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1. 发明专利

TW202030786A 降低載體磨耗的矽晶圓之研磨方法及其使用之研磨液审中-公开
简体标题：降低载体磨耗的硅晶圆之研磨方法及其使用之研磨液
公开(公告)号：TW202030786A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108133967
申请日：2019-09-20
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：山口隼人 , YAMAGUCHI, HAYATO , 棚次悠介 , TANATSUGU, YUSUKE , 石水英一郎 , ISHIMIZU, EIICHIRO
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
摘要：本發明提供一種研磨方法，其係藉由使用保持矽晶圓的載體的研磨裝置來進行該矽晶圓的研磨的方法，並且可降低載體磨耗。一種研磨方法，其係前述研磨裝置所使用的研磨液以0.1質量%～5質量%的二氧化矽濃度含有二氧化矽粒子，該二氧化矽粒子含有：以BET法測得的平均一次粒徑為4nm～30nm的粒徑，藉由電子束穿透投影像所求得的長軸的平均粒徑定為(X2)nm，以BET法測得的平均一次粒徑定為(X1)nm時，(X2/X1)比為1.2～1.8的二氧化矽粒子(A)；及以BET法測得的平均一次粒徑為超過30nm且在50nm以下的粒徑，藉由電子束穿透投影像所求得的長軸的平均粒徑定為(X2)nm，以BET法測得的平均一次粒徑定為(X1)nm時，(X2/X1)比為1.2～1.8的二氧化矽粒子(B)，前述二氧化矽粒子(A)：前述二氧化矽粒子(B)的質量比為100：0～85：15。
简体摘要：本发明提供一种研磨方法，其系借由使用保持硅晶圆的载体的研磨设备来进行该硅晶圆的研磨的方法，并且可降低载体磨耗。一种研磨方法，其系前述研磨设备所使用的研磨液以0.1质量%～5质量%的二氧化硅浓度含有二氧化硅粒子，该二氧化硅粒子含有：以BET法测得的平均一次粒径为4nm～30nm的粒径，借由电子束穿透投影像所求得的长轴的平均粒径定为(X2)nm，以BET法测得的平均一次粒径定为(X1)nm时，(X2/X1)比为1.2～1.8的二氧化硅粒子(A)；及以BET法测得的平均一次粒径为超过30nm且在50nm以下的粒径，借由电子束穿透投影像所求得的长轴的平均粒径定为(X2)nm，以BET法测得的平均一次粒径定为(X1)nm时，(X2/X1)比为1.2～1.8的二氧化硅粒子(B)，前述二氧化硅粒子(A)：前述二氧化硅粒子(B)的质量比为100：0～85：15。

2. 发明专利

TW202030316A 液晶配向劑、液晶配向膜及使用其之液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及使用其之液晶显示组件
公开(公告)号：TW202030316A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108141310
申请日：2019-11-14
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：宮本泰宏 , MIYAMOTO, YASUHIRO
IPC分类号： C09K19/56 , C08G73/10 , G02F1/1337 , G02F1/13
摘要：提供一種可得到兼具有良好的液晶配向性、及累積電荷緩和特性的液晶配向膜的液晶配向劑。一種液晶配向劑，其特徵為含有：由使由含有含下述式(ND-1)～(ND-4)之任一所表示之部分骨架的二胺、及(ND-5)表示之二胺所成群組中選出的至少1種的二胺的二胺成分與四羧酸成分進行聚合反應，且與末端密封劑反應而得到的末端被密封的第1聚醯亞胺前驅物及其醯亞胺化聚合物所成群組中選出的至少1種的聚合物(P1)。 (R1、R21、R22各自獨立，為氫原子或甲基，R51、R52各自獨立，為氫原子或甲基。Sp3、Sp4為2價有機基，A5為單鍵或2價有機基)。
简体摘要：提供一种可得到兼具有良好的液晶配向性、及累积电荷缓和特性的液晶配向膜的液晶配向剂。一种液晶配向剂，其特征为含有：由使由含有含下述式(ND-1)～(ND-4)之任一所表示之部分骨架的二胺、及(ND-5)表示之二胺所成群组中选出的至少1种的二胺的二胺成分与四羧酸成分进行聚合反应，且与末端密封剂反应而得到的末端被密封的第1聚酰亚胺前驱物及其酰亚胺化聚合物所成群组中选出的至少1种的聚合物(P1)。 (R1、R21、R22各自独立，为氢原子或甲基，R51、R52各自独立，为氢原子或甲基。Sp3、Sp4为2价有机基，A5为单键或2价有机基)。

3. 发明专利

TW202030253A 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW202030253A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108130990
申请日：2019-08-29
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：飯祐太 , IIZUKA, YUTA , 別府功一朗 , BEPPU, KOICHIRO , 鈴木加名子 , SUZUKI, KANAKO , 後藤耕平 , GOTO, KOHEI
IPC分类号： C08L33/04 , C08L79/08 , G02F1/1337
摘要：本發明為提供即使在長時間驅動後預傾角的變化為少的顯示信頼性優良，同時電壓保持特性高，且可減低電荷累積的液晶配向膜、具有此的液晶顯示元件與賦予此的液晶配向劑。本發明為提供一種液晶配向劑，其為含有具有作為(A)成分的下述式(pa-1)所示光配向性基與熱交聯性基A的聚合物、作為(B)成分的選自聚醯亞胺及其前驅物的聚合物及溶劑，同時滿足下述要件Z1及Z2的至少一方者；下述式(pa-1)(式中，A表示伸苯等，R1為單鍵、氧原子等，R2為2價芳香族基等，R3為單鍵、氧原子等，R4表示碳數1～40的直鏈或分支鏈的烷基或含有脂環式基之碳數3～40的1價有機基，D表示氧原子、硫原子或-NRd-，a為0～3的整數，*表示鍵結位置。熱交聯性基A及熱交聯性基B為選擇出熱交聯性基A與熱交聯性基B可藉由熱進行交聯反應者) Z1：(A)成分的聚合物進一步具有熱交聯性基B。 Z2：進一步含有作為(C)成分之於分子內具有2個以上熱交聯性基B之化合物。
简体摘要：本发明为提供即使在长时间驱动后预倾角的变化为少的显示信赖性优良，同时电压保持特性高，且可减低电荷累积的液晶配向膜、具有此的液晶显示组件与赋予此的液晶配向剂。本发明为提供一种液晶配向剂，其为含有具有作为(A)成分的下述式(pa-1)所示光配向性基与热交联性基A的聚合物、作为(B)成分的选自聚酰亚胺及其前驱物的聚合物及溶剂，同时满足下述要件Z1及Z2的至少一方者；下述式(pa-1)(式中，A表示伸苯等，R1为单键、氧原子等，R2为2价芳香族基等，R3为单键、氧原子等，R4表示碳数1～40的直链或分支链的烷基或含有脂环式基之碳数3～40的1价有机基，D表示氧原子、硫原子或-NRd-，a为0～3的整数，*表示键结位置。热交联性基A及热交联性基B为选择出热交联性基A与热交联性基B可借由热进行交联反应者) Z1：(A)成分的聚合物进一步具有热交联性基B。 Z2：进一步含有作为(C)成分之于分子内具有2个以上热交联性基B之化合物。

4. 发明专利

TW202017961A 含磺酸基的高分支聚合物之純化方法及其製造方法审中-公开
简体标题：含磺酸基的高分支聚合物之纯化方法及其制造方法
公开(公告)号：TW202017961A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107132364
申请日：2018-09-14
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：津田悠太朗 , TSUDA, YUTARO
IPC分类号： C08G12/08 , C08G12/40 , C08G85/00
摘要：提供一種含磺酸基的高分支聚合物之純化方法，其特徵在於包含下述之步驟：將含磺酸基的高分支聚合物的硫酸溶液投入至水中，使前述含磺酸基的高分支聚合物進行再沉澱之再沉澱處理步驟、及將在前述再沉澱處理步驟中所得到的包含沉澱物的液體與有機溶劑進行混合並攪拌，使前述沉澱物凝聚之凝聚步驟。
简体摘要：提供一种含磺酸基的高分支聚合物之纯化方法，其特征在于包含下述之步骤：将含磺酸基的高分支聚合物的硫酸溶液投入至水中，使前述含磺酸基的高分支聚合物进行再沉淀之再沉淀处理步骤、及将在前述再沉淀处理步骤中所得到的包含沉淀物的液体与有机溶剂进行混合并搅拌，使前述沉淀物凝聚之凝聚步骤。

5. 发明专利

TW201920630A 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201920630A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129888
申请日：2018-08-28
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：石井秀則 , ISHII, HIDENORI , 名木達哉 , NAGI, TATSUYA
IPC分类号： C09K19/56 , C08G73/10 , G02F1/1337 , G02F1/13
摘要：本發明係提供以高效率被賦予配向控制能力，因液晶配向偏差或殘留DC所引起之殘留影像特性優異之具有橫電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜的基板及具有該基板之橫電場驅動型液晶顯示元件。本發明係提供一種液晶配向劑，其係含有(A-a)選自由使用包含以下述式(1)(式(1)中，i為0或1，X為單鍵、醚鍵等)表示之四羧酸二酐之四羧酸二酐成分與二胺成分所得之聚醯胺酸及該聚醯胺酸之醯亞胺化聚合物之至少1種類的聚合物，(A-b)選自由使用包含脂肪族四羧酸二酐之四羧酸二酐成分與包含以下述式(2)表示之二胺的二胺成分所得之聚醯胺酸及該聚醯胺酸之醯亞胺化聚合物之至少1種類的聚合物、及有機溶劑，(A-a)及(A-b)之重量比為(A-a)：(A-b)=55：45~90：10。
简体摘要：本发明系提供以高效率被赋予配向控制能力，因液晶配向偏差或残留DC所引起之残留影像特性优异之具有横电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜的基板及具有该基板之横电场驱动型液晶显示组件。本发明系提供一种液晶配向剂，其系含有(A-a)选自由使用包含以下述式(1)(式(1)中，i为0或1，X为单键、醚键等)表示之四羧酸二酐之四羧酸二酐成分与二胺成分所得之聚酰胺酸及该聚酰胺酸之酰亚胺化聚合物之至少1种类的聚合物，(A-b)选自由使用包含脂肪族四羧酸二酐之四羧酸二酐成分与包含以下述式(2)表示之二胺的二胺成分所得之聚酰胺酸及该聚酰胺酸之酰亚胺化聚合物之至少1种类的聚合物、及有机溶剂，(A-a)及(A-b)之重量比为(A-a)：(A-b)=55：45~90：10。

6. 发明专利

TW201920582A 含有含苯基之聚矽氧烷的暫時接著劑审中-公开
简体标题：含有含苯基之聚硅氧烷的暂时接着剂
公开(公告)号：TW201920582A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107123429
申请日：2018-07-06
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：森谷俊介 , MORIYA, SHUNSUKE , 榎本智之 , ENOMOTO, TOMOYUKI , 新城徹也 , SHINJO, TETSUYA , 荻野浩司 , OGINO, HIROSHI , 澤田和宏 , SAWADA, KAZUHIRO
IPC分类号： C09J183/14 , H01L21/683
摘要： [課題]本發明係提供一種暫時接著劑及該層合體、使用其之加工方法，該暫時接著劑係向晶圓之電路面，或向支撐體之旋轉塗佈性優異，與接著層之接合時或在晶圓背面之加工時的耐熱性優異，於晶圓背面之研磨後係可容易地剝離，剝離後係已附著於晶圓或支撐體的接著劑為可簡單地除去。　　[解決手段]一種接著劑，其係在支撐體與晶圓之電路面之間為可剝離地接著而用以加工晶圓之背面的接著劑，上述接著劑為包含藉由氫矽烷化反應而硬化的成分(A)與含苯基之聚有機矽氧烷的成分(B)，上述接著劑中成分(A)與成分(B)之質量%為95：5~30：70之比例。一種剝離方法，其於第一基體上塗布接著劑而形成接著層，接合第二基體，在由第一基體側加熱而使接著劑硬化而形成層合體之後，加工層合體，在第一基體、第二基體與接著層之間產生剝離。加工為背面研磨。
简体摘要： [课题]本发明系提供一种暂时接着剂及该层合体、使用其之加工方法，该暂时接着剂系向晶圆之电路面，或向支撑体之旋转涂布性优异，与接着层之接合时或在晶圆背面之加工时的耐热性优异，于晶圆背面之研磨后系可容易地剥离，剥离后系已附着于晶圆或支撑体的接着剂为可简单地除去。　　[解决手段]一种接着剂，其系在支撑体与晶圆之电路面之间为可剥离地接着而用以加工晶圆之背面的接着剂，上述接着剂为包含借由氢硅烷化反应而硬化的成分(A)与含苯基之聚有机硅氧烷的成分(B)，上述接着剂中成分(A)与成分(B)之质量%为95：5~30：70之比例。一种剥离方法，其于第一基体上涂布接着剂而形成接着层，接合第二基体，在由第一基体侧加热而使接着剂硬化而形成层合体之后，加工层合体，在第一基体、第二基体与接着层之间产生剥离。加工为背面研磨。

7. 发明专利

TW201920579A 暫時接著層形成用組成物及暫時接著層审中-公开
简体标题：暂时接着层形成用组成物及暂时接着层
公开(公告)号：TW201920579A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107134081
申请日：2018-09-27
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：葉鎮嘉 , YE, CHENJIA , 江原和也 , EBARA, KAZUYA , 進藤和也 , SHINDO, KAZUYA
IPC分类号： C09J179/08 , C08G73/10 , C09J11/06 , B32B7/12 , B32B7/06 , H05K3/00
摘要：一種暫時接著層形成用組成物，其為用來形成將樹脂基板固定於基體上的暫時接著層之組成物，其包含：(A)式(P1)之聚醯胺酸、(B)式(P2)之聚醯胺酸、(C)具有胺基等之矽烷偶合劑、(D)包含醯胺系溶劑等之混合溶劑； (X1表示具有2個羧基及酯鍵之二價芳香族基等，Y1表示具有酯鍵之二價芳香族基等)。 (X2表示具有2個羧基及醚鍵之二價芳香族基等，Y2表示具有醚鍵之二價芳香族基等)。
简体摘要：一种暂时接着层形成用组成物，其为用来形成将树脂基板固定于基体上的暂时接着层之组成物，其包含：(A)式(P1)之聚酰胺酸、(B)式(P2)之聚酰胺酸、(C)具有胺基等之硅烷偶合剂、(D)包含酰胺系溶剂等之混合溶剂； (X1表示具有2个羧基及酯键之二价芳香族基等，Y1表示具有酯键之二价芳香族基等)。 (X2表示具有2个羧基及醚键之二价芳香族基等，Y2表示具有醚键之二价芳香族基等)。

8. 发明专利

TW201920525A 延伸性耐擦傷性之塗布用硬化性組成物审中-公开
简体标题：延伸性耐擦伤性之涂布用硬化性组成物
公开(公告)号：TW201920525A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130864
申请日：2018-09-03
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：原口将幸 , HARAGUCHI, MASAYUKI
IPC分类号： C09D171/00 , C09D4/02 , C09D5/00 , C08J7/04
摘要：本發明提供一種具有延伸性及優良耐擦傷性，且呈現透明外觀的硬質塗布層之形成材料。本發明係關於一種硬質塗布薄膜，其為具備含有(a)活性能量線硬化性內酯變性多官能單體100質量份、(b)於含有聚(氧基全氟伸烷基)基的分子鏈之兩末端上隔著胺基甲酸酯鍵具有活性能量線聚合性基的全氟聚醚(但，除於前述聚(氧基全氟伸烷基)基與前述胺基甲酸酯鍵之間具有聚(氧化伸烷基)基之全氟聚醚以外)0.1～10質量份，及(c)藉由活性能量線產生自由基之聚合起始劑1～20質量份的硬化性組成物，及藉由該組成物所形成的硬質塗布層之硬質塗布薄膜。
简体摘要：本发明提供一种具有延伸性及优良耐擦伤性，且呈现透明外观的硬质涂布层之形成材料。本发明系关于一种硬质涂布薄膜，其为具备含有(a)活性能量线硬化性内酯变性多官能单体100质量份、(b)于含有聚(氧基全氟伸烷基)基的分子链之两末端上隔着胺基甲酸酯键具有活性能量线聚合性基的全氟聚醚(但，除于前述聚(氧基全氟伸烷基)基与前述胺基甲酸酯键之间具有聚(氧化伸烷基)基之全氟聚醚以外)0.1～10质量份，及(c)借由活性能量线产生自由基之聚合起始剂1～20质量份的硬化性组成物，及借由该组成物所形成的硬质涂布层之硬质涂布薄膜。

9. 发明专利

TW201920372A 液晶配向劑、液晶配向膜及使用此之液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及使用此之液晶显示组件
公开(公告)号：TW201920372A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133803
申请日：2018-09-26
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：囯見奈穂 , KUNIMI, NAHO
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08 , G02F1/1337
摘要：提供一種液晶配向劑，其係配向控制能力穩定而具有產生寬廣光照射量之範圍，且能效率良好地取得高品質之液晶配向膜。一種液晶配向劑，其特徵為含有下述之(A)成分與(B)成分。 (A)成分：由下述式(1)所示之重複單位所構成，且X之20~100莫耳%為式(2)所示之構造，Y之20~100莫耳%為下述式(3)所示之構造之聚醯亞胺前驅物等的聚合物(A)。 (B)成分：由下述式(1)所示之重複單位所構成，且X之20~100莫耳%為式(2)所示之構造，Y之65~100莫耳%為下述式(4)或式(5)所示之構造，並且不包含或包含未滿20莫耳%之Y為下述式(3)所示之構造之重複單位之聚醯亞胺前驅物等的聚合物(B)。 (式中，R1等係如說明書中所定義者。)
简体摘要：提供一种液晶配向剂，其系配向控制能力稳定而具有产生宽广光照射量之范围，且能效率良好地取得高品质之液晶配向膜。一种液晶配向剂，其特征为含有下述之(A)成分与(B)成分。 (A)成分：由下述式(1)所示之重复单位所构成，且X之20~100莫耳%为式(2)所示之构造，Y之20~100莫耳%为下述式(3)所示之构造之聚酰亚胺前驱物等的聚合物(A)。 (B)成分：由下述式(1)所示之重复单位所构成，且X之20~100莫耳%为式(2)所示之构造，Y之65~100莫耳%为下述式(4)或式(5)所示之构造，并且不包含或包含未满20莫耳%之Y为下述式(3)所示之构造之重复单位之聚酰亚胺前驱物等的聚合物(B)。 (式中，R1等系如说明书中所定义者。)

10. 发明专利

TW201920363A 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件审中-公开
简体标题：液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
公开(公告)号：TW201920363A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107125979
申请日：2018-07-27
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：結城達也 , YUKI, TATSUYA
IPC分类号： C08G73/10 , G02F1/1337
摘要：本發明係提供提高密封劑與液晶配向膜之接著性，在高溫高濕條件下可抑制液晶顯示元件之邊框附近之發生顯示不均的液晶配向劑。本發明係提供一種液晶配向劑，其係含有具有聚合物主鏈末端為下述式(1)(式中，R1表示因熱而脫離，至換成氫原子之1價有機基)之結構的聚醯亞胺。
简体摘要：本发明系提供提高密封剂与液晶配向膜之接着性，在高温高湿条件下可抑制液晶显示组件之边框附近之发生显示不均的液晶配向剂。本发明系提供一种液晶配向剂，其系含有具有聚合物主链末端为下述式(1)(式中，R1表示因热而脱离，至换成氢原子之1价有机基)之结构的聚酰亚胺。

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