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1. 发明专利

TWI599542B 有機溶劑分散二氧化矽溶膠及有機溶劑分散二氧化矽溶膠之製造方法有权
简体标题：有机溶剂分散二氧化硅溶胶及有机溶剂分散二氧化硅溶胶之制造方法
公开(公告)号：TWI599542B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW102106030
申请日：2013-02-21
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：吉武桂子 , YOSHITAKE, KEIKO
IPC分类号： C01B33/145
CPC分类号： C01B33/145 , C01P2004/62 , C01P2006/12

2. 发明专利

TW201638007A 含有矽烷氧化物的有機溶劑之製造方法审中-公开
简体标题：含有硅烷氧化物的有机溶剂之制造方法
公开(公告)号：TW201638007A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104135438
申请日：2015-10-28
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：後藤裕一 , GOTO, YUICHI , 遠藤雅久 , ENDO, MASAHISA , 孫軍 , SON, GUN , 永井健太郎 , NAGAI, KENTARO
IPC分类号： C01B33/12 , C01B33/145 , C08G77/60
CPC分类号： C01B33/113 , B01J23/464 , C01B33/04 , C08G77/60 , C09D183/16 , H01L21/02107
摘要：本發明課題在於提供一種在塗佈於基板前的塗佈溶液中形成矽烷氧化物，塗佈時無需置於非氧化環境下，塗佈後無需實施基板上的加熱處理，即可在基板上形成矽烷氧化物被膜的含有矽烷氧化物的有機溶劑(塗佈溶液)之製造方法。解決手段為一種含有矽烷氧化物的有機溶劑之製造方法，其特徵為對含有矽烷或其聚合物的有機溶劑吹入含有氧氣的氣體。矽烷為環狀矽烷。矽烷為環戊矽烷。矽烷或其聚合物的氧化物係含有(殘留之Si-H基)/(氧化前之Si-H基)=1至40莫耳%的比例。該環狀矽烷可於鹵化鋁的存在下，在環己烷中與鹵化氫進行反應，再將所得之環狀矽烷溶解於有機溶劑並予以還原而得。
简体摘要：本发明课题在于提供一种在涂布于基板前的涂布溶液中形成硅烷氧化物，涂布时无需置于非氧化环境下，涂布后无需实施基板上的加热处理，即可在基板上形成硅烷氧化物被膜的含有硅烷氧化物的有机溶剂(涂布溶液)之制造方法。解决手段为一种含有硅烷氧化物的有机溶剂之制造方法，其特征为对含有硅烷或其聚合物的有机溶剂吹入含有氧气的气体。硅烷为环状硅烷。硅烷为环戊硅烷。硅烷或其聚合物的氧化物系含有(残留之Si-H基)/(氧化前之Si-H基)=1至40莫耳%的比例。该环状硅烷可于卤化铝的存在下，在环己烷中与卤化氢进行反应，再将所得之环状硅烷溶解于有机溶剂并予以还原而得。

3. 发明专利

TWI508918B 改質無機含氧微粒材料之方法，由其製得之產物及其應用有权
简体标题：改质无机含氧微粒材料之方法，由其制得之产物及其应用
公开(公告)号：TWI508918B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW102140931
申请日：2006-06-21
申请人：艾克索諾貝爾公司 , AKZO NOBEL N.V.
发明人：史考馬克艾爾溫 , SCHOMAKER, ELWIN , 凡德博世魯道夫安東尼奧馬利亞 , VENDERBOSCH, RUDOLF ANTHONIUS MARIA
IPC分类号： C01B33/145 , C01B33/149 , C08K9/06 , C09C1/28
CPC分类号： C09D5/033 , C08L71/02 , C09D143/04 , Y02P20/582

4. 发明专利

TWI409219B 有機溶劑分散矽膠及其製造方法有权
简体标题：有机溶剂分散硅胶及其制造方法
公开(公告)号：TWI409219B
公开(公告)日：2013-09-21
申请号：TW095127527
申请日：2006-07-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：末村尚彥 , SUEMURA, NAOHIKO , 吉武桂子 , YOSHITAKE, KEIKO
IPC分类号： C01B33/145
CPC分类号： C01B33/145 , C01B33/1485 , C01B33/159 , Y10T428/2993

5. 发明专利

TW202003384A 包含膠質狀二氧化矽粒子與三聚氰酸鋅粒子的分散液审中-公开
简体标题：包含胶质状二氧化硅粒子与三聚氰酸锌粒子的分散液
公开(公告)号：TW202003384A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108109945
申请日：2019-03-22
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：清水大輔 , SHIMIZU, DAISUKE , 村上智 , MURAKAMI, SATORU , 鹿島吉恭 , KASHIMA, YOSHIYASU , 太田勇夫 , OOTA, ISAO
IPC分类号： C01B33/145 , C07D251/32 , C09D17/00 , C09D201/00 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D5/08 , C23C26/00 , C23F11/14
摘要：提供一種用於充分地發揮金屬表面的防蝕等的機能的包含膠質狀二氧化矽粒子與三聚氰酸鋅粒子的分散液，及含此的被覆組成物。一種將包含膠質狀二氧化矽粒子與三聚氰酸鋅粒子的分散質粒子分散於液狀介質中而成的分散液。膠質狀二氧化矽粒子的平均粒徑為5nm至500nm，並以SiO2濃度為0.1質量%至40質量%來含有該膠質狀二氧化矽粒子。三聚氰酸鋅粒子的藉由穿透式電子顯微鏡觀察所測得的一次粒子的長軸長度為50nm至1000nm，且短軸長度為10nm至300nm，長軸與短軸的長度比為2至25，並以其固形分為0.1質量%至50質量%來含有前述三聚氰酸鋅粒子。膠質狀二氧化矽粒子與三聚氰酸鋅粒子，以膠質狀二氧化矽：三聚氰酸鋅的質量比為1：0.01至100的比例，膠質狀二氧化矽粒子與三聚氰酸鋅粒子的合計固形分為0.1質量%至50質量%。液狀介質為水或有機溶劑。一種包含將分散液與樹脂乳液使用液中分散機來進行混合之步驟之被覆用組成物之製造方法。
简体摘要：提供一种用于充分地发挥金属表面的防蚀等的机能的包含胶质状二氧化硅粒子与三聚氰酸锌粒子的分散液，及含此的被覆组成物。一种将包含胶质状二氧化硅粒子与三聚氰酸锌粒子的分散质粒子分散于液状介质中而成的分散液。胶质状二氧化硅粒子的平均粒径为5nm至500nm，并以SiO2浓度为0.1质量%至40质量%来含有该胶质状二氧化硅粒子。三聚氰酸锌粒子的借由穿透式电子显微镜观察所测得的一次粒子的长轴长度为50nm至1000nm，且短轴长度为10nm至300nm，长轴与短轴的长度比为2至25，并以其固形分为0.1质量%至50质量%来含有前述三聚氰酸锌粒子。胶质状二氧化硅粒子与三聚氰酸锌粒子，以胶质状二氧化硅：三聚氰酸锌的质量比为1：0.01至100的比例，胶质状二氧化硅粒子与三聚氰酸锌粒子的合计固形分为0.1质量%至50质量%。液状介质为水或有机溶剂。一种包含将分散液与树脂乳液使用液中分散机来进行混合之步骤之被覆用组成物之制造方法。

6. 发明专利

TWI428277B 矽溶膠及其製造方法有权
简体标题：硅溶胶及其制造方法
公开(公告)号：TWI428277B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW096127066
申请日：2007-07-25
申请人：扶桑化學工業股份有限公司 , FUSO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：增田範生 , MASUDA, NORIO , 太田晉輔 , OTA, SHINSUKE
IPC分类号： C01B33/145 , C09K3/14
CPC分类号： C01B33/148 , C01B33/1485 , C09K3/1463

7. 发明专利

TW201406657A 改質無機含氧微粒材料之方法，由其製得之產物及其應用审中-公开
简体标题：改质无机含氧微粒材料之方法，由其制得之产物及其应用
公开(公告)号：TW201406657A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102140931
申请日：2006-06-21
申请人：艾克索諾貝爾公司 , AKZO NOBEL N.V.
发明人：史考馬克艾爾溫 , SCHOMAKER, ELWIN , 凡德博世魯道夫安東尼奧馬利亞 , VENDERBOSCH, RUDOLF ANTHONIUS MARIA
IPC分类号： C01B33/145 , C01B33/149 , C08K9/06 , C09C1/28
CPC分类号： C09D5/033 , C08L71/02 , C09D143/04 , Y02P20/582
摘要：本發明有關一種製備經改質之無機含氧微粒材料的方法，其包括以下步驟：a)製備無機含氧微粒材料之含水懸浮液與下式經烷氧基化之醇的混合物其中R1係為C1-C8烷基、C4-C8環烷基或苯基，R2係為氫或甲基，且n係為1至5之整數；b)視情況添加第一樹脂及/或第一樹脂前驅物；c)添加一或更多種偶合劑於該混合物中；d)視情況添加第二樹脂及/或第二樹脂前驅物於所形成之混合物中；且其中在步驟b)、c)或d)之前或在進行期間或在步驟d)之後，視情況自該混合物移除至少一部分水；且在步驟c)之前、進行期間或之後視情況將該第一樹脂前驅物轉化成該第一樹脂且/或在步驟d)之後將該第二樹脂前驅物轉化成該第二樹脂。
简体摘要：本发明有关一种制备经改质之无机含氧微粒材料的方法，其包括以下步骤：a)制备无机含氧微粒材料之含水悬浮液与下式经烷氧基化之醇的混合物其中R1系为C1-C8烷基、C4-C8环烷基或苯基，R2系为氢或甲基，且n系为1至5之整数；b)视情况添加第一树脂及/或第一树脂前驱物；c)添加一或更多种偶合剂于该混合物中；d)视情况添加第二树脂及/或第二树脂前驱物于所形成之混合物中；且其中在步骤b)、c)或d)之前或在进行期间或在步骤d)之后，视情况自该混合物移除至少一部分水；且在步骤c)之前、进行期间或之后视情况将该第一树脂前驱物转化成该第一树脂且/或在步骤d)之后将该第二树脂前驱物转化成该第二树脂。

8. 发明专利

TW202026243A 二氧化矽溶膠的製造方法审中-公开
简体标题：二氧化硅溶胶的制造方法
公开(公告)号：TW202026243A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW109105522
申请日：2016-07-29
申请人：日商福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦髙圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 伊藤昌明 , ITO, MASAAKI , 篠田潤 , SHINODA, JUN
IPC分类号： C01B33/145
摘要：本發明之課題為提供一種即使二氧化矽粒子的粒徑為任何大小，皆可安定地生產均一的二氧化矽粒子的粒徑之二氧化矽溶膠之二氧化矽溶膠的製造方法。一種二氧化矽溶膠的製造方法，其係包含於液(A)中混合液(B)與液(C1)或者液(C2)而製作反應液的步驟，該液(A)係包含鹼觸媒、水及第1有機溶劑；該液(B)係包含烷氧基矽烷或其縮合物及第2有機溶劑；該液(C1)係包含水，pH5.0以上未達8.0；該液(C2)係包含水且不含鹼觸媒。
简体摘要：本发明之课题为提供一种即使二氧化硅粒子的粒径为任何大小，皆可安定地生产均一的二氧化硅粒子的粒径之二氧化硅溶胶之二氧化硅溶胶的制造方法。一种二氧化硅溶胶的制造方法，其系包含于液(A)中混合液(B)与液(C1)或者液(C2)而制作反应液的步骤，该液(A)系包含碱触媒、水及第1有机溶剂；该液(B)系包含烷氧基硅烷或其缩合物及第2有机溶剂；该液(C1)系包含水，pH5.0以上未达8.0；该液(C2)系包含水且不含碱触媒。

9. 发明专利

TW201919998A 含有二氧化矽之絕緣性組成物审中-公开
简体标题：含有二氧化硅之绝缘性组成物
公开(公告)号：TW201919998A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131567
申请日：2018-09-07
申请人：日商日產化學股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL CORPORATION
发明人：末村尚彦 , SUEMURA, NAOHIKO , 杉澤雅敏 , SUGISAWA, MASATOSHI
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/145 , H01B3/30
摘要： [課題]提供包含二氧化矽粒子及樹脂及硬化劑，抑制並減低自二氧化矽粒子之Na離子之溶出，且絕緣性之歷時變化少之絕緣性組成物。 [解決手段]其係包含二氧化矽粒子(A)及樹脂(B)及硬化劑(C)之絕緣性組成物，其中，前述二氧化矽粒子(A)為將SiO2濃度3.8質量%之該水溶液以121℃、20小時加熱後之溶出Na離子量為40ppm/SiO2以下之二氧化矽粒子。尤其，二氧化矽粒子(A)為加熱後之溶出Na離子量為5～38ppm/SiO2之二氧化矽粒子，又，以M/Si莫耳比為0.001～0.02之比例包含多價金屬氧化物之多價金屬M，且粒子中之Na2O/SiO2質量比為700～1300ppm之二氧化矽粒子，其中，於前述粒子表面上，係形成Na2O/SiO2質量比為10～400ppm之0.1～1.5nm之層，並為具有5～40nm之平均粒子徑之二氧化矽粒子。
简体摘要： [课题]提供包含二氧化硅粒子及树脂及硬化剂，抑制并减低自二氧化硅粒子之Na离子之溶出，且绝缘性之历时变化少之绝缘性组成物。 [解决手段]其系包含二氧化硅粒子(A)及树脂(B)及硬化剂(C)之绝缘性组成物，其中，前述二氧化硅粒子(A)为将SiO2浓度3.8质量%之该水溶液以121℃、20小时加热后之溶出Na离子量为40ppm/SiO2以下之二氧化硅粒子。尤其，二氧化硅粒子(A)为加热后之溶出Na离子量为5～38ppm/SiO2之二氧化硅粒子，又，以M/Si莫耳比为0.001～0.02之比例包含多价金属氧化物之多价金属M，且粒子中之Na2O/SiO2质量比为700～1300ppm之二氧化硅粒子，其中，于前述粒子表面上，系形成Na2O/SiO2质量比为10～400ppm之0.1～1.5nm之层，并为具有5～40nm之平均粒子径之二氧化硅粒子。

10. 发明专利

TWI427034B 無機奈米片材之有機分散液及其製造方法有权
简体标题：无机奈米片材之有机分散液及其制造方法
公开(公告)号：TWI427034B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW099145159
申请日：2010-12-22
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊智仁 , YANG, CHIH JEN , 呂奇明 , LEU, CHYI MING , 蘇俊瑋 , SU, CHUN WEI
IPC分类号： C01B33/145
CPC分类号： C01B33/40 , B82Y30/00 , C01P2002/72 , C01P2004/04 , C01P2004/20 , C01P2004/54 , C01P2004/64 , C09C1/42

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