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1. 发明专利

TWI462092B 光學資訊記錄媒體、資訊記錄裝置、資訊再生裝置、資訊記錄方法、資訊再生方法及光學資訊記錄媒體之製造方法有权
简体标题：光学信息记录媒体、信息记录设备、信息再生设备、信息记录方法、信息再生方法及光学信息记录媒体之制造方法
公开(公告)号：TWI462092B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW099106275
申请日：2010-03-04
申请人：松下電器產業股份有限公司 , PANASONIC CORPORATION
发明人：中村敦史 , NAKAMURA, ATSUSHI , 宮川直康 , MIYAGAWA, NAOYASU , 伊藤清貴 , ITO, KIYOTAKA , 東海林衛 , SHOJI, MAMORU , 日野泰守 , HINO, YASUMORI
IPC分类号： G11B7/004 , G11B20/10
CPC分类号： G11B7/00736 , G11B7/00454 , G11B7/00456 , G11B7/261 , G11B7/263 , G11B20/10009 , G11B20/10453 , G11B20/1217 , G11B2007/0006 , G11B2020/1279 , G11B2020/1298 , G11B2220/2541

2. 发明专利

TWI459384B 記錄媒體及其製造方法有权
简体标题：记录媒体及其制造方法
公开(公告)号：TWI459384B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW100145120
申请日：2011-12-07
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：外崎克也 , TONOSAKI, KATSUYA , 鄉古健 , GOUKO, TAKESHI
IPC分类号： G11B7/24 , G11B7/26
CPC分类号： G11B7/24094 , G11B7/261 , G11B7/263

3. 发明专利

TWI384479B 碟片原盤、碟片原盤製造方法、印模、碟片基板、光碟、光碟製造方法失效
简体标题：盘片原盘、盘片原盘制造方法、印模、盘片基板、光盘、光盘制造方法
公开(公告)号：TWI384479B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW097148028
申请日：2008-12-10
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：松原貴志 , MATSUBARA, TAKASHI , 柳澤吉長 , YANAGISAWA, YOSHITAKE
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： G11B7/261 , G11B7/24085 , Y10T428/21

4. 发明专利

TW201236010A 記錄裝置，原盤製造裝置，及光碟記錄媒體之製造方法 RECORDING APPARATUS, MASTER MANUFACTURING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL DISC RECORDING MEDIUM 审中-公开
简体标题：记录设备，原盘制造设备，及光盘记录媒体之制造方法 RECORDING APPARATUS, MASTER MANUFACTURING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL DISC RECORDING MEDIUM
公开(公告)号：TW201236010A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW101103676
申请日：2012-02-04
申请人：新力股份有限公司 , 索尼信息技術股份有限公司
发明人：林忍 , 齋藤昭也
IPC分类号： G11B
CPC分类号： G11B7/00456 , G11B7/261 , G11B7/263
摘要：一種記錄裝置包括一旋轉並驅動一光碟原盤的旋轉驅動部份；及一記錄部份，其藉由在光碟原盤上進行一雷射光照射，基於一具有一第一功率之一平面脈衝的記錄波形、一具有一高於第一功率之第二功率的一記錄脈衝之記錄波形部份、及一具有一低於第一功率之第三功率並插入在平面脈衝及記錄波形部份之間的冷卻脈衝，在光碟原盤上進行一資訊記錄。
简体摘要：一种记录设备包括一旋转并驱动一光盘原盘的旋转驱动部份；及一记录部份，其借由在光盘原盘上进行一激光光照射，基于一具有一第一功率之一平面脉冲的记录波形、一具有一高于第一功率之第二功率的一记录脉冲之记录波形部份、及一具有一低于第一功率之第三功率并插入在平面脉冲及记录波形部份之间的冷却脉冲，在光盘原盘上进行一信息记录。

5. 发明专利

TW201202859A 曝光設備及曝光方法 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
简体标题：曝光设备及曝光方法 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
公开(公告)号：TW201202859A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100104408
申请日：2011-02-10
申请人：新力股份有限公司 , 索尼信息技術股份有限公司
发明人：齋藤昭也 , 鈴木明俊 , 會田桐 , 林忍
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03B27/52 , G11B7/1267 , G11B7/261 , G11B7/263
摘要：本發明提供一種曝光設備，其包含：曝光單元，於包括配置於掃描方向之凹坑與平面的圖案中，以藉由透鏡系統聚焦在光阻層上之第一雷射光束，選擇性地實施曝光在設於基板上之該光阻層上；檢測單元，檢測第二雷射光束的反射，該第二雷射光束經由該透鏡系統施加至選擇性地曝光於該第一雷射光束之該光阻層，該第二雷射光束係藉由改變該透鏡系統的焦距而產生以防止該光阻層對該第二雷射光束有反應；計算單元，自該檢測結果，計算代表反射自具有最小寬度之該圖案的第一部分之光束之訊號波形的中心軸與代表反射自具有大於該第一部分寬度之寬度之該圖案的第二部分之光束之訊號波形的中心軸之間的位移；設定單元，將該透鏡系統的該焦距設定至該位移係最大之值；及控制單元，控制該曝光單元以使該光阻層曝光於以該設定單元設定之該焦距所聚焦之該第一雷射光束。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备，其包含：曝光单元，于包括配置于扫描方向之凹坑与平面的图案中，以借由透镜系统聚焦在光阻层上之第一激光光束，选择性地实施曝光在设于基板上之该光阻层上；检测单元，检测第二激光光束的反射，该第二激光光束经由该透镜系统施加至选择性地曝光于该第一激光光束之该光阻层，该第二激光光束系借由改变该透镜系统的焦距而产生以防止该光阻层对该第二激光光束有反应；计算单元，自该检测结果，计算代表反射自具有最小宽度之该图案的第一部分之光束之信号波形的中心轴与代表反射自具有大于该第一部分宽度之宽度之该图案的第二部分之光束之信号波形的中心轴之间的位移；设置单元，将该透镜系统的该焦距设置至该位移系最大之值；及控制单元，控制该曝光单元以使该光阻层曝光于以该设置单元设置之该焦距所聚焦之该第一激光光束。

6. 发明专利

TW201001414A 聚焦光學系統及光碟母盤曝光裝置 FOCUS OPTICAL SYSTEM AND OPTICAL DISC MASTER EXPOSURE APPARATUS 失效
简体标题：聚焦光学系统及光盘母盘曝光设备 FOCUS OPTICAL SYSTEM AND OPTICAL DISC MASTER EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201001414A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098112793
申请日：2009-04-17
申请人：松下電器產業股份有限公司
发明人：大森健志 , 葛西孝昭 , 前原健志 , 藤田佳兒 , 足羽博明
IPC分类号： G11B
CPC分类号： G11B7/0909 , G11B7/261
摘要：於光碟或光碟母盤曝光裝置之聚焦光學系統中，調整像散光學系統之柱面透鏡與四分割偵檢器之相對位置關係，並使來自光碟母盤之反射光所顯現之干涉條紋射入四分割偵檢器之不感帶，藉此，實現不會受到因干涉條紋所造成的聚焦錯誤信號變動之影響的像散聚焦伺服，藉此，可抑制來自光碟或光碟母盤之反射光所顯現之干涉條紋之影響。
简体摘要：于光盘或光盘母盘曝光设备之聚焦光学系统中，调整像散光学系统之柱面透镜与四分割侦检器之相对位置关系，并使来自光盘母盘之反射光所显现之干涉条纹射入四分割侦检器之不感带，借此，实现不会受到因干涉条纹所造成的聚焦错误信号变动之影响的像散聚焦伺服，借此，可抑制来自光盘或光盘母盘之反射光所显现之干涉条纹之影响。

7. 发明专利

TWI307499B 光學資訊儲存媒體 OPTICAL INFORMATION STORAGE MEDIUM 有权
简体标题：光学信息存储媒体 OPTICAL INFORMATION STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TWI307499B
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：TW093102358
申请日：2004-02-03
申请人：三星電子股份有限公司 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：李炯根 LEE, KYUNG-GEUN
IPC分类号： G11B
CPC分类号： G11B7/24082 , G11B7/00736 , G11B7/261 , G11B7/263
摘要：一種唯讀光學資訊儲存媒體,包括多數個以凹穴記錄資料的區域,其中至少一之這些區域上的凹穴圖案不同於其他這些區域上的凹穴圖案。
简体摘要：一种唯读光学信息存储媒体,包括多数个以凹穴记录数据的区域,其中至少一之这些区域上的凹穴图案不同于其他这些区域上的凹穴图案。

8. 发明专利

TW200910343A 無機光阻材料及其應用於奈米加工的方法 INORGANIC RESIST MATERIAL AND NANO-FABRICATION METHOD BY UTILIZING THE SAME 审中-公开
简体标题：无机光阻材料及其应用于奈米加工的方法 INORGANIC RESIST MATERIAL AND NANO-FABRICATION METHOD BY UTILIZING THE SAME
公开(公告)号：TW200910343A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW096130337
申请日：2007-08-16
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳榮波 CHEN, JUNG PO , 許明芳 HSU, MING FANG , 李安澤 LEE, AN TSE , 鄭宗達 CHENG, CHUNG TA , 楊錦添 YANG, CHIN TIEN , 張勝立 CHANG, SHENG LI , 邱國基 CHIU, KUO CHI
IPC分类号： G11B , G03F
CPC分类号： G03F7/0043 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G11B7/261
摘要：一種無機光阻材料,其為一種相變化材料之不完全氧化物。上述無機光阻材料中的氧含量低於相變化材料之完全氧化物的化學計量的氧含量,且無機光阻材料的通式是A1-xOx,其中A代表相變化材料,而x是介於5 at.%~65 at.%之間。這種無機光阻材料可使用傳統微影製程之雷射光為曝光源並製作出小於曝光光點大小的線寬圖案或記錄點。
简体摘要：一种无机光阻材料,其为一种相变化材料之不完全氧化物。上述无机光阻材料中的氧含量低于相变化材料之完全氧化物的化学计量的氧含量,且无机光阻材料的通式是A1-xOx,其中A代表相变化材料,而x是介于5 at.%~65 at.%之间。这种无机光阻材料可使用传统微影制程之激光光为曝光源并制作出小于曝光光点大小的线宽图案或记录点。

9. 发明专利

TW200903192A 顯影液及細微加工體之製造方法审中-公开
简体标题：显影液及细微加工体之制造方法
公开(公告)号：TW200903192A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097101831
申请日：2008-01-17
申请人：新力股份有限公司 SONY CORPORATION
发明人：齊藤則之 SAITO, NORIYUKI , 安達則夫 ADACHI, NORIO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/322 , G11B7/261
摘要：本發明之顯影液包含:鹼性水溶液,矽酸離子、碳酸離子、硼酸離子及磷酸離子之至少一種陰離子,以及銨離子、有機銨離子及鹼金屬離子之至少一種陽離子。鹼性水溶液係氫氧化四烷基銨水溶液。
简体摘要：本发明之显影液包含:碱性水溶液,硅酸离子、碳酸离子、硼酸离子及磷酸离子之至少一种阴离子,以及铵离子、有机铵离子及碱金属离子之至少一种阳离子。碱性水溶液系氢氧化四烷基铵水溶液。

10. 发明专利

TW200902167A 塗布膜之塗布裝置 FILM COATING APPARATUS 失效
简体标题：涂布膜之涂布设备 FILM COATING APPARATUS
公开(公告)号：TW200902167A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW096136600
申请日：2007-09-29
申请人：國立大學法人東北大學 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 大領一 OHKURA, RYOICHI , 中村修 NAKAMURA, OSAMU , 松岡孝明 MATSUOKA, TAKAAKI
IPC分类号： B05D , B05C , G11B
CPC分类号： G11B5/84 , G03F7/162 , G11B7/261 , H01L21/6715 , H01L21/6838
摘要：本發明中,吾人藉由音速噴嘴朝晶圓背面噴出氣體。沿晶圓背面朝外周側流動之氣體流速在晶圓背面與第2杯狀部之間加速,藉由白努利(Bermoulli)效果固持晶圓。藉此可抑制晶圓之抖動。且可防止光阻液繞流到晶圓背面。
简体摘要：本发明中,吾人借由音速喷嘴朝晶圆背面喷出气体。沿晶圆背面朝外周侧流动之气体流速在晶圆背面与第2杯状部之间加速,借由白努利(Bermoulli)效果固持晶圆。借此可抑制晶圆之抖动。且可防止光阻液绕流到晶圆背面。

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