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1. 发明专利

TWI701525B 圖案描繪裝置有权
简体标题：图案描绘设备
公开(公告)号：TWI701525B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105131295
申请日：2016-09-29
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 中山修一 , NAKAYAMA, SHUICHI
IPC分类号： G03F7/24 , G02B26/12 , G02F1/13 , G03F7/20

2. 发明专利

TWI695235B 圖案描繪裝置及元件製造方法有权
简体标题：图案描绘设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI695235B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108135217
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00

3. 发明专利

TWI692830B 處理系統有权
简体标题：处理系统
公开(公告)号：TWI692830B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW107128620
申请日：2015-09-03
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20

4. 发明专利

TW202014756A 圖案曝光裝置审中-公开
简体标题：图案曝光设备
公开(公告)号：TW202014756A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108148374
申请日：2015-04-28
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G02B26/10 , G03F7/20 , B23K26/082
摘要：圖案描繪裝置，係藉由雷射光之掃描點在被照射體上描繪既定圖案，其特徵在於，具備：光源裝置，射出該雷射光；複數個描繪單元，為了使該雷射光射入而產生該掃描點，包含使該雷射光掃描之光掃描構件與光學透鏡系，設置成使該掃描點在該被照射體上之不同區域掃描；以及複數個選擇用光學元件，為了切換是否使來自該光源裝置之該雷射光射入該複數個描繪單元中已選擇之該描繪單元，沿著來自該光源裝置之該雷射光之行進方向直列配置。
简体摘要：图案描绘设备，系借由激光光之扫描点在被照射体上描绘既定图案，其特征在于，具备：光源设备，射出该激光光；复数个描绘单元，为了使该激光光射入而产生该扫描点，包含使该激光光扫描之光扫描构件与光学透镜系，设置成使该扫描点在该被照射体上之不同区域扫描；以及复数个选择用光学组件，为了切换是否使来自该光源设备之该激光光射入该复数个描绘单元中已选择之该描绘单元，沿着来自该光源设备之该激光光之行进方向直列配置。

5. 发明专利

TWI684836B 圖案描繪裝置有权
简体标题：图案描绘设备
公开(公告)号：TWI684836B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW108114726
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良圭 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/68

6. 发明专利

TWI683345B 偏光分束器、使用該偏光分束器之曝光裝置、以及元件製造方法有权
简体标题：偏光分束器、使用该偏光分束器之曝光设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI683345B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW106124326
申请日：2013-11-05
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鈴木哲男 , SUZUKI, TETSUO , 鎌田剛忠 , KAMATA, YOSHITADA , 荒井正範 , ARAI, MASANORI , 北紘典 , KITA, KOSUKE
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B5/30

7. 发明专利

TWI668526B 圓筒光罩曝光裝置有权
简体标题：圆筒光罩曝光设备
公开(公告)号：TWI668526B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW107144810
申请日：2012-11-29
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/23

8. 发明专利

TW201921163A 圓筒光罩曝光裝置审中-公开
简体标题：圆筒光罩曝光设备
公开(公告)号：TW201921163A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107144810
申请日：2012-11-29
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/23
摘要：基板處理裝置(1011)，具備：第1支承構件(1021)，以在照明區域(IR)與投影區域(PA)中之一方區域中沿著以既定曲率彎曲成圓筒面狀之第1面(p1001)之方式支承第1物體(M)與第2物體(P)中之一方；以及第2支承構件(1022)，以在照明區域與投影區域中之另一方區域中既定第2面(p1002)之方式支承第1物體與第2物體中之另一方。投影光學系(PL)具備偏向構件，該偏向構件係以從照明區域至投影區域之成像光束之主光線中第1面與投影光學系間之主光線朝向第1面之徑方向中與第2面為非垂直之徑方向之方式使成像光束傳播。
简体摘要：基板处理设备(1011)，具备：第1支承构件(1021)，以在照明区域(IR)与投影区域(PA)中之一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状之第1面(p1001)之方式支承第1物体(M)与第2物体(P)中之一方；以及第2支承构件(1022)，以在照明区域与投影区域中之另一方区域中既定第2面(p1002)之方式支承第1物体与第2物体中之另一方。投影光学系(PL)具备偏向构件，该偏向构件系以从照明区域至投影区域之成像光束之主光线中第1面与投影光学系间之主光线朝向第1面之径方向中与第2面为非垂直之径方向之方式使成像光束传播。

9. 发明专利

TWI649784B 圓筒構件之位置檢測裝置、基板處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：圆筒构件之位置检测设备、基板处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI649784B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104123905
申请日：2015-07-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：堀正和 , HORI, MASAKAZU , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡邊智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 林田洋祐 , HAYASHIDA, YOSUKE , 加藤正紀 , KATO, MASAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

10. 发明专利

TW201842419A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201842419A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107127841
申请日：2015-03-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 奈良奎 , NARA, KEI , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 渡辺智行 , WATANABE, TOMOYUKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置，係以藉由複數個描繪單元之各描繪線在基板上描繪之圖案彼此能隨著基板往長條方向之移動而在基板之寬度方向接合之方式，將複數個描繪單元配置於基板之寬度方向。控制部，預先儲存關於藉由複數個描繪單元之各個形成在基板上之描繪線彼此之位置關係之校準資訊，且根據該校準資訊與從移動測量裝置輸出之移動資訊，調整藉由複數個描繪單元之各個之描繪束形成在基板上之圖案之描繪位置。
简体摘要：基板处理设备，系以借由复数个描绘单元之各描绘线在基板上描绘之图案彼此能随着基板往长条方向之移动而在基板之宽度方向接合之方式，将复数个描绘单元配置于基板之宽度方向。控制部，预先存储关于借由复数个描绘单元之各个形成在基板上之描绘线彼此之位置关系之校准信息，且根据该校准信息与从移动测量设备输出之移动信息，调整借由复数个描绘单元之各个之描绘束形成在基板上之图案之描绘位置。

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