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1. 发明专利

TWI576915B 電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理方法
公开(公告)号：TWI576915B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105110981
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA,NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA,TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI,KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI,SATORU , 板谷耕司 , ITADANI,KOJI
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682

2. 发明专利

TW201142903A 用以進行帶電粒子束檢查或複檢的移動式偵測器 MOVABLE DETECTOR FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION OR REVIEW 审中-公开
简体标题：用以进行带电粒子束检查或复检的移动式侦测器 MOVABLE DETECTOR FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION OR REVIEW
公开(公告)号：TW201142903A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW100118213
申请日：2011-05-25
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：王義向 , 汪蘇 , 劉學東 , 陳仲瑋
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/2611 , H01J2237/2817
摘要：本發明主要相關於一種帶電粒子成像系統的偵測單元,特別是相關於一種偵測單元,其一部份可以在成像狀況需要的時候移進或移出偵測系統。藉由Wein過濾器(也稱為ExB帶電粒子分析器; ExB charged particle analyzer)的幫助與可移動的偵測器的設計,本發明提供一種可以同時適用於低電流高解析度模式及高電流高輸出效率(high throughput)模式的立體成像系統(stereo imaging system)。本發明應用於一掃描式電子束檢查系統僅作為一範例,但是要知道的是本發明也可以應用於其他使用電子束來做為觀察工具的系統。
简体摘要：本发明主要相关于一种带电粒子成像系统的侦测单元,特别是相关于一种侦测单元,其一部份可以在成像状况需要的时候移进或移出侦测系统。借由Wein过滤器(也称为ExB带电粒子分析器; ExB charged particle analyzer)的帮助与可移动的侦测器的设计,本发明提供一种可以同时适用于低电流高分辨率模式及高电流高输出效率(high throughput)模式的三維成像系统(stereo imaging system)。本发明应用于一扫描式电子束检查系统仅作为一范例,但是要知道的是本发明也可以应用于其他使用电子束来做为观察工具的系统。

3. 发明专利

TWI514435B 用於對物體的表面成像的方法與裝置有权
简体标题：用于对物体的表面成像的方法与设备
公开(公告)号：TWI514435B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW103123161
申请日：2009-08-28
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：沙翰艾瑪 , SHOHAM, AMIR , 聖德班遜 , SENDER, BENZION , 理曼艾隆 , LITMAN, ALON
IPC分类号： H01J37/28 , G01N23/04
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/2208 , G01N23/2251 , H01J37/222 , H01J2237/221 , H01J2237/24495 , H01J2237/2809 , H01J2237/2823

4. 发明专利

TW201532101A 掃描電子顯微鏡系統及利用其之圖案測量方法以及掃描電子顯微鏡审中-公开
简体标题：扫描电子显微镜系统及利用其之图案测量方法以及扫描电子显微镜
公开(公告)号：TW201532101A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103138407
申请日：2014-11-05
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：宍戸千繪 , SHISHIDO, CHIE , 山本琢磨 , YAMAMOTO, TAKUMA , 山田慎也 , YAMADA, SHINYA , 田中麻紀 , TANAKA, MAKI
IPC分类号： H01J37/28 , G01B15/02 , G01B15/04
CPC分类号： H01J37/29 , G01B15/00 , G01B15/04 , G01B2210/56 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/2806 , H01J2237/281 , H01J2237/2815 , H01L22/12
摘要：本發明係為了進行以3D-NAND之開孔步驟為代表之超高縱橫比之孔之開口/非開口之判定、或孔之頂部徑/底部徑之檢查、測量，而設為可檢測孔底所產生之背向散射電子(BSE)，為此，對試料照射以高加速電壓加速之一次電子束，並檢測低角(例如仰角5度以上)之背向散射電子(BSE)，藉此以自孔底釋放且穿透側壁之“穿透BSE”進行孔底觀察。又，利用因若孔較深則穿透距離相對較長、故穿透BSE之量減少而使圖像變暗之特性，賦予孔深度vs亮度之檢量線，而進行孔深度之測量。
简体摘要：本发明系为了进行以3D-NAND之开孔步骤为代表之超高纵横比之孔之开口/非开口之判定、或孔之顶部径/底部径之检查、测量，而设为可检测孔底所产生之背向散射电子(BSE)，为此，对试料照射以高加速电压加速之一次电子束，并检测低角(例如仰角5度以上)之背向散射电子(BSE)，借此以自孔底释放且穿透侧壁之“穿透BSE”进行孔底观察。又，利用因若孔较深则穿透距离相对较长、故穿透BSE之量减少而使图像变暗之特性，赋予孔深度vs亮度之检量线，而进行孔深度之测量。

5. 发明专利

TWI453782B 用於對物體的表面成像的方法與裝置有权
简体标题：用于对物体的表面成像的方法与设备
公开(公告)号：TWI453782B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW098129098
申请日：2009-08-28
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：沙翰艾瑪 , SHOHAM, AMIR , 聖德班遜 , SENDER, BENZION , 理曼艾隆 , LITMAN, ALON
IPC分类号： H01J37/28 , G01N23/04
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/2208 , G01N23/2251 , H01J37/222 , H01J2237/221 , H01J2237/24495 , H01J2237/2809 , H01J2237/2823

6. 发明专利

TW201222618A 圖案量測裝置及圖案量測方法 PATTERN MEASURING APPARATUS AND PATTERN MEASURING METHOD 审中-公开
简体标题：图案量测设备及图案量测方法 PATTERN MEASURING APPARATUS AND PATTERN MEASURING METHOD
公开(公告)号：TW201222618A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100128190
申请日：2011-08-08
申请人：愛德萬測試股份有限公司
发明人：松本純
IPC分类号： H01J , G01B
CPC分类号： G01B15/04 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/24495 , H01J2237/24578
摘要：本發明係提供能夠容易使一線圖案及一空間圖案彼此區分而不受圖案亮度所影響之一圖案量測裝置及一圖案量測方法。該圖案量測裝置係包括：輻照單元，其用於以一電子束輻照一樣本；第一電子偵測器及第二電子偵測器，其間配置有電子束的一光學軸線；影像處理器，其用於產生圖案的影像資料；線輪廓產生器，其用於產生圖案的一線輪廓；及控制器，其用於造成影像處理器以對應於由第一電子偵測器所偵測的一信號及由第二電子偵測器所偵測的一信號之間的差異之一電子數量為基礎產生圖案的影像資料。控制器可藉由以第一電子偵測器所偵測的信號及第二電子偵測器所偵測的信號之間的差異為基礎所產生之線輪廓來決定圖案中的上升及下降，並量測圖案的線寬度。
简体摘要：本发明系提供能够容易使一线图案及一空间图案彼此区分而不受图案亮度所影响之一图案量测设备及一图案量测方法。该图案量测设备系包括：辐照单元，其用于以一电子束辐照一样本；第一电子侦测器及第二电子侦测器，其间配置有电子束的一光学轴线；影像处理器，其用于产生图案的影像数据；线轮廓产生器，其用于产生图案的一线轮廓；及控制器，其用于造成影像处理器以对应于由第一电子侦测器所侦测的一信号及由第二电子侦测器所侦测的一信号之间的差异之一电子数量为基础产生图案的影像数据。控制器可借由以第一电子侦测器所侦测的信号及第二电子侦测器所侦测的信号之间的差异为基础所产生之线轮廓来决定图案中的上升及下降，并量测图案的线宽度。

7. 发明专利

TWI573165B 電子顯微鏡、讀取器以及擷取元素頻譜之方法有权
简体标题：电子显微镜、读取器以及截取元素频谱之方法
公开(公告)号：TWI573165B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW103142736
申请日：2014-12-09
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳福榮 , CHEN, FU-RONG , 黃祖緯 , HUANG, TSU-WEI , 徐金良 , HSU, CHIN-LIANG
IPC分类号： H01J37/26 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/244 , G01N23/2252 , H01J37/28 , H01J2237/226 , H01J2237/2445 , H01J2237/24495 , H01J2237/24585 , H01J2237/2555

8. 发明专利

TWI564926B 掃描電子顯微鏡系統及利用其之圖案測量方法以及掃描電子顯微鏡有权
简体标题：扫描电子显微镜系统及利用其之图案测量方法以及扫描电子显微镜
公开(公告)号：TWI564926B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW103138407
申请日：2014-11-05
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：宍戸千繪 , SHISHIDO, CHIE , 山本琢磨 , YAMAMOTO, TAKUMA , 山田慎也 , YAMADA, SHINYA , 田中麻紀 , TANAKA, MAKI
IPC分类号： H01J37/28 , G01B15/02 , G01B15/04
CPC分类号： H01J37/29 , G01B15/00 , G01B15/04 , G01B2210/56 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/2806 , H01J2237/281 , H01J2237/2815 , H01L22/12

9. 发明专利

TWI538051B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI538051B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101146919
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA, NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA, TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI, KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI, SATORU , 板谷耕司 , ITADANI, KOJI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682

10. 发明专利

TW201305531A 圖案量測裝置及圖案量測方法审中-公开
简体标题：图案量测设备及图案量测方法
公开(公告)号：TW201305531A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101121007
申请日：2012-06-13
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION , 凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：松本純 , MATSUMOTO, JUN , 深谷洋 , FUKAYA, HIROSHI , 米倉勳 , YONEKURA, ISAO , 波木井秀充 , HAKII, HIDEMITSU
IPC分类号： G01B15/00 , H01J37/26 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2446 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592
摘要：一種圖案量測裝置，其係用電子束掃描樣本表面的觀測區以及在該電子束的照射下，使用配置於電子束之光軸四周的多個電子偵測器偵測由該樣本表面射出的二次電子。在與圖案延伸方向正交而且對於該光軸是彼此相對的兩個方向取得影像。然後，由該等影像提取與每個邊緣正交的線輪廓，以及取得該等線輪廓的差集以得到差集輪廓。偵測每個邊緣之上端的位置係基於該差集輪廓的下降部份，以及偵測邊緣下端的位置基於該等線輪廓中之一者的上升部份或下降部份。
简体摘要：一种图案量测设备，其系用电子束扫描样本表面的观测区以及在该电子束的照射下，使用配置于电子束之光轴四周的多个电子侦测器侦测由该样本表面射出的二次电子。在与图案延伸方向正交而且对于该光轴是彼此相对的两个方向取得影像。然后，由该等影像提取与每个边缘正交的线轮廓，以及取得该等线轮廓的差集以得到差集轮廓。侦测每个边缘之上端的位置系基于该差集轮廓的下降部份，以及侦测边缘下端的位置基于该等线轮廓中之一者的上升部份或下降部份。

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