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1. 发明专利

TW201732456A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201732456A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

3. 发明专利

TWI448830B 微影裝置及元件製造方法有权
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI448830B
公开(公告)日：2014-08-11
申请号：TW100103768
申请日：2011-01-31
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：范茲維愛爾恩約翰 , VAN ZWET, ERWIN JOHN , 德賈格皮耶特威廉荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 昂夫里喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 費瑞茲艾瑞克克力斯坦 , FRITZ, ERIK CHRISTIAAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883

4. 发明专利

TW201736986A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201736986A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106121058
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

5. 发明专利

TW200746343A 用於處理及分析基板之平台,裝置,系統及方法 PLATFORMS, APPARATUSES, SYSTEMS AND METHODS FOR PROCESSING AND ANALYZING SUBSTRATES 审中-公开
简体标题：用于处理及分析基板之平台,设备,系统及方法 PLATFORMS, APPARATUSES, SYSTEMS AND METHODS FOR PROCESSING AND ANALYZING SUBSTRATES
公开(公告)号：TW200746343A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096107062
申请日：2007-03-01
申请人：麥可尼克雷射系統公司 MICRONIC LASER SYSTEMS AB
发明人：托伯仲山德史淳 SANDSTROM, TORBJORN , 佳瑞克魯比瑞克 LUBEREK, JAREK , 拉斯史堤布雷特 STIBLERT, LARS , 湯瑪士拉克 LOCK, TOMAS
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70291 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70791 , H05K1/0393 , H05K3/0085
摘要：本發明提供用於製造顯示器、太陽電池板及使用較大大小之工件的其他器件之器件及方法。將工件捲繞為圓柱體,藉此在一維度上將實體大小減小為三分之一。工件捲繞於其上之台架具有圓柱形狀,此允許玻璃之較為穩固及/或緊密之移動,減小機器重量。工件相對較薄,具較大可撓性,且捲繞於具有約1公尺之直徑的圓柱體上。
简体摘要：本发明提供用于制造显示器、太阳电池板及使用较大大小之工件的其他器件之器件及方法。将工件卷绕为圆柱体,借此在一维度上将实体大小减小为三分之一。工件卷绕于其上之台架具有圆柱形状,此允许玻璃之较为稳固及/或紧密之移动,减小机器重量。工件相对较薄,具较大可挠性,且卷绕于具有约1公尺之直径的圆柱体上。

6. 发明专利

TWI226518B 曝光方法及裝置 EXPOSURE METHOD AND APPARATUS 有权
简体标题：曝光方法及设备 EXPOSURE METHOD AND APPARATUS
公开(公告)号：TWI226518B
公开(公告)日：2005-01-11
申请号：TW092100665
申请日：2003-01-14
申请人：液晶先端技術開發中心股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA EKISHO SENTAN GIJUTSU KAIHATSU CENTER
发明人： 川晉 TSUJIKAWA, SUSUMU , 谷口幸夫 TANIGUCHI, YUKIO , 山口弘高 YAMAGUCHI, HIROTAKA , 松村正清 MATSUMURA, MASAKIYO
IPC分类号： G03F , H01L , H05K
CPC分类号： G03F7/70075 , G03B27/42 , G03F7/70366
摘要：本發明提供一種曝光方法及裝置，其目的，係將用以令支撐光罩及具有感光材之被曝光物之支撐機構移動的驅動機構所承受之物理性負荷予以減低，並將驅動機構製作成簡單的結構。
本發明之曝光方法，係包含有：使來自曝光用光源之至少部分光源，入射至支撐於支撐機構之光罩的入射步驟；使來自光罩之透過光，由與入射至光罩之光入射方向不同的方向入射至支撐於支撐機構之感光材，並使前述透過光成像於感光材之成像步驟；旋轉支撐機構，使來自光源的光得以沿著周方向變化其入射於光罩之照射位置的旋轉步驟；在支撐機構之旋轉中，使照射到光罩及感光材的光的照射位置，得以在旋轉面內，朝著與周方向不同方向變化的照射位置變更步驟。
简体摘要：本发明提供一种曝光方法及设备，其目的，系将用以令支撑光罩及具有感光材之被曝光物之支撑机构移动的驱动机构所承受之物理性负荷予以减低，并将驱动机构制作成简单的结构。本发明之曝光方法，系包含有：使来自曝光用光源之至少部分光源，入射至支撑于支撑机构之光罩的入射步骤；使来自光罩之透过光，由与入射至光罩之光入射方向不同的方向入射至支撑于支撑机构之感光材，并使前述透过光成像于感光材之成像步骤；旋转支撑机构，使来自光源的光得以沿着周方向变化其入射于光罩之照射位置的旋转步骤；在支撑机构之旋转中，使照射到光罩及感光材的光的照射位置，得以在旋转面内，朝着与周方向不同方向变化的照射位置变更步骤。

7. 发明专利

TWI594081B 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI594081B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW102108160
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00

8. 发明专利

TWI524091B 使用旋轉印刷臂以投射或觀看在工作部件上之影像之方法及裝置有权
简体标题：使用旋转印刷臂以投射或观看在工作部件上之影像之方法及设备
公开(公告)号：TWI524091B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW098141585
申请日：2009-12-04
申请人：麥可尼克資料處理公司 , MICRONIC MYDATA AB
发明人：桑德斯壯托柏裘恩 , 林德奧史丹 , LINDAU, STEN
IPC分类号： G02B26/08 , G02B26/10 , G03F7/20
CPC分类号： B41J2/47 , G02B26/105 , G03F7/70291 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704

9. 发明专利

TW201331723A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201331723A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101147225
申请日：2012-12-13
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：巴特勒漢斯 , BUTLER, HANS , 柏利克阿諾詹 , BLEEKER, ARNO JAN , 漢納斯皮耶特雷納特瑪利亞 , HENNUS, PIETER RENAAT MARIA , 霍克斯馬丁諾司亨德瑞克亨瑞克斯 , HOEKS, MARTINUS HENDRICUS HENRICUS , 侯史文安東尹喬漢 , HOL, SVEN ANTOIN JOHAN , 凡德蕭特海曼克萊斯 , VAN DER SCHOOT, HARMEN KLAAS , 斯萊克博納德安東尼斯 , SLAGHEKKE, BERNARDUS ANTONIUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 范德威斯特馬克威海瑪馬里亞 , VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA , 薩爾柯恩賈可布喬哈奈馬瑞亞 , ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 凱迪李歐朵魯斯佩特魯斯瑪麗亞 , CADEE, THEODORUS PETRUS MARIA , 畢瑞恩斯洛德安東尼斯凱薩琳娜瑪利亞 , BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA , 費雪歐拉夫馬迪尼司喬塞福爾斯 , FISCHER, OLOF MARTINUS JOSEPHUS , 安真南威赫目斯漢瑞克斯賽多魯司馬力雅 , AANGENENT, WILHELMUS HENRICUS THEODORUS MARIA , 波許尼爾喬漢尼斯馬利亞 , BOSCH, NIELS JOHANNES MARIA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要：一種曝光裝置，其包括：一投影系統，其經組態以將複數個輻射光束投影至一目標上；一可移動框架，其至少可圍繞一軸線而旋轉；及一致動器系統，其經組態以使該可移動框架位移至遠離對應於該可移動框架之幾何中心之一軸線的一軸線且致使該框架圍繞通過該框架之質心之一軸線而旋轉。
简体摘要：一种曝光设备，其包括：一投影系统，其经组态以将复数个辐射光束投影至一目标上；一可移动框架，其至少可围绕一轴线而旋转；及一致动器系统，其经组态以使该可移动框架位移至远离对应于该可移动框架之几何中心之一轴线的一轴线且致使该框架围绕通过该框架之质心之一轴线而旋转。

10. 发明专利

TW201344373A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201344373A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102108160
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

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