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1. 发明专利

TWI595311B 用於檢驗光微影光罩之方法、檢驗系統及電腦可讀媒體有权
简体标题：用于检验光微影光罩之方法、检验系统及电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI595311B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW102146271
申请日：2013-12-13
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E.
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30148

2. 发明专利

TWI638227B 用於檢測一光微影光罩之方法及系統及非暫態電腦可讀媒體有权
简体标题：用于检测一光微影光罩之方法及系统及非暂态电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI638227B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW104109611
申请日：2015-03-25
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 劉燕維 , LIU, YANWEI , 熊亞霖 , XIONG, YALIN
IPC分类号： G03F1/84 , G06T7/00

3. 发明专利

TWI608293B 檢驗一光微影光罩之方法及檢驗系統有权
简体标题：检验一光微影光罩之方法及检验系统
公开(公告)号：TWI608293B
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：TW102109908
申请日：2013-03-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 許如芳 , SHI, RUI-FANG
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G01N21/95 , G01M11/00 , G01N21/95607 , G01N2021/9511 , G01N2021/95676 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G03F1/84

4. 发明专利

TW201346438A 使用反射及透射映射來偵測光罩劣化审中-公开
简体标题：使用反射及透射映射来侦测光罩劣化
公开(公告)号：TW201346438A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102109908
申请日：2013-03-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 許如芳 , SHI, RUI-FANG
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G01N21/95 , G01M11/00 , G01N21/95607 , G01N2021/9511 , G01N2021/95676 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G03F1/84
摘要：在一檢驗期間使用一光學光罩檢驗工具來針對各局部區域獲得對應於從光罩之各局部區域之複數個子區域反射之光之多個反射強度值之一平均值。亦在該檢驗期間使用該光學光罩檢驗工具來針對各局部區域獲得對應於透射通過光罩之各局部區域之該等子區域之光之多個透射強度值之一平均值。藉由針對各局部區域組合多個反射強度值之該平均值及多個透射強度值之該平均值而產生一組合強度映射，使得：若光罩尚未劣化，則從該組合強度映射消除光罩之一光罩圖案；及若光罩已劣化，則不從該組合強度映射消除光罩之該光罩圖案。
简体摘要：在一检验期间使用一光学光罩检验工具来针对各局部区域获得对应于从光罩之各局部区域之复数个子区域反射之光之多个反射强度值之一平均值。亦在该检验期间使用该光学光罩检验工具来针对各局部区域获得对应于透射通过光罩之各局部区域之该等子区域之光之多个透射强度值之一平均值。借由针对各局部区域组合多个反射强度值之该平均值及多个透射强度值之该平均值而产生一组合强度映射，使得：若光罩尚未劣化，则从该组合强度映射消除光罩之一光罩图案；及若光罩已劣化，则不从该组合强度映射消除光罩之该光罩图案。

5. 发明专利

TW201339742A 用於標線的時變強度圖之產生审中-公开
简体标题：用于标线的时变强度图之产生
公开(公告)号：TW201339742A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102105191
申请日：2013-02-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 許如芳 , SHI, RUI-FANG , 法渥湯瑪士 , VAVUL, THOMAS
IPC分类号： G03F1/66 , G03F1/38
CPC分类号： G01N21/95 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03F7/7065
摘要：本發明揭示用於檢驗一光微影標線之方法及設備。界定一標線之複數個貼片區。在於任何光微影程序中使用一標線之前，在一第一檢驗期間使用一光學標線檢驗工具以針對複數組一或多個貼片區中之每一者獲得對應於自該標線之每一貼片區之複數個子區量測之光之多個參考強度值之一參考平均值。在於複數個光微影程序中使用該標線之後，在一第二檢驗期間使用該光學標線檢驗工具以針對該等組一或多個貼片區中之每一者獲得對應於自該標線之每一貼片區之該複數個子區量測之光之多個測試強度值之一平均值。將該光學標線檢驗工具之同一設置配方用於該第一檢驗及該第二檢驗兩者。產生一差強度圖，且此圖包含各自對應於該等組一或多個貼片中之每一者之該等測試強度值之每一平均值與該等參考強度值之每一平均值之間的一差之複數個圖值。該差強度圖指示該標線是否已隨著時間降級超過一預定義位準。
简体摘要：本发明揭示用于检验一光微影标线之方法及设备。界定一标线之复数个贴片区。在于任何光微影进程中使用一标线之前，在一第一检验期间使用一光学标线检验工具以针对复数组一或多个贴片区中之每一者获得对应于自该标线之每一贴片区之复数个子区量测之光之多个参考强度值之一参考平均值。在于复数个光微影进程中使用该标线之后，在一第二检验期间使用该光学标线检验工具以针对该等组一或多个贴片区中之每一者获得对应于自该标线之每一贴片区之该复数个子区量测之光之多个测试强度值之一平均值。将该光学标线检验工具之同一设置配方用于该第一检验及该第二检验两者。产生一差强度图，且此图包含各自对应于该等组一或多个贴片中之每一者之该等测试强度值之每一平均值与该等参考强度值之每一平均值之间的一差之复数个图值。该差强度图指示该标线是否已随着时间降级超过一预定义位准。

6. 发明专利

TWI572975B 用於檢驗一光微影標線之方法、檢驗系統及電腦可讀媒體有权
简体标题：用于检验一光微影标线之方法、检验系统及电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI572975B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW102105191
申请日：2013-02-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 許如芳 , SHI, RUI-FANG , 法渥湯瑪士 , VAVUL, THOMAS
IPC分类号： G03F1/66 , G03F1/38
CPC分类号： G01N21/95 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03F7/7065

7. 发明专利

TW201543145A 三角（ＤＥＬＴＡ）晶粒及三角資料庫檢測审中-公开
简体标题：三角（ＤＥＬＴＡ）晶粒及三角数据库检测
公开(公告)号：TW201543145A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104109611
申请日：2015-03-25
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E. , 劉燕維 , LIU, YANWEI , 熊亞霖 , XIONG, YALIN
IPC分类号： G03F1/84 , G06T7/00
摘要：本發明揭示用於檢測一光微影光罩之方法及設備。使用一檢測工具來獲得一光罩上之一組相同晶粒中之每一晶粒之每一分塊區之複數個分塊區影像。判定每一分塊區影像之一積分強度值。基於每一分塊區影像之一圖案稀疏性度量及其與其他分塊區影像之圖案稀疏性度量之相對值來對此分塊區影像之該積分強度值應用一增益。判定若干對該等晶粒之每一分塊之該積分強度值之間的一差以形成該光罩之一差強度圖，每一對該等晶粒包含一測試晶粒及一參考晶粒。該差強度圖與取決於該光罩之特徵邊緣之一特徵特性變化相關。
简体摘要：本发明揭示用于检测一光微影光罩之方法及设备。使用一检测工具来获得一光罩上之一组相同晶粒中之每一晶粒之每一分块区之复数个分块区影像。判定每一分块区影像之一积分强度值。基于每一分块区影像之一图案稀疏性度量及其与其他分块区影像之图案稀疏性度量之相对值来对此分块区影像之该积分强度值应用一增益。判定若干对该等晶粒之每一分块之该积分强度值之间的一差以形成该光罩之一差强度图，每一对该等晶粒包含一测试晶粒及一参考晶粒。该差强度图与取决于该光罩之特征边缘之一特征特性变化相关。

8. 发明专利

TW201432372A 差量晶粒強度映射量測审中-公开
简体标题：差量晶粒强度映射量测
公开(公告)号：TW201432372A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102146271
申请日：2013-12-13
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：海斯卡爾E , HESS, CARL E.
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30148
摘要：運用一光學檢驗工具獲得一光罩之複數個晶粒之複數個嵌塊之影像。獲得該等嵌塊影像以使得每一嵌塊影像在其各別晶粒內相對於如該等嵌塊影像中之另一晶粒等效嵌塊影像在該等晶粒中之每一其他晶粒中之一相同參考位置定位。針對每一嵌塊影像，判定此嵌塊影像之子部分之一影像特性之一積分值。針對每一嵌塊影像，基於該嵌塊影像之對應晶粒等效嵌塊影像之該等積分值判定一參考值。針對每一嵌塊影像，判定彼嵌塊影像之積分值與其晶粒等效嵌塊影像之一平均或中位值之間的一差，藉此一顯著差指示一嵌塊之一圖樣特性與其晶粒等效嵌塊之一平均或中位圖樣特性之一方差。
简体摘要：运用一光学检验工具获得一光罩之复数个晶粒之复数个嵌块之影像。获得该等嵌块影像以使得每一嵌块影像在其各别晶粒内相对于如该等嵌块影像中之另一晶粒等效嵌块影像在该等晶粒中之每一其他晶粒中之一相同参考位置定位。针对每一嵌块影像，判定此嵌块影像之子部分之一影像特性之一积分值。针对每一嵌块影像，基于该嵌块影像之对应晶粒等效嵌块影像之该等积分值判定一参考值。针对每一嵌块影像，判定彼嵌块影像之积分值与其晶粒等效嵌块影像之一平均或中位值之间的一差，借此一显着差指示一嵌块之一图样特性与其晶粒等效嵌块之一平均或中位图样特性之一方差。

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