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1. 发明专利

TW201527738A 液流中的陰離子電荷的光學決定方法、該方法中獲得的光吸收結果的用途、用於光學量測的元件以及該元件的用途审中-公开
简体标题：液流中的阴离子电荷的光学决定方法、该方法中获得的光吸收结果的用途、用于光学量测的组件以及该组件的用途
公开(公告)号：TW201527738A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103140352
申请日：2014-11-21
申请人：克密拉股份有限公司 , KEMIRA OYJ
发明人：巴哈薩咯拉利 , VAHASALO, LARI , 約恩蘇伊利斯 , JOENSUU, IIRIS , 皮羅寧瑪麗亞塔 , PIIRONEN, MARJATTA
IPC分类号： G01N21/31
CPC分类号： G01N21/85 , B03B7/00 , C02F1/5209 , C09B21/00 , C09B67/0075 , D21H23/08 , D21H23/78 , G01N15/06 , G01N21/274 , G01N21/314 , G01N21/59 , G01N21/78 , G01N21/82 , G01N21/83 , G01N27/447 , G01N31/22 , G01N33/182 , G01N33/343 , G01N2015/0053 , G01N2015/0092 , G01N2015/0693 , G01N2021/3155 , G01N2021/7783 , G01N2021/8411 , G01N2021/8416 , G01N2021/8557 , G01N2201/127 , G01N2201/129
摘要：本發明是關於一種含水液流的光學量測以及處理所述量測的結果的方法，以便判定所述液流的陰離子電荷，所述方法藉由量測所述液流的光吸收且使用諸如運算計算的運算處理來預測所述液流中的陰離子基團的量來進行。特定言之，所述方法包含以下步驟：將某一量的陽離子染料添加至所述含水液流，量測所述所獲得的含有染料的液流的光吸收光譜，以及使用運算處理來處理所述所獲得的光吸收光譜以便獲得所述陰離子電荷。本發明亦是關於所述所獲得的光譜在判定所述液流的混濁度上的用途，以及適用於進行所述方法的元件。
简体摘要：本发明是关于一种含水液流的光学量测以及处理所述量测的结果的方法，以便判定所述液流的阴离子电荷，所述方法借由量测所述液流的光吸收且使用诸如运算计算的运算处理来预测所述液流中的阴离子基团的量来进行。特定言之，所述方法包含以下步骤：将某一量的阳离子染料添加至所述含水液流，量测所述所获得的含有染料的液流的光吸收光谱，以及使用运算处理来处理所述所获得的光吸收光谱以便获得所述阴离子电荷。本发明亦是关于所述所获得的光谱在判定所述液流的混浊度上的用途，以及适用于进行所述方法的组件。

2. 发明专利

TWI480547B 清潔設備、測量方法及校正方法有权
简体标题：清洁设备、测量方法及校正方法
公开(公告)号：TWI480547B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW101139461
申请日：2012-10-25
申请人：世創電子材料公司 , SILTRONIC AG
发明人：榛原照男 , HAIBARA, TERUO , 森良弘 , MORI, YOSHIHIRO , 久保悅子 , KUBO, ETSUKO , 內部真佐志 , UCHIBE, MASASHI
IPC分类号： G01N29/14 , G01N29/02 , G01N29/30 , H01L21/67 , B08B3/12
CPC分类号： G01N21/274 , G01N21/70 , G01N21/71 , G01N29/2418 , G01N2021/8416

3. 发明专利

TW201502575A 類比干涉調變器色彩校正审中-公开
简体标题：模拟干涉调制器色彩校正
公开(公告)号：TW201502575A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103119124
申请日：2014-05-30
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：恩迪區丹尼斯赫恩茲 , ENDISCH, DENIS HEINZ
IPC分类号： G02B26/00 , G09G3/34
CPC分类号： H04N17/02 , G01N21/274 , G09G3/3466 , G09G5/04 , G09G2320/0666 , G09G2360/144 , G09G2360/145
摘要：本發明提供用於校正諸如類比干涉調變器(IMOD)之類比顯示元件之系統、方法及設備。在一個態樣中，顯示裝置包括一光轉向層及整合色彩感測器，以便提供關於顯示器之操作的回饋。詳言之，該等整合色彩感測器可用於判定由一類比顯示元件輸出之一色彩信號的一相對移位。
简体摘要：本发明提供用于校正诸如模拟干涉调制器(IMOD)之模拟显示组件之系统、方法及设备。在一个态样中，显示设备包括一光转向层及集成色彩传感器，以便提供关于显示器之操作的回馈。详言之，该等集成色彩传感器可用于判定由一模拟显示组件输出之一色彩信号的一相对移位。

4. 发明专利

TW201502461A 度量衡系統校準之精細化审中-公开
简体标题：度量衡系统校准之精细化
公开(公告)号：TW201502461A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103117399
申请日：2014-05-16
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：闊克希東 , KWAK, HIDONG , 雷索尼約翰 , LESOINE, JOHN , 薩迪克馬立可 , SADIQ, MALIK , 魏藍華 , WEI, LANHUA , 克里許南桑卡 , KRISHNAN, SHANKAR , 波斯拉夫斯基李奧尼多 , POSLAVSKY, LEONID , 蘇夏奇克米克海爾M , SUSHCHIK, MIKHAIL M.
IPC分类号： G01B11/00 , G01N21/95
CPC分类号： G01N21/211 , G01B2210/56 , G01N21/274 , G01N21/9501 , G01N2021/213
摘要：本發明呈現用於跨越一或多個光學度量衡系統匹配量測光譜之方法及系統。將用於判定一試樣對由一目標度量衡系統執行之一量測之光譜回應之一或多個系統參數的值最佳化。該等系統參數值經最佳化，使得由一參考系統及該目標系統產生之量測光譜之間的差針對相同度量衡目標的量測最小化。本發明亦呈現用於跨越一或多個光學度量衡系統匹配光譜誤差之方法及系統。一受信任度量衡系統量測至少一個試樣參數之值，以使由在該等參考及目標度量衡系統進行之量測時間處存在之不同量測條件所引起的模型誤差最小化。呈現用於基於低階回應表面之參數最佳化的方法及系統，以減少精細化系統校準參數所需的計算時間。
简体摘要：本发明呈现用于跨越一或多个光学度量衡系统匹配量测光谱之方法及系统。将用于判定一试样对由一目标度量衡系统运行之一量测之光谱回应之一或多个系统参数的值最优化。该等系统参数值经最优化，使得由一参考系统及该目标系统产生之量测光谱之间的差针对相同度量衡目标的量测最小化。本发明亦呈现用于跨越一或多个光学度量衡系统匹配光谱误差之方法及系统。一受信任度量衡系统量测至少一个试样参数之值，以使由在该等参考及目标度量衡系统进行之量测时间处存在之不同量测条件所引起的模型误差最小化。呈现用于基于低级回应表面之参数最优化的方法及系统，以减少精细化系统校准参数所需的计算时间。

5. 发明专利

TWI411900B 光電回授感測系統有权
简体标题：光电回授传感系统
公开(公告)号：TWI411900B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW099115601
申请日：2010-05-14
申请人：國立中正大學 , NATIONAL CHUNG CHENG UNIVERSITY
发明人：周禮君 , CHAU, LAI KWAN , 謝賜山 , SHIEH, SZU SHAN , 郭晉榮 , KUO, CHIN JUNG , 姜崇勝 , CHIANG, CHUNG SHENG , 江昌嶽 , CHIANG, CHANG YUE , 施侑伸 , SHIH, YU SHEN
IPC分类号： G05D25/02 , G01N21/55
CPC分类号： G01J1/1626 , G01N21/274 , G01N21/554 , G01N21/7703 , G01N2201/0624

6. 发明专利

TW201231953A 試片自動判讀方法及其系統 AUTOMATIC ANALYZING METHOD AND SYSTEM FOR TEST STRIP 审中-公开
简体标题：试片自动判读方法及其系统 AUTOMATIC ANALYZING METHOD AND SYSTEM FOR TEST STRIP
公开(公告)号：TW201231953A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100130777
申请日：2011-08-26
申请人：中研應用感測科技股份有限公司 , 蕭敻
发明人：蕭敻
IPC分类号： G01N , G06T
CPC分类号： G01N21/8483 , G01N21/274
摘要：一種試片自動判讀方法，其包含提供一至少具有一反應區與一比對區之試片單元；擷取試片單元之影像；分析試片單元之影像，以取得比對區影像之一第一影像訊號以及反應區影像之一第二影像訊號；將第一影像訊號與一標準訊號進行比對，以取得一影像訊號校正參數；以影像訊號校正參數校正第二影像訊號，以取得一第三影像訊號；以及分析第三影像訊號以取得一對應之參數值。本發明另提出試片自動判讀系統。
简体摘要：一种试片自动判读方法，其包含提供一至少具有一反应区与一比对区之试片单元；截取试片单元之影像；分析试片单元之影像，以取得比对区影像之一第一影像信号以及反应区影像之一第二影像信号；将第一影像信号与一标准信号进行比对，以取得一影像信号校正参数；以影像信号校正参数校正第二影像信号，以取得一第三影像信号；以及分析第三影像信号以取得一对应之参数值。本发明另提出试片自动判读系统。

7. 发明专利

TWI332076B 端部檢查裝置之校正方法 CALIBRATION METHOD FOR WAFER EDGE INSPECTION SYSTEM 有权
简体标题：端部检查设备之校正方法 CALIBRATION METHOD FOR WAFER EDGE INSPECTION SYSTEM
公开(公告)号：TWI332076B
公开(公告)日：2010-10-21
申请号：TW096121106
申请日：2007-06-12
申请人：瑞德科技股份有限公司
发明人：平本和之 , 岩崎剛
IPC分类号： G01B , G01N
CPC分类号： G01N21/9503 , G01B11/306 , G01N21/274 , G01N21/4788
摘要：本發明提供一種端部檢查裝置之校正方法，係具備：對被檢查基板之端部照射檢查光的發光部；以及用以檢測在前述被檢查基板之前述端部反射之反射光之光學特性的檢測部，而且根據由前述檢測部所檢測出之前述反射光的前述光學特性，進行檢測在前述被檢查基板之前述端部所產生之缺陷的端部檢查裝置之校正方法，其特徵為具備：擬似缺陷形成步驟，在成為基準之校正用基板的端部，以周方向形成以使厚度方向之位置、形狀、尺寸之中之至少1個分別彼此相異的方式設定的複數個擬似缺陷；檢測步驟，對前述各擬似缺陷之各個照射前述檢查光，且藉由前述檢測部檢測前述反射光之前述光學特性；以及調整步驟，根據由前述各擬似缺陷之各個所檢測出的前述反射光之前述光學特性，進行前述端部檢查裝置的校正。
简体摘要：本发明提供一种端部检查设备之校正方法，系具备：对被检查基板之端部照射检查光的发光部；以及用以检测在前述被检查基板之前述端部反射之反射光之光学特性的检测部，而且根据由前述检测部所检测出之前述反射光的前述光学特性，进行检测在前述被检查基板之前述端部所产生之缺陷的端部检查设备之校正方法，其特征为具备：拟似缺陷形成步骤，在成为基准之校正用基板的端部，以周方向形成以使厚度方向之位置、形状、尺寸之中之至少1个分别彼此相异的方式设置的复数个拟似缺陷；检测步骤，对前述各拟似缺陷之各个照射前述检查光，且借由前述检测部检测前述反射光之前述光学特性；以及调整步骤，根据由前述各拟似缺陷之各个所检测出的前述反射光之前述光学特性，进行前述端部检查设备的校正。

8. 发明专利

TW201020691A 微影裝置及濕度測量系統 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND HUMIDITY MEASUREMENT SYSTEM 审中-公开
简体标题：微影设备及湿度测量系统 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND HUMIDITY MEASUREMENT SYSTEM
公开(公告)号：TW201020691A
公开(公告)日：2010-06-01
申请号：TW098130953
申请日：2009-09-14
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：凡多倫李歐 , 賈庫博喬漢斯亨利哈斯威廉瑪斯 , 強可沃特安德列斯
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G01N21/39 , G01N21/274 , G01N21/314 , G01N21/3554 , G01N2021/399 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70916
摘要：本發明揭示一種用於(例如)一微影裝置中之濕度測量系統。該濕度測量系統包括一可調諧雷射二極體,該可調諧雷射二極體經組態以發射具有在一波長範圍內之一波長的一測量輻射光束。該波長範圍包括與水分子之一吸收峰値相關聯的一第一波長。一信號處理單元連接至一輻射偵測器。該信號處理單元經組態以測量該可調諧雷射二極體之經受吸收之該測量輻射光束之一强度。該信號處理單元亦連接至該可調諧雷射二極體以用於獲得波長資訊。該信號處理單元經配置以偵測作為該波長之函數之一經測量强度中之一極値,且根據該經偵測極値而計算一濕度値。
简体摘要：本发明揭示一种用于(例如)一微影设备中之湿度测量系统。该湿度测量系统包括一可调谐激光二极管,该可调谐激光二极管经组态以发射具有在一波长范围内之一波长的一测量辐射光束。该波长范围包括与水分子之一吸收峰値相关联的一第一波长。一信号处理单元连接至一辐射侦测器。该信号处理单元经组态以测量该可调谐激光二极管之经受吸收之该测量辐射光束之一强度。该信号处理单元亦连接至该可调谐激光二极管以用于获得波长信息。该信号处理单元经配置以侦测作为该波长之函数之一经测量强度中之一极値,且根据该经侦测极値而计算一湿度値。

9. 发明专利

TW200951411A 光放射光譜標準化用之方法與設備 METHODS AND APPARATUS FOR NORMALIZING OPTICAL EMISSION SPECTRA 审中-公开
简体标题：光放射光谱标准化用之方法与设备 METHODS AND APPARATUS FOR NORMALIZING OPTICAL EMISSION SPECTRA
公开(公告)号：TW200951411A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098111186
申请日：2009-04-03
申请人：蘭姆研究公司
发明人：維納寇帕維傑亞庫瑪C , 派博艾利克 , 布斯珍保羅
IPC分类号： G01J , H01L
CPC分类号： G01N21/274 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0218 , G01J3/0294 , G01J3/443 , G01N21/68
摘要：提供一種電漿放射之原位光詢問的配置，以定量量測電漿腔室中之標準化光放射光譜。該配置包含一閃光燈及一組石英窗。該配置亦包含複數之平行光學組件，其光學地連結至該石英窗組。該配置更包含複數之光纖束，其包含至少一照明光纖束、一收集光纖束、及一參考光纖束。該配置還更包含一多通道光譜儀，其設有至少一信號通道及一參考通道。該信號通道光學地連接至該閃光燈、該石英窗組、該平行光學組件組、該照明光纖束、及該收集光纖束，以量測一第一信號。
简体摘要：提供一种等离子放射之原位光询问的配置，以定量量测等离子腔室中之标准化光放射光谱。该配置包含一闪光灯及一组石英窗。该配置亦包含复数之平行光学组件，其光学地链接至该石英窗组。该配置更包含复数之光纤束，其包含至少一照明光纤束、一收集光纤束、及一参考光纤束。该配置还更包含一多信道光谱仪，其设有至少一信号信道及一参考信道。该信号信道光学地连接至该闪光灯、该石英窗组、该平行光学组件组、该照明光纤束、及该收集光纤束，以量测一第一信号。

10. 发明专利

TW567056B 用以分類非侵入式血液分析預測樣品光譜之多路徑方法失效
简体标题：用以分类非侵入式血液分析预测样品光谱之多路径方法
公开(公告)号：TW567056B
公开(公告)日：2003-12-21
申请号：TW090122161
申请日：2001-09-06
申请人：塞西斯醫藥股份有限公司
发明人：史帝芬孟佛雷 , 喬瑟夫E 歐伯藍德 , 提姆西L 羅西第 , 蘇瑞須納迪歐
IPC分类号： A61B
CPC分类号： G06K9/6217 , A61B5/1075 , A61B5/14532 , A61B5/1455 , A61B5/1495 , A61B5/7264 , A61B2560/0223 , A61B2560/0233 , G01N21/274 , G01N21/359 , G01N21/4785 , G01N21/49 , Y10S128/92
摘要：一種多路徑分類和校正方法，在非侵入式血液分析物測量中，能藉著限制共變異干擾物而減少預測誤差。組織樣品係根據人口統計學和包含體內近紅外線光譜儀器測量的皮膚測量而分類。一種多路徑智慧模式分類順序組織光譜資料成為在組織特性方面具有高度內部一致性的叢集。在每一個路徑，利用受測者人口統計學，光譜測量資料和其他適合發展組織分類的設計測量來依次純化類別。用來校正多路徑分類研究是利用多變數統計學論證且多路徑分類是使用光譜特徵。多路徑分類所使用的變數可能是皮膚表面含水量、皮膚表面溫度、組織體積含水量、和經由近紅外線之脂肪波段所估計的真皮的相對的光學厚度。利用循著關鍵波長段落的近紅外線光譜訊號來評估所有組織參數。
简体摘要：一种多路径分类和校正方法，在非侵入式血液分析物测量中，能借着限制共变异干扰物而减少预测误差。组织样品系根据人口统计学和包含体内近红外线光谱仪器测量的皮肤测量而分类。一种多路径智能模式分类顺序组织光谱数据成为在组织特性方面具有高度内部一致性的集群。在每一个路径，利用受测者人口统计学，光谱测量数据和其他适合发展组织分类的设计测量来依次纯化类别。用来校正多路径分类研究是利用多变量统计学论证且多路径分类是使用光谱特征。多路径分类所使用的变量可能是皮肤表面含水量、皮肤表面温度、组织体积含水量、和经由近红外线之脂肪波段所估计的真皮的相对的光学厚度。利用循着关键波长段落的近红外线光谱信号来评估所有组织参数。

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