：2008-08-26
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：根岸武利 , NEGISHI TAKETOSHI
IPC分类号： G01J9/02
CPC分类号： G01M11/0257

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