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    • 3. 发明专利
    • 貼合機
    • 贴合机
    • TW201540512A
    • 2015-11-01
    • TW103144072
    • 2014-12-17
    • 三榮技研股份有限公司SANEI GIKEN CO., LTD.
    • 三宅健MIYAKE, KEN高木俊博TAKAGI, TOSHIHIRO
    • B32B37/10
    • B32B37/0053B32B37/06B32B37/10B32B2037/0061
    • 本發明的課題在於:改善貼合機中,壓接滾子對基板及薄膜之按壓力的一致性。 本發明的貼合機,具備第1壓接滾子及第2壓接滾子,該第2壓接滾子被配置在較第1壓接滾子更上方,且構成能朝「接近第1壓接滾子的方向(第1方向)」及「遠離第1壓接滾子的方向(第2方向)」移動。本發明的貼合機,更進一步具備支承滾子、加壓滾子及驅動機構;該支承滾子在較第1壓接滾子更下方,支承第1壓接滾子;該加壓滾子被設在較第2壓接滾子更上方,構成可朝第1方向及第2方向移動,並可藉由朝第1方向的移動,將第2壓接滾子朝第1壓接滾子側按壓;該驅動機構,用來使加壓滾子朝第1方向及第2方向移動。
    • 本发明的课题在于:改善贴合机中,压接滚子对基板及薄膜之按压力的一致性。 本发明的贴合机,具备第1压接滚子及第2压接滚子,该第2压接滚子被配置在较第1压接滚子更上方,且构成能朝“接近第1压接滚子的方向(第1方向)”及“远离第1压接滚子的方向(第2方向)”移动。本发明的贴合机,更进一步具备支承滚子、加压滚子及驱动机构;该支承滚子在较第1压接滚子更下方,支承第1压接滚子;该加压滚子被设在较第2压接滚子更上方,构成可朝第1方向及第2方向移动,并可借由朝第1方向的移动,将第2压接滚子朝第1压接滚子侧按压;该驱动机构,用来使加压滚子朝第1方向及第2方向移动。
    • 5. 发明专利
    • 曝光裝置、曝光方法
    • 曝光设备、曝光方法
    • TW201514629A
    • 2015-04-16
    • TW103111034
    • 2014-03-25
    • 三榮技研股份有限公司SANEI GIKEN CO., LTD.
    • 三宅健MIYAKE, KEN高木俊博TAKAGI, TOSHIHIRO
    • G03F7/20H01L21/027H01L21/677
    • G03F7/707G03F7/70791
    • 提供一種能夠以簡單的構成而穩定地成像於基板之曝光面全區域的曝光技術。 對可撓性帶狀之基板進行曝光的曝光裝置,係具備有:第1及第2挾持部,具有由光透性的構件所形成且具有平坦面的透過部,並可藉由各個平坦面來挾持基板;第1移動部,使第2挾持部朝向2個挾持部靠近的方向及遠離的方向移動;第1曝光部,固定地位於第1挾持部之側;第2曝光部,配置於第2挾持部之側;及第2移動部,在基板之挾持狀態下,使2個挾持部與2個曝光部相對移動。曝光裝置,係於挾持狀態下,將2個挾持部之各個平坦面與2個曝光部及第2曝光部的距離保持固定且使第1及第2挾持部移動,進而將基板送至長邊方向,並經由2個挾持部的透過部,同時對基板的兩面進行曝光。
    • 提供一种能够以简单的构成而稳定地成像于基板之曝光面全区域的曝光技术。 对可挠性带状之基板进行曝光的曝光设备,系具备有:第1及第2挟持部,具有由光透性的构件所形成且具有平坦面的透过部,并可借由各个平坦面来挟持基板;第1移动部,使第2挟持部朝向2个挟持部靠近的方向及远离的方向移动;第1曝光部,固定地位于第1挟持部之侧;第2曝光部,配置于第2挟持部之侧;及第2移动部,在基板之挟持状态下,使2个挟持部与2个曝光部相对移动。曝光设备,系于挟持状态下,将2个挟持部之各个平坦面与2个曝光部及第2曝光部的距离保持固定且使第1及第2挟持部移动,进而将基板送至长边方向,并经由2个挟持部的透过部,同时对基板的两面进行曝光。
    • 7. 发明专利
    • 曝光裝置、曝光方法
    • 曝光设备、曝光方法
    • TW201351067A
    • 2013-12-16
    • TW102120332
    • 2013-06-07
    • 三榮技研股份有限公司SANEI GIKEN CO., LTD.
    • 三宅健MIYAKE, KEN高木俊博TAKAGI, TOSHIHIRO
    • G03F7/20
    • 本發明的課題是在於提升曝光技術的生產性。其解決手段是曝光裝置具備:(1)第1移動部,其係具備保持基板的第1基板保持部,使第1基板保持部移動於第1待機位置與第1曝光位置之間,該第1曝光位置係於曝光面朝第1方向的狀態下配置基板;(2)第2移動部,其係具備保持基板的第2基板保持部,使第2基板保持部移動於第2待機位置與第2曝光位置之間,該第2曝光位置係於曝光面朝第1方向的狀態,且於第1曝光位置的基板的曝光面與和第1方向正交的第2方向排列的狀態下配置被第2基板保持部所保持的基板;及(3)曝光部,其係具備可沿著導件來移動於第1曝光位置與第2曝光位置之間的曝光頭,該導件是沿著第2方向而配置,選擇性地將被配置於第1曝光位置的基板及被配置於第2曝光位置的基板予以曝光。
    • 本发明的课题是在于提升曝光技术的生产性。其解决手段是曝光设备具备:(1)第1移动部,其系具备保持基板的第1基板保持部,使第1基板保持部移动于第1待机位置与第1曝光位置之间,该第1曝光位置系于曝光面朝第1方向的状态下配置基板;(2)第2移动部,其系具备保持基板的第2基板保持部,使第2基板保持部移动于第2待机位置与第2曝光位置之间,该第2曝光位置系于曝光面朝第1方向的状态,且于第1曝光位置的基板的曝光面与和第1方向正交的第2方向排列的状态下配置被第2基板保持部所保持的基板;及(3)曝光部,其系具备可沿着导件来移动于第1曝光位置与第2曝光位置之间的曝光头,该导件是沿着第2方向而配置,选择性地将被配置于第1曝光位置的基板及被配置于第2曝光位置的基板予以曝光。