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1. 发明专利

TW201423150A 包含光學隔離器之雷射掃描模組审中-公开
简体标题：包含光学隔离器之激光扫描模块
公开(公告)号：TW201423150A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102129778
申请日：2013-08-20
申请人：高級微裝置公司 , ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
发明人：戈羅格安妥拉瑪R , GORUGANTHU, RAMA R.
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/002 , G02B21/10
摘要：本專利申請案揭露雷射掃描模組的各種實作。在一實作中，此雷射掃描模組包含有包括第一與第二線性極化器(polarizer)的光學隔離器、組構成接收雷射光源所產生之光線並且將實質準直光束傳遞(pass)到第一線性極化器之準直光學器件(collimating optics)、以及安置成接收第二線性極化器所傳遞之光線之掃描單元。第一線性極化器以小於將第二線性極化器與掃描單元分開之第二距離的第一距離與準直光學器件分開。
简体摘要：本专利申请案揭露激光扫描模块的各种实作。在一实作中，此激光扫描模块包含有包括第一与第二线性极化器(polarizer)的光学隔离器、组构成接收激光光源所产生之光线并且将实质准直光束传递(pass)到第一线性极化器之准直光学器件(collimating optics)、以及安置成接收第二线性极化器所传递之光线之扫描单元。第一线性极化器以小于将第二线性极化器与扫描单元分开之第二距离的第一距离与准直光学器件分开。

2. 发明专利

TWI486626B 包含光學隔離器之雷射掃描模組有权
简体标题：包含光学隔离器之激光扫描模块
公开(公告)号：TWI486626B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW102129778
申请日：2013-08-20
申请人：高級微裝置公司 , ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
发明人：戈羅格安妥拉瑪R , GORUGANTHU, RAMA R.
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/002 , G02B21/10

3. 发明专利

TW201219743A 產生一物體之一影像的光學裝置及方法 OPTICAL APPARATUS AND METHOD FOR CREATING AN IMAGE OF AN OBJECT 审中-公开
简体标题：产生一物体之一影像的光学设备及方法 OPTICAL APPARATUS AND METHOD FOR CREATING AN IMAGE OF AN OBJECT
公开(公告)号：TW201219743A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：TW100128663
申请日：2011-08-11
申请人：烽騰科技有限公司
发明人：柏丹尤克安卓
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01J1/0214 , G02B21/10 , G02B21/365 , G02B27/0018
摘要：本發明提供一種用於選擇性地觀察物體之特徵系統及方法，包括觀察埋設於非透明材料下之特徵。該系統包含：一照明光源，用於產生具有具有一受控之角頻譜一受控之角頻譜一照明光，具有一受控之角頻譜；對照明光進行空間強度調變之一均光光學器件；一退相光學器件，用於減少或抑制因照明光之同調性而於影像中造成之干涉圖案；一遠場校正物鏡，引導該照明光至該物體上並聚集來自該物體之光；一照明光學路徑，自該照明光源傳遞該照明光至遠場校正物鏡；一中繼光學器件，將進入該遠場校正物鏡之該照明光之光線導引至一所需傾角；一可調光圈，使一光纖之一自由孔徑產生漸暈；一變跡元件，位於中繼光學器件內，對照明強度進行空間調變；一影像感測器，產生該物體之一影像；及一成像光學路徑，用於將光自該物體傳遞至該影像感測器，該成像光學路徑包含一管狀透鏡、一可移除塊以及一可調光圈。
简体摘要：本发明提供一种用于选择性地观察物体之特征系统及方法，包括观察埋设于非透明材料下之特征。该系统包含：一照明光源，用于产生具有具有一受控之角频谱一受控之角频谱一照明光，具有一受控之角频谱；对照明光进行空间强度调制之一均光光学器件；一退相光学器件，用于减少或抑制因照明光之同调性而于影像中造成之干涉图案；一远场校正物镜，引导该照明光至该物体上并聚集来自该物体之光；一照明光学路径，自该照明光源传递该照明光至远场校正物镜；一中继光学器件，将进入该远场校正物镜之该照明光之光线导引至一所需倾角；一可调光圈，使一光纤之一自由孔径产生渐晕；一变迹组件，位于中继光学器件内，对照明强度进行空间调制；一影像传感器，产生该物体之一影像；及一成像光学路径，用于将光自该物体传递至该影像传感器，该成像光学路径包含一管状透镜、一可移除块以及一可调光圈。

4. 发明专利

TWI558997B 缺陷觀察方法及其裝置有权
简体标题：缺陷观察方法及其设备
公开(公告)号：TWI558997B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW104112281
申请日：2015-04-16
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：嶺川陽平 , MINEKAWA, YOHEI , 大谷祐子 , OTANI, YUKO , 高木裕治 , TAKAGI, YUJI
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/47 , G01N21/21
CPC分类号： G01B11/14 , G01B11/30 , G01N21/956 , G01N23/2204 , G01N23/2251 , G01N2223/30 , G01N2223/646 , G02B5/3083 , G02B21/0092 , G02B21/10 , G02B21/361 , G02B21/367

5. 发明专利

TW201541069A 缺陷觀察方法及其裝置审中-公开
简体标题：缺陷观察方法及其设备
公开(公告)号：TW201541069A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104112281
申请日：2015-04-16
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：嶺川陽平 , MINEKAWA, YOHEI , 大谷祐子 , OTANI, YUKO , 高木裕治 , TAKAGI, YUJI
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/47 , G01N21/21
CPC分类号： G01B11/14 , G01B11/30 , G01N21/956 , G01N23/2204 , G01N23/2251 , G01N2223/30 , G01N2223/646 , G02B5/3083 , G02B21/0092 , G02B21/10 , G02B21/361 , G02B21/367
摘要：本發明之課題在使檢查對象容易定位。本發明包括暗視野顯微鏡、其他檢查裝置及控制部，暗視野顯微鏡係包含波長板，其對來自試樣之散射光之偏光之方向進行轉換；及檢測器，其將利用波長板轉換後之每一偏光之方向上加以分離並進行檢測；且包含運算部，該運算部使用由檢測器於每一偏光之方向上加以分離並進行檢測所得的複數個圖像，求出由其他檢查裝置檢測出之缺陷候補之位置。
简体摘要：本发明之课题在使检查对象容易定位。本发明包括暗视野显微镜、其他检查设备及控制部，暗视野显微镜系包含波长板，其对来自试样之散射光之偏光之方向进行转换；及检测器，其将利用波长板转换后之每一偏光之方向上加以分离并进行检测；且包含运算部，该运算部使用由检测器于每一偏光之方向上加以分离并进行检测所得的复数个图像，求出由其他检查设备检测出之缺陷候补之位置。

6. 发明专利

TW201809632A 波前之可變校正器审中-公开
简体标题：波前之可变校正器
公开(公告)号：TW201809632A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106126687
申请日：2017-08-08
申请人：荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：史莫諾夫史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV , 迪威特僑漢斯馬修司馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 柯蘭愛曼德尤金尼愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC分类号： G01N21/47 , G03F9/00
CPC分类号： G01N21/9515 , G01N21/47 , G02B21/10 , G02B27/0075 , G03F7/70616
摘要：本發明係關於一光學檢測裝置，其包括：經組態以量測在一基板上經圖案化之結構之一光學度量衡工具，該光學度量衡工具包含：經組態以沿一電磁(EM)輻射路徑導向一EM輻射光束之一EM輻射源；安置於該EM輻射路徑的一部分中且經組態以調整該EM輻射光束之一波前之一形狀的一自適應光學系統，該自適應光學系統包含：一第一非球面光學元件；鄰近該第一非球面光學元件之一第二非球面光學元件；及經組態以引起在不同於該EM輻射路徑之該部分的一光束軸線之一方向上的該第一光學元件與該第二光學元件之間的相對移動之一致動器。
简体摘要：本发明系关于一光学检测设备，其包括：经组态以量测在一基板上经图案化之结构之一光学度量衡工具，该光学度量衡工具包含：经组态以沿一电磁(EM)辐射路径导向一EM辐射光束之一EM辐射源；安置于该EM辐射路径的一部分中且经组态以调整该EM辐射光束之一波前之一形状的一自适应光学系统，该自适应光学系统包含：一第一非球面光学组件；邻近该第一非球面光学组件之一第二非球面光学组件；及经组态以引起在不同于该EM辐射路径之该部分的一光束轴线之一方向上的该第一光学组件与该第二光学组件之间的相对移动之一致动器。

7. 发明专利

TW201415077A 用於一顯微鏡之多方向照明及顯微鏡审中-公开
简体标题：用于一显微镜之多方向照明及显微镜
公开(公告)号：TW201415077A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102130918
申请日：2013-08-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：渥特斯克里斯夫 , WOUTERS, CHRISTOPHE , 波依肯史帝文 , BOEYKENS, STEVEN , 維斯崔肯保羅 , VERSTREKEN, PAUL
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/08 , G02B21/06 , G02B21/084 , G02B21/10
摘要：本發明揭示一種用於一顯微鏡之圓頂照明及一種顯微鏡。至少一物鏡在一自由端處攜載一圓頂，其中該物鏡之該自由端面向物件之一表面。至少一光源經配置使得當將該物鏡定位於該顯微鏡之一光軸或工作位置中時將一照明提供至該圓頂。
简体摘要：本发明揭示一种用于一显微镜之圆顶照明及一种显微镜。至少一物镜在一自由端处携载一圆顶，其中该物镜之该自由端面向对象之一表面。至少一光源经配置使得当将该物镜定位于该显微镜之一光轴或工作位置中时将一照明提供至该圆顶。

8. 发明专利

TW201122543A 微流體管道之物鏡式暗視野照明裝置 OBJECTIVE-TYPE DARK-FIELD ILLUMINATION DEVICE FOR MICROFLUIDIC CHANNEL 审中-公开
简体标题：微流体管道之物镜式暗视野照明设备 OBJECTIVE-TYPE DARK-FIELD ILLUMINATION DEVICE FOR MICROFLUIDIC CHANNEL
公开(公告)号：TW201122543A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW098145966
申请日：2009-12-30
申请人：國立中山大學
发明人：林哲信 , 林世偉 , 徐瑞鴻 , 張志涵
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B21/10 , G01N15/1434 , G01N15/1459 , G01N21/474 , G01N21/645 , G01N2021/4704 , G01N2021/6421
摘要：一種微流體管道之物鏡式暗視野照明裝置，其利用具二對稱弧形狹縫的光學擋板來調整暗視野光源之光學路徑及內數值孔徑，並透過發射端物鏡及針孔擋板之針孔的匹配以使暗視野光源能聚焦成較小之光點，以供照射微流體管道內之待測樣本。該光學路徑及較小之光點可有效解決光線於管壁處產生散射雜訊造成對比降低的問題，故有利於提高後續觀測微流體管道內樣本的散射光和激發螢光的影像解析度。
简体摘要：一种微流体管道之物镜式暗视野照明设备，其利用具二对称弧形狭缝的光学挡板来调整暗视野光源之光学路径及内数值孔径，并透过发射端物镜及针孔挡板之针孔的匹配以使暗视野光源能聚焦成较小之光点，以供照射微流体管道内之待测样本。该光学路径及较小之光点可有效解决光线于管壁处产生散射噪声造成对比降低的问题，故有利于提高后续观测微流体管道内样本的散射光和激发萤光的影像分辨率。

9. 发明专利

TW201727218A 缺陷檢測方法及相關裝置审中-公开
简体标题：缺陷检测方法及相关设备
公开(公告)号：TW201727218A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105138739
申请日：2016-11-24
申请人：索泰克公司 , SOITEC
发明人：佛斯多夫奧利維爾 , PFERSDORFF, OLIVIER
IPC分类号： G01N21/88 , H01J37/29
CPC分类号： G02B21/0016 , G01B9/04 , G01B11/30 , G01N21/4738 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8822 , G01N2021/8874 , G01N2021/8928 , G02B21/10 , G02B21/26 , G02B21/365 , G06K9/4604 , G06T7/0004 , G06T2207/10056 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148 , H01J37/28 , H04N5/2256
摘要：本發明係關於一種用於判定一結構之頂側中一空洞型缺陷之尺寸之方法，所述結構包括設置在一底材上之一頂層，所述缺陷位於所述頂層中；該方法包括：a) 將所述結構(4)引入一反射式暗視野顯微鏡裝置，以從所述頂側散射之一光線(1’’)產生一缺陷相關第一訊號及一粗糙度相關第二訊號之一步驟；以及b) 以複數個像素擷取所述粗糙度相關第二訊號之強度值之一步驟；該方法之特徵在於其更包括：c) 將每一像素所擷取之強度值與鄰近像素所擷取之強度值加以比較，並定義所述每一像素是否被包含在一異常區中之一處理步驟；d) 提取由所述異常區之像素所擷取之強度值之標準差之一步驟；以及e) 根據所提取之標準差，判定與所述異常區相關聯之空洞型缺陷之尺寸之一步驟。本發明亦與一種用於檢測空洞型缺陷之裝置有關。
简体摘要：本发明系关于一种用于判定一结构之顶侧中一空洞型缺陷之尺寸之方法，所述结构包括设置在一底材上之一顶层，所述缺陷位于所述顶层中；该方法包括：a) 将所述结构(4)引入一反射式暗视野显微镜设备，以从所述顶侧散射之一光线(1’’)产生一缺陷相关第一信号及一粗糙度相关第二信号之一步骤；以及b) 以复数个像素截取所述粗糙度相关第二信号之强度值之一步骤；该方法之特征在于其更包括：c) 将每一像素所截取之强度值与邻近像素所截取之强度值加以比较，并定义所述每一像素是否被包含在一异常区中之一处理步骤；d) 提取由所述异常区之像素所截取之强度值之标准差之一步骤；以及e) 根据所提取之标准差，判定与所述异常区相关联之空洞型缺陷之尺寸之一步骤。本发明亦与一种用于检测空洞型缺陷之设备有关。

10. 发明专利

TW201614916A １８３奈米雷射及檢測系統审中-公开
简体标题：１８３奈米激光及检测系统
公开(公告)号：TW201614916A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104132616
申请日：2015-10-02
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 阿姆斯壯 J 喬瑟夫 , ARMSTRONG, J. JOSEPH , 杜立賓斯基維拉得摩 , DRIBINSKI, VLADIMIR , 鄧宇俊 , DENG, YUJUN , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN , 章繼東 , ZHANG, JIDONG
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/108 , G02F1/35 , G01N21/84 , G01N21/95
CPC分类号： H01F17/0006 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G02B21/10 , G02B21/16 , G02B21/361 , G02F1/353 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , H01F17/04 , H01F27/292 , H01S3/0092 , H01S3/10007 , H01S3/10084 , H01S3/1083 , H01S3/109 , H01S5/0071 , H01S5/0085 , H01S5/0604 , H01S5/4012
摘要：本發明揭示一種用於產生處於大約183奈米之一輸出波長之雷射輸出光之雷射總成，其包含一基本雷射、一光學參數系統(OPS)、一個五次諧波產生器及一混頻模組。該基本雷射產生處於一基本頻率之基本光。該OPS產生處於一經降頻轉換頻率之一經降頻轉換信號。該五次諧波產生器產生該基本光之一個五次諧波。該混頻模組混合該經降頻轉換信號與該五次諧波以產生處於等於該五次諧波頻率與該經降頻轉換頻率之一總和之一頻率之該雷射輸出光。該OPS藉由產生處於該經降頻轉換頻率之一經降頻轉換種子信號且然後混合該經降頻轉換種子信號與該基本光之一部分而產生該經降頻轉換信號。該頻率混合、頻率轉換或諧波產生中之至少一者利用一經退火、經氘處理或經氫處理之CLBO晶體。
简体摘要：本发明揭示一种用于产生处于大约183奈米之一输出波长之激光输出光之激光总成，其包含一基本激光、一光学参数系统(OPS)、一个五次谐波产生器及一混频模块。该基本激光产生处于一基本频率之基本光。该OPS产生处于一经降频转换频率之一经降频转换信号。该五次谐波产生器产生该基本光之一个五次谐波。该混频模块混合该经降频转换信号与该五次谐波以产生处于等于该五次谐波频率与该经降频转换频率之一总和之一频率之该激光输出光。该OPS借由产生处于该经降频转换频率之一经降频转换种子信号且然后混合该经降频转换种子信号与该基本光之一部分而产生该经降频转换信号。该频率混合、频率转换或谐波产生中之至少一者利用一经退火、经氘处理或经氢处理之CLBO晶体。

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