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    • 1. 发明专利
    • 金屬矽純化裝置
    • 金属硅纯化设备
    • TW201128001A
    • 2011-08-16
    • TW099104551
    • 2010-02-12
    • 星野政宏高政治
    • 星野政宏高政治
    • C30B
    • C01B33/037C30B11/002C30B11/003C30B29/06F27B14/06F27B14/14H05B7/18
    • 本發明提供一種金屬矽純化裝置,針對以往太陽能電池所使用複晶矽的生產方式需伴隨化學反應之大規模製造設備,因價格高昂且建設期間長,不但會產生化學副產物污染環境,且在製造過程中亦因毒性化學藥品的使用而增加工安危險。為解決此一問題,本發明採用將現有純化設備加以改造方式,設置包括以下至少一種的裝置:一組設於坩堝上方獨立的噴射機構,以將純化所需電漿、氣體、藥品等以高速噴射氣流供給至熔融矽之表面進行循環攪拌;一組設於坩堝內熔融矽液面上方適當位置之誘導構件,以導引熔融矽所蒸發氣體迴流至熔融矽表面;及一組設於腔室下方可昇降、旋轉及水平移動坩堝的操控機構,藉以控制坩堝相對於加熱體及誘導構件位置達到純化的效果。藉由上述結構性的改造而具備構成簡單、改造規模小、建設期間短、無有害原料、不產生毒性副產物等優點,因此可因應市場要求而彈性調整生產體制。
    • 本发明提供一种金属硅纯化设备,针对以往太阳能电池所使用复晶硅的生产方式需伴随化学反应之大规模制造设备,因价格高昂且建设期间长,不但会产生化学副产物污染环境,且在制造过程中亦因毒性化学药品的使用而增加工安危险。为解决此一问题,本发明采用将现有纯化设备加以改造方式,设置包括以下至少一种的设备:一组设于坩埚上方独立的喷射机构,以将纯化所需等离子、气体、药品等以高速喷射气流供给至熔融硅之表面进行循环搅拌;一组设于坩埚内熔融硅液面上方适当位置之诱导构件,以导引熔融硅所蒸发气体回流至熔融硅表面;及一组设于腔室下方可升降、旋转及水平移动坩埚的操控机构,借以控制坩埚相对于加热体及诱导构件位置达到纯化的效果。借由上述结构性的改造而具备构成简单、改造规模小、建设期间短、无有害原料、不产生毒性副产物等优点,因此可因应市场要求而弹性调整生产体制。
    • 3. 发明专利
    • 供應鋁合金熔融液的方法及裝置
    • 供应铝合金熔融液的方法及设备
    • TW201408398A
    • 2014-03-01
    • TW101130646
    • 2012-08-23
    • 游家龍
    • 游家龍
    • B22D17/30
    • F27D3/14C22B21/0084F27B14/06F27B14/08F27B14/20F27D3/10F27D17/004
    • 一種供應鋁合金熔融液的方法及裝置,該方法包含下列步驟:步驟1:建構一具有一出口的密閉空間,並將該密閉空間區分為互相連通的一熔解室及一預熱室。步驟2:將固態鋁合金放入該預熱室內預熱,以去除固態鋁合金內的氫、氧及水氣。步驟3:將已預熱的固態鋁合金送至該熔解室內並加熱成鋁合金熔融液。步驟4:利用一湯勺將鋁合金熔融液自該密閉空間取出。藉此,使固態鋁合金在該密閉空間內熔融為鋁合金熔融液,能夠有效降低熱能的逸散,達到節省用電的目的,同時提高鑄造時的良率。
    • 一种供应铝合金熔融液的方法及设备,该方法包含下列步骤:步骤1:建构一具有一出口的密闭空间,并将该密闭空间区分为互相连通的一熔解室及一预热室。步骤2:将固态铝合金放入该预热室内预热,以去除固态铝合金内的氢、氧及水汽。步骤3:将已预热的固态铝合金送至该熔解室内并加热成铝合金熔融液。步骤4:利用一汤勺将铝合金熔融液自该密闭空间取出。借此,使固态铝合金在该密闭空间内熔融为铝合金熔融液,能够有效降低热能的逸散,达到节省用电的目的,同时提高铸造时的良率。
    • 4. 发明专利
    • 製造多晶矽晶錠之方法和設備 PROCESS AND APPARATUS FOR MANUFACTURING POLYCRYSTALLINE SILICON INGOTS
    • 制造多晶硅晶锭之方法和设备 PROCESS AND APPARATUS FOR MANUFACTURING POLYCRYSTALLINE SILICON INGOTS
    • TW201207164A
    • 2012-02-16
    • TW100120806
    • 2011-06-15
    • 森特羅悌姆矽科技有限公司
    • 胡希 史蒂芬普羅柯平柯 歐雷克善德爾克羅斯 拉爾夫后斯 克利斯提恩
    • C30B
    • C01B33/021C30B11/003C30B29/06F27B14/04F27B14/06F27B14/20F27D99/0006
    • 本申請案敘述一用於製造多晶矽晶錠之方法和設備。於製造之過程中,一製程反應室內裝置有一熔化鍋,其中該熔化鍋內被裝入固體矽原料或是於該製程反應室中矽原料被裝入該熔化鍋內。該熔化鍋位置之設置與至少一對角加熱裝置有關,其設置之方式係該對角加熱裝置偏靠在該即將被製造之矽晶錠之側面且大致位在該矽晶錠之上方。然後,熔化鍋內之固體矽原料於高於該矽原料之熔點溫度下被加熱以於熔化鍋內生成熔化之矽,接著於低於該熔化矽之凝固溫度下冷卻熔化鍋內之矽原料,其中該矽原料於冷卻過程中之溫度分佈至少有部份係由至少一對角加熱裝置所控制。該設備包含一製程反應室,一位在該製程反應室內之熔化鍋支撐架,及至少一位在該製程反應室內之對角加熱裝置。該對角加熱裝置之位置係在該熔化鍋支撐架之側面,且通常沿著和熔化鍋垂直之方向延伸,且又和熔化鍋於垂直方向上間隔一段距離,使得該對角加熱裝置通常位在於即將於熔化鍋內形成多晶矽晶錠之上方。當製程反應室關閉時,該對角加熱裝置,相關於該熔化鍋支撐架,是固定不動的。
    • 本申请案叙述一用于制造多晶硅晶锭之方法和设备。于制造之过程中,一制程反应室内设备有一熔化锅,其中该熔化锅内被装入固体硅原料或是于该制程反应室中硅原料被装入该熔化锅内。该熔化锅位置之设置与至少一对角加热设备有关,其设置之方式系该对角加热设备偏靠在该即将被制造之硅晶锭之侧面且大致位在该硅晶锭之上方。然后,熔化锅内之固体硅原料于高于该硅原料之熔点温度下被加热以于熔化锅内生成熔化之硅,接着于低于该熔化硅之凝固温度下冷却熔化锅内之硅原料,其中该硅原料于冷却过程中之温度分布至少有部份系由至少一对角加热设备所控制。该设备包含一制程反应室,一位在该制程反应室内之熔化锅支撑架,及至少一位在该制程反应室内之对角加热设备。该对角加热设备之位置系在该熔化锅支撑架之侧面,且通常沿着和熔化锅垂直之方向延伸,且又和熔化锅于垂直方向上间隔一段距离,使得该对角加热设备通常位在于即将于熔化锅内形成多晶硅晶锭之上方。当制程反应室关闭时,该对角加热设备,相关于该熔化锅支撑架,是固定不动的。