专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI576915B 電漿處理方法有权
简体标题：等离子处理方法
公开(公告)号：TWI576915B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105110981
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA,NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA,TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI,KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI,SATORU , 板谷耕司 , ITADANI,KOJI
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682

2. 发明专利

TWI538051B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI538051B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101146919
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA, NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA, TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI, KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI, SATORU , 板谷耕司 , ITADANI, KOJI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682

3. 发明专利

TW201526716A 電漿處理裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW201526716A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103135097
申请日：2014-10-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：永海幸一 , NAGAMI, KOICHI , 板谷耕司 , ITADANI, KOJI , 薦田剛 , KOMODA, TSUYOSHI
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： C23C16/52 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J37/32174 , H01J37/32183
摘要：本發明旨在提供一種電漿處理裝置，將對處理容器供給之兩種高頻波的功率以頻率不同的脈衝同時調變的情況，雙方匹配器中任一者皆可進行穩定且精確的匹配動作。此電漿處理裝置中，對電漿生成用高頻波RF1及離子引進用高頻波RF2的功率，以不同頻率的第1及第2脈衝PS1、PS2進行調變時，於電漿生成系統的匹配器40，阻抗感測器96A，於低頻率的第2脈衝PS2的各週期，在高頻波供電線43上計算負載阻抗的平均值（一次移動平均值ma），根據該負載阻抗的平均值，輸出負載阻抗測定值。又，匹配控制器94A以可變方式控制匹配電路88A內的電抗元件XH1、XH2的電抗，俾負載阻抗測定值與匹配點（50Ω）一致或近似。
简体摘要：本发明旨在提供一种等离子处理设备，将对处理容器供给之两种高频波的功率以频率不同的脉冲同时调制的情况，双方匹配器中任一者皆可进行稳定且精确的匹配动作。此等离子处理设备中，对等离子生成用高频波RF1及离子引进用高频波RF2的功率，以不同频率的第1及第2脉冲PS1、PS2进行调制时，于等离子生成系统的匹配器40，阻抗传感器96A，于低频率的第2脉冲PS2的各周期，在高频波供电线43上计算负载阻抗的平均值（一次移动平均值ma），根据该负载阻抗的平均值，输出负载阻抗测定值。又，匹配控制器94A以可变方式控制匹配电路88A内的电抗组件XH1、XH2的电抗，俾负载阻抗测定值与匹配点（50Ω）一致或近似。

4. 发明专利

TW201626454A 電漿處理裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW201626454A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW105110981
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA,NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA,TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI,KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI,SATORU , 板谷耕司 , ITADANI,KOJI
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682
摘要：本發明之課題為：於將供給至處理容器內之高頻波的功率加以調變成脈衝的功率調變方式中，進行再現性高之穩定且精確的匹配動作。為解決上述課題，於該電漿處理裝置中，匹配器所具備的阻抗感測器96A可藉由採樣平均值運算電路104A、112A、及移動平均值運算電路106A、114A，對於從電壓感測系統之RF電壓檢測器100A及電流感測系統之RF電流檢測器108A所得到的RF電壓測定值及RF電流測定值施以雙重的採樣平均化處理，而使下述兩者充分地調和：從阻抗感測器96A輸出之負載側阻抗測定值的更新速度、與匹配控制器中之馬達的驅動控制速度。
简体摘要：本发明之课题为：于将供给至处理容器内之高频波的功率加以调制成脉冲的功率调制方式中，进行再现性高之稳定且精确的匹配动作。为解决上述课题，于该等离子处理设备中，匹配器所具备的阻抗传感器96A可借由采样平均值运算电路104A、112A、及移动平均值运算电路106A、114A，对于从电压传感系统之RF电压检测器100A及电流传感系统之RF电流检测器108A所得到的RF电压测定值及RF电流测定值施以双重的采样平均化处理，而使下述两者充分地调和：从阻抗传感器96A输出之负载侧阻抗测定值的更新速度、与匹配控制器中之马达的驱动控制速度。

5. 发明专利

TW201344781A 電漿處理裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW201344781A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101146919
申请日：2012-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 大亨股份有限公司 , DAIHEN CORPORATION
发明人：山田紀和 , YAMADA, NORIKAZU , 立川俊文 , TACHIKAWA, TOSHIFUMI , 永海幸一 , NAGAMI, KOHICHI , 濱石悟 , HAMAISHI, SATORU , 板谷耕司 , ITADANI, KOJI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32165 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4682
摘要：本發明之課題為：於將供給至處理容器內之高頻波的功率加以調變成脈衝的功率調變方式中，進行再現性高之穩定且精確的匹配動作。為解決上述課題，於該電漿處理裝置中，匹配器所具備的阻抗感測器96A可藉由採樣平均值運算電路104A、112A、及移動平均值運算電路106A、114A，對於從電壓感測系統之RF電壓檢測器100A及電流感測系統之RF電流檢測器108A所得到的RF電壓測定值及RF電流測定值施以雙重的採樣平均化處理，而使下述兩者充分地調和：從阻抗感測器96A輸出之負載側阻抗測定值的更新速度、與匹配控制器中之馬達的驅動控制速度。
简体摘要：本发明之课题为：于将供给至处理容器内之高频波的功率加以调制成脉冲的功率调制方式中，进行再现性高之稳定且精确的匹配动作。为解决上述课题，于该等离子处理设备中，匹配器所具备的阻抗传感器96A可借由采样平均值运算电路104A、112A、及移动平均值运算电路106A、114A，对于从电压传感系统之RF电压检测器100A及电流传感系统之RF电流检测器108A所得到的RF电压测定值及RF电流测定值施以双重的采样平均化处理，而使下述两者充分地调和：从阻抗传感器96A输出之负载侧阻抗测定值的更新速度、与匹配控制器中之马达的驱动控制速度。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式