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1. 发明专利

TW201802028A 溶膠組成物、氣凝膠複合體、帶氣凝膠複合體的支撐構件和絕熱材料审中-公开
简体标题：溶胶组成物、气凝胶复合体、带气凝胶复合体的支撑构件和绝热材料
公开(公告)号：TW201802028A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106109626
申请日：2017-03-23
申请人：日立化成股份有限公司 , HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
发明人：岩永抗太 , IWANAGA, KOUTA , 小竹智彦 , KOTAKE, TOMOHIKO , 牧野竜也 , MAKINO, TATSUYA , 宮武正人 , MIYATAKE, MASATO , 高安慧 , TAKAYASU, SATOSHI
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/16 , C08L83/04 , C08K3/36 , C08J3/075 , C08J9/28 , B32B9/00
CPC分类号： B32B9/00 , C01B33/12 , C01B33/16 , C08G77/44 , C08J3/075 , C08J9/28 , C08K3/36 , C08L83/04
摘要：本發明是有關於一種氣凝膠複合體形成用溶膠組成物，其為用以形成絕熱性及柔軟性優異的氣凝膠複合體的具有充分的可使用時間的溶膠組成物，且含有：選自由具有水解性官能基或縮合性官能基的矽化合物及具有水解性官能基的矽化合物的水解產物所組成的群組中的至少一種、以及平均一次粒徑為5 nm～300 nm或比表面積為10 m2/g～600 m2/g的二氧化矽粒子。
简体摘要：本发明是有关于一种气凝胶复合体形成用溶胶组成物，其为用以形成绝热性及柔软性优异的气凝胶复合体的具有充分的可使用时间的溶胶组成物，且含有：选自由具有水解性官能基或缩合性官能基的硅化合物及具有水解性官能基的硅化合物的水解产物所组成的群组中的至少一种、以及平均一次粒径为5 nm～300 nm或比表面积为10 m2/g～600 m2/g的二氧化硅粒子。

2. 发明专利

TWI558866B 三維有序微結構之製造方法以及自組裝粒子之裝置有权
简体标题：三维有序微结构之制造方法以及自组装粒子之设备
公开(公告)号：TWI558866B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW103117724
申请日：2014-05-21
申请人：天銻材料股份有限公司
发明人：吳樸偉 , WU, PU WEI , 廖晨宏 , LIAO, CHEN HONG , 黃柏翰 , HUANG, BO HAN
IPC分类号： C30B30/02 , C01B33/14

3. 发明专利

TWI485236B 研磨用組成物及使用該研磨用組成物之研磨方法有权
简体标题：研磨用组成物及使用该研磨用组成物之研磨方法
公开(公告)号：TWI485236B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW100129174
申请日：2011-08-16
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：水野敬廣 , MIZUNO, TAKAHIRO , 橫田周吾 , YOKOTA, SHUUGO , 大和泰之 , YAMATO, YASUYUKI , 赤塚朝彥 , AKATSUKA, TOMOHIKO
IPC分类号： C09K3/14 , C01B33/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053

4. 发明专利

TW201502262A 膠體二氧化矽研磨材及使用其之合成石英玻璃基板的製造方法审中-公开
简体标题：胶体二氧化硅研磨材及使用其之合成石英玻璃基板的制造方法
公开(公告)号：TW201502262A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103112143
申请日：2014-04-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C09K3/14 , C01B33/14 , B24B7/24
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1454
摘要：本發明係提供一種膠體二氧化矽研磨材，其含有含真球型膠體二氧化矽研磨粒與會合型膠體二氧化矽研磨粒之膠體溶液。依據本發明，獲得比使用以往之膠體二氧化矽研磨更快速之研磨速率，且抑制基板表面之微小缺陷，可獲得高的平滑性。且，亦可利用作為自拋光(lap)面研磨時之氧化鈰替代研磨材，可成為解決目前之稀土(rare earth)問題之一部分。
简体摘要：本发明系提供一种胶体二氧化硅研磨材，其含有含真球型胶体二氧化硅研磨粒与会合型胶体二氧化硅研磨粒之胶体溶液。依据本发明，获得比使用以往之胶体二氧化硅研磨更快速之研磨速率，且抑制基板表面之微小缺陷，可获得高的平滑性。且，亦可利用作为自抛光(lap)面研磨时之氧化铈替代研磨材，可成为解决目前之稀土(rare earth)问题之一部分。

5. 发明专利

TW201919998A 含有二氧化矽之絕緣性組成物审中-公开
简体标题：含有二氧化硅之绝缘性组成物
公开(公告)号：TW201919998A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131567
申请日：2018-09-07
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：末村尚彦 , SUEMURA, NAOHIKO , 杉澤雅敏 , SUGISAWA, MASATOSHI
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/145 , H01B3/30
摘要： [課題]提供包含二氧化矽粒子及樹脂及硬化劑，抑制並減低自二氧化矽粒子之Na離子之溶出，且絕緣性之歷時變化少之絕緣性組成物。 [解決手段]其係包含二氧化矽粒子(A)及樹脂(B)及硬化劑(C)之絕緣性組成物，其中，前述二氧化矽粒子(A)為將SiO2濃度3.8質量%之該水溶液以121℃、20小時加熱後之溶出Na離子量為40ppm/SiO2以下之二氧化矽粒子。尤其，二氧化矽粒子(A)為加熱後之溶出Na離子量為5～38ppm/SiO2之二氧化矽粒子，又，以M/Si莫耳比為0.001～0.02之比例包含多價金屬氧化物之多價金屬M，且粒子中之Na2O/SiO2質量比為700～1300ppm之二氧化矽粒子，其中，於前述粒子表面上，係形成Na2O/SiO2質量比為10～400ppm之0.1～1.5nm之層，並為具有5～40nm之平均粒子徑之二氧化矽粒子。
简体摘要： [课题]提供包含二氧化硅粒子及树脂及硬化剂，抑制并减低自二氧化硅粒子之Na离子之溶出，且绝缘性之历时变化少之绝缘性组成物。 [解决手段]其系包含二氧化硅粒子(A)及树脂(B)及硬化剂(C)之绝缘性组成物，其中，前述二氧化硅粒子(A)为将SiO2浓度3.8质量%之该水溶液以121℃、20小时加热后之溶出Na离子量为40ppm/SiO2以下之二氧化硅粒子。尤其，二氧化硅粒子(A)为加热后之溶出Na离子量为5～38ppm/SiO2之二氧化硅粒子，又，以M/Si莫耳比为0.001～0.02之比例包含多价金属氧化物之多价金属M，且粒子中之Na2O/SiO2质量比为700～1300ppm之二氧化硅粒子，其中，于前述粒子表面上，系形成Na2O/SiO2质量比为10～400ppm之0.1～1.5nm之层，并为具有5～40nm之平均粒子径之二氧化硅粒子。

6. 发明专利

TW201821550A 著色組合物审中-公开
简体标题：着色组合物
公开(公告)号：TW201821550A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW105140947
申请日：2016-12-09
申请人：艾迪科股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：前田洋介 , MAEDA, YOSUKE
IPC分类号： C09D4/02 , C09D7/12 , C09B23/01 , C01B33/14 , G02B5/20
摘要：一種著色組合物，其含有花青化合物之至少一種(α)、具有乙烯性不飽和鍵及親水性基之聚合性化合物(β)以及平均粒徑5 nm～100 μm之氧化矽粒子(γ)，並且上述平均粒徑5 nm～100 μm之氧化矽粒子(γ)之含量為著色組合物之固形物中之32～82質量%。相對於具有乙烯性不飽和鍵及親水性基之聚合性化合物(β)之固形物與上述平均粒徑5 nm～100 μm之氧化矽粒子(γ)之固形物的合計量100質量份，含有合計0.01～10.0質量份之花青化合物之至少一種(α)。上述平均粒徑5 nm～100 μm之氧化矽粒子(γ)較佳為膠體氧化矽。
简体摘要：一种着色组合物，其含有花青化合物之至少一种(α)、具有乙烯性不饱和键及亲水性基之聚合性化合物(β)以及平均粒径5 nm～100 μm之氧化硅粒子(γ)，并且上述平均粒径5 nm～100 μm之氧化硅粒子(γ)之含量为着色组合物之固形物中之32～82质量%。相对于具有乙烯性不饱和键及亲水性基之聚合性化合物(β)之固形物与上述平均粒径5 nm～100 μm之氧化硅粒子(γ)之固形物的合计量100质量份，含有合计0.01～10.0质量份之花青化合物之至少一种(α)。上述平均粒径5 nm～100 μm之氧化硅粒子(γ)较佳为胶体氧化硅。

7. 发明专利

TW201731766A 含凝膠粉碎物液體之製造方法审中-公开
简体标题：含凝胶粉碎物液体之制造方法
公开(公告)号：TW201731766A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106103436
申请日：2017-02-02
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：服部大輔 , HATTORI, DAISUKE , 柳成鎮 , RYU, SEONG JIN , 細川和人 , HOSOKAWA, KAZUHITO
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/152
CPC分类号： C01B33/157 , C08J3/02
摘要：本發明之目的在於提供一種均勻性極為優異之含凝膠粉碎物液體的製造方法。本發明之含凝膠粉碎物液體的製造方法，特徵在於包含下列步驟：製造凝膠的凝膠製造步驟、將前述凝膠中的溶劑置換為其他溶劑的溶劑置換步驟、以及將前述凝膠於前述其他溶劑中粉碎的凝膠粉碎步驟；該製造方法係將前述粉碎步驟分成多個粉碎階段進行，在前述溶劑置換步驟後且於最初的粉碎階段開始前還包含一濃度調整步驟，進行前述含凝膠之液體的濃度調整，並在最初的粉碎階段開始之後即不進行前述含凝膠之液體的濃度調整。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种均匀性极为优异之含凝胶粉碎物液体的制造方法。本发明之含凝胶粉碎物液体的制造方法，特征在于包含下列步骤：制造凝胶的凝胶制造步骤、将前述凝胶中的溶剂置换为其他溶剂的溶剂置换步骤、以及将前述凝胶于前述其他溶剂中粉碎的凝胶粉碎步骤；该制造方法系将前述粉碎步骤分成多个粉碎阶段进行，在前述溶剂置换步骤后且于最初的粉碎阶段开始前还包含一浓度调整步骤，进行前述含凝胶之液体的浓度调整，并在最初的粉碎阶段开始之后即不进行前述含凝胶之液体的浓度调整。

8. 发明专利

TW201714824A 低折射率層、積層薄膜、低折射率層的製造方法、積層薄膜的製造方法、光學構件及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：低折射率层、积层薄膜、低折射率层的制造方法、积层薄膜的制造方法、光学构件及影像显示设备
公开(公告)号：TW201714824A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105128742
申请日：2016-09-06
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：服部大輔 , HATTORI, DAISUKE , 細川和人 , HOSOKAWA, KAZUHITO
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/16 , C08J5/18 , G02B1/04
摘要： [課題]本發明目的在於提供一種即使厚度厚也可兼顧低折射率及高機械強度的低折射率層。 [解決手段]本發明之低折射率層係由空隙層所形成，其特徵在於：於前述空隙層中更含有內部中空之中空粒子，且前述低折射率層之折射率為1.25以下。
简体摘要： [课题]本发明目的在于提供一种即使厚度厚也可兼顾低折射率及高机械强度的低折射率层。 [解决手段]本发明之低折射率层系由空隙层所形成，其特征在于：于前述空隙层中更含有内部中空之中空粒子，且前述低折射率层之折射率为1.25以下。

9. 发明专利

TWI534084B 用於製造透光防熱元件之材料及用彼製得之防光元件及製法有权
简体标题：用于制造透光防热组件之材料及用彼制得之防光组件及制法
公开(公告)号：TWI534084B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW103123918
申请日：2009-06-22
申请人：傑瓦堤斯股份有限公司 , GEVARTIS AG
发明人：西德爾赫斯特 , SEIDEL, HORST
IPC分类号： C01B33/14 , C09C1/30 , C09K21/02 , B32B17/10
CPC分类号： C09K21/14 , B32B17/069 , C01B33/141

10. 发明专利

TWI531534B 金屬氧化物粉末及其製造方法有权
简体标题：金属氧化物粉末及其制造方法
公开(公告)号：TWI531534B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW101115174
申请日：2012-04-27
申请人：德山股份有限公司 , TOKUYAMA CORPORATION
发明人：藤本若菜 , FUJIMOTO, WAKANA , 福壽忠弘 , FUKUJU, TADAHIRO , 沼寬 , NUMA, HIROSHI
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/16 , C09K5/14
CPC分类号： C01B33/159 , C01B13/328 , C01B33/18 , C01P2004/32 , C01P2004/34 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , Y10T428/2982

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