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    • 1. 发明专利
    • 真空處理裝置及光碟之製造方法
    • 真空处理设备及光盘之制造方法
    • TWI332530B
    • 2010-11-01
    • TW094115933
    • 2005-05-17
    • 芝浦機械電子裝置股份有限公司
    • 瀧澤洋次池田治朗
    • C23CG11B
    • G11B7/265C23C14/541C23C14/56C23C14/568
    • 本發明可獲得一種抑制由於真空中連續濺射而產生之熱量造成的基板升溫,且降低於被處理物產生傾斜或變形的真空處理裝置。
      該真空處理裝置之特徵在於具備:主腔室10,其可排氣為真空狀態;真空玄關機構20,其保持主腔室之真空狀態,並將碟片狀被處理物101搬出入於主腔室內外;水平旋轉搬送台50,其配置於主腔室10內,並具備與真空玄關機構20之間進行碟片狀被處理物之授受、搭載的複數個承受器57,以旋轉軸52為中心進行旋轉而形成碟片狀被處理物之搬送路;複數個成膜室30,其於上述主腔室內沿以上述旋轉軸52為中心之圓周配置,於藉由旋轉搬送台搬送之碟片狀被處理物沉積多層膜;以及冷卻機構40,其分別配置於各成膜室間,冷卻碟片狀被處理物。
    • 本发明可获得一种抑制由于真空中连续溅射而产生之热量造成的基板升温,且降低于被处理物产生倾斜或变形的真空处理设备。 该真空处理设备之特征在于具备:主腔室10,其可排气为真空状态;真空玄关机构20,其保持主腔室之真空状态,并将盘片状被处理物101搬出入于主腔室内外;水平旋转搬送台50,其配置于主腔室10内,并具备与真空玄关机构20之间进行盘片状被处理物之授受、搭载的复数个承受器57,以旋转轴52为中心进行旋转而形成盘片状被处理物之搬送路;复数个成膜室30,其于上述主腔室内沿以上述旋转轴52为中心之圆周配置,于借由旋转搬送台搬送之盘片状被处理物沉积多层膜;以及冷却机构40,其分别配置于各成膜室间,冷却盘片状被处理物。