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1. 发明专利

TW201605932A 矽氧烷水凝膠、醫療用具、眼用鏡片及隱形眼鏡审中-公开
简体标题：硅氧烷水凝胶、医疗用具、眼用镜片及隐形眼镜
公开(公告)号：TW201605932A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104120156
申请日：2015-06-23
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：加藤智博 , KATO, TOMOHIRO , 藤澤和彥 , FUJISAWA, KAZUHIKO , 中村正孝 , NAKAMURA, MASATAKA
IPC分类号： C08G77/20 , G02C7/04
CPC分类号： C08F230/08 , A61L27/18 , A61L27/52 , A61L2430/16 , C08F20/26 , G02B1/043 , C08F2230/085 , C08F2220/286 , C08F220/20 , C08F2222/1013
摘要：為了達成提供一種在共聚合所使用的各聚合成分的聚合速度的均勻性高，機械特性或光學特性優異，且具有良好的形狀恢復性之矽氧烷水凝膠，以及提供一種在彈性率、潤濕性及透明性的平衡性優異的各種醫療用具及眼用鏡片，本發明具有以下的構成。亦即一種矽氧烷水凝膠，其具有來自單官能直鏈矽氧烷(甲基)丙烯酸酯的重覆單元與來自親水性(甲基)丙烯酸酯的重覆單元，來自(甲基)丙烯酸酯的重覆單元的含量超過80質量%。
简体摘要：为了达成提供一种在共聚合所使用的各聚合成分的聚合速度的均匀性高，机械特性或光学特性优异，且具有良好的形状恢复性之硅氧烷水凝胶，以及提供一种在弹性率、润湿性及透明性的平衡性优异的各种医疗用具及眼用镜片，本发明具有以下的构成。亦即一种硅氧烷水凝胶，其具有来自单官能直链硅氧烷(甲基)丙烯酸酯的重复单元与来自亲水性(甲基)丙烯酸酯的重复单元，来自(甲基)丙烯酸酯的重复单元的含量超过80质量%。

2. 发明专利

TW201407867A 電池電極用結合劑，及使用該結合劑之電極與電池审中-公开
简体标题：电池电极用结合剂，及使用该结合剂之电极与电池
公开(公告)号：TW201407867A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102119074
申请日：2013-05-30
申请人：大曹股份有限公司 , DAISO CO., LTD.
发明人：松尾孝 , MATSUO, TAKASHI , 矢野倫之 , YANO, TOMOYUKI , 三木康史 , MIKI, YASUSHI , 三浦克人 , MIURA, KATSUHITO
IPC分类号： H01M4/62 , H01M10/0525
CPC分类号： H01M4/622 , C08F8/00 , C08F20/26 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F222/1006 , C08F290/062 , C08F2220/286 , C08F2220/287 , C08L33/14 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M10/052 , C08F220/06 , C08F2222/1026 , C08F2220/1808 , C08F2222/104
摘要：本發明的目的是提供一種結著性高並且特別在電極環境下不會引起氧化劣化，環境負荷小的水系結合劑及使用此之電極及電池。揭示含有(A)由有羥基之單體所衍生之結構單元及(B)由5官能以下的多官能(甲基)丙烯酸酯所衍生之結構單元與含有聚合物之電池電極用結合劑。使用此結合劑，可以製作電極，供鋰離子二次電池等之電池中採用。
简体摘要：本发明的目的是提供一种结着性高并且特别在电极环境下不会引起氧化劣化，环境负荷小的水系结合剂及使用此之电极及电池。揭示含有(A)由有羟基之单体所衍生之结构单元及(B)由5官能以下的多官能(甲基)丙烯酸酯所衍生之结构单元与含有聚合物之电池电极用结合剂。使用此结合剂，可以制作电极，供锂离子二次电池等之电池中采用。

3. 发明专利

TW201542778A 向列型液晶組成物及使用其之液晶顯示元件审中-公开
简体标题：向列型液晶组成物及使用其之液晶显示组件
公开(公告)号：TW201542778A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104113005
申请日：2015-04-23
申请人：迪愛生股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：須藤豪 , SUDO, GO , 後藤麻里奈 , GOTO, MARINA
IPC分类号： C09K19/42 , C09K19/38 , C09K19/06 , G02F1/13
CPC分类号： C09K19/12 , C08F20/26 , C09K19/14 , C09K19/16 , C09K19/20 , C09K19/2007 , C09K19/30 , C09K19/38 , C09K19/42 , C09K19/54 , C09K2019/0448 , C09K2019/122 , G02F1/13 , G02F1/133365 , G02F2001/133397
摘要：本發明係關於一種含有聚合性化合物之介電常數各向異性(△ε)為負之向列型液晶組成物、及使用其製作而成之PSA型或PSVA型液晶顯示元件。本申請案之液晶組成物可提供具有足夠之預傾角、殘留單體量較少、無或極少有由電壓保持率(VHR)較低等引起之配向不良或顯示不良等不良情況、響應性能優異之PSA型或PSVA型液晶顯示元件。使用本發明之液晶組成物之液晶顯示元件對於主動矩陣驅動用液晶顯示元件有用，可應用於PSA型或PSVA型等之液晶顯示元件。
简体摘要：本发明系关于一种含有聚合性化合物之介电常数各向异性(△ε)为负之向列型液晶组成物、及使用其制作而成之PSA型或PSVA型液晶显示组件。本申请案之液晶组成物可提供具有足够之预倾角、残留单体量较少、无或极少有由电压保持率(VHR)较低等引起之配向不良或显示不良等不良情况、响应性能优异之PSA型或PSVA型液晶显示组件。使用本发明之液晶组成物之液晶显示组件对于主动矩阵驱动用液晶显示组件有用，可应用于PSA型或PSVA型等之液晶显示组件。

4. 发明专利

TWI490640B 敏輻射線性樹脂組成物、聚合物及抗蝕圖型之形成方法有权
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、聚合物及抗蚀图型之形成方法
公开(公告)号：TWI490640B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099117935
申请日：2010-06-03
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：松田恭彥 , MATSUDA, YASUHIKO , 藤澤友久 , FUJISAWA, TOMOHISA , 濱由香里 , HAMA, YUKARI , 川上峰規 , KAWAKAMI, TAKANORI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/26 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/26 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041

5. 发明专利

TW201020689A 正型感光性組成物及使用它之圖案形成方法 POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
简体标题：正型感光性组成物及使用它之图案形成方法 POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
公开(公告)号：TW201020689A
公开(公告)日：2010-06-01
申请号：TW098132820
申请日：2009-09-29
申请人：富士軟片股份有限公司
发明人：福原敏明 , 涉谷明規 , 加藤貴之
IPC分类号： G03F , C08F , H01L
CPC分类号： C08F20/28 , C08F20/26 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/111
摘要：本發明揭示一種正型感光性組成物,其包括:(A)一種具有由如說明書定義之式(1)表示之重複單元及由如說明書定義之式(2)表示之重複單元,而且因酸之作用可增加樹脂(A)在鹼顯影劑中溶解度的樹脂;(B)一種在以光化射線或輻射照射時可產生酸之化合物;及一種溶劑,及一種圖案形成方法,其使用此正型感光性組成物。
简体摘要：本发明揭示一种正型感光性组成物,其包括:(A)一种具有由如说明书定义之式(1)表示之重复单元及由如说明书定义之式(2)表示之重复单元,而且因酸之作用可增加树脂(A)在碱显影剂中溶解度的树脂;(B)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物;及一种溶剂,及一种图案形成方法,其使用此正型感光性组成物。

6. 发明专利

TW201710792A 感光性組成物、彩色濾光片用感光性組成物及彩色濾光片审中-公开
简体标题：感光性组成物、彩色滤光片用感光性组成物及彩色滤光片
公开(公告)号：TW201710792A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105118713
申请日：2016-06-15
申请人：東洋油墨SC控股股份有限公司 , TOYO INK SC HOLDINGS CO., LTD. , 東洋色材股份有限公司 , TOYOCOLOR CO., LTD.
发明人：宮本彩子 , MIYAMOTO, AYAKO , 白鳥進 , SHIRATORI, SUSUMU , 佩魯爾尼沙德 , PERUR, NISHAD , 和田宗大 , WADA, SOTAI , 山田和則 , YAMADA, KAZUNORI , 平野彰 , HIRANO, AKIRA , 寺島嘉孝 , TERASHIMA, YOSHITAKA , 二井洋文 , NII, HIROFUMI
IPC分类号： G03F7/033 , C08F220/32 , C08F220/28 , G03F7/027 , G02B5/20 , G02B5/22 , H05B33/02 , H01L51/50
CPC分类号： C08F20/26 , C08F220/26 , G02B5/20 , G03F7/027 , G03F7/033
摘要：本發明是有關於一種感光性組成物，其包含：含有呋喃基的化合物（A）、含有光聚合性官能基的化合物（B）、及光聚合起始劑（C）。根據本發明，可提供一種即便於低硬化溫度下，亦可賦予耐化學品性，且無脫氣或相容性的問題的感光性組成物。
简体摘要：本发明是有关于一种感光性组成物，其包含：含有呋喃基的化合物（A）、含有光聚合性官能基的化合物（B）、及光聚合起始剂（C）。根据本发明，可提供一种即便于低硬化温度下，亦可赋予耐化学品性，且无脱气或兼容性的问题的感光性组成物。

7. 发明专利

TW201701078A 圖案形成方法及電子器件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法及电子器件的制造方法
公开(公告)号：TW201701078A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105113012
申请日：2016-04-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：古谷創 , FURUTANI, HAJIME , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/26 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/3065
摘要：本發明提供一種能夠形成具有優異的CDU之圖案之圖案形成方法、及電子器件的製造方法。圖案形成方法具備：膜形成製程，使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物於具有基底層及基板之支撐體的基底層上形成膜；曝光製程，對膜進行曝光；顯影製程，對曝光製程後的膜進行顯影而形成光阻圖案的同時使基底層的至少一部分露出；及蝕刻製程，利用從包含沉積氣體之處理氣體生成之電漿對已露出之基底層進行蝕刻的同時於光阻圖案的側面堆積沉積物，組成物含有重量平均分子量為5,000以上且具有酸分解性基之樹脂，顯影製程係實施鹼顯影製程及有機溶劑顯影製程中的任意1個製程之後實施另1個製程者。
简体摘要：本发明提供一种能够形成具有优异的CDU之图案之图案形成方法、及电子器件的制造方法。图案形成方法具备：膜形成制程，使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物于具有基底层及基板之支撑体的基底层上形成膜；曝光制程，对膜进行曝光；显影制程，对曝光制程后的膜进行显影而形成光阻图案的同时使基底层的至少一部分露出；及蚀刻制程，利用从包含沉积气体之处理气体生成之等离子对已露出之基底层进行蚀刻的同时于光阻图案的侧面堆积沉积物，组成物含有重量平均分子量为5,000以上且具有酸分解性基之树脂，显影制程系实施碱显影制程及有机溶剂显影制程中的任意1个制程之后实施另1个制程者。

8. 发明专利

TW201106103A 敏輻射線性樹脂組成物、聚合物及抗蝕圖型之形成方法审中-公开
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、聚合物及抗蚀图型之形成方法
公开(公告)号：TW201106103A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099117935
申请日：2010-06-03
申请人： JSR股份有限公司
发明人：松田恭彥 , 藤澤友久 , 濱由香里 , 川上峰規
IPC分类号： G03F , C08F , H01L
CPC分类号： C08F20/26 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本發明之目的在於提供可獲得良好圖型形狀、難以溶出於水等之液浸曝光液中、對於液浸曝光液之後退接觸角大、難以發生顯像缺陷之抗蝕被膜之材料的敏輻射線性樹脂組成物及抗蝕圖型之形成方法。本發明之敏輻射線性樹脂組成物含有包含以下式(1)表示之重複單位之第一聚合物(A)、具有藉由酸之作用解離之酸解離性基且使該酸解離性基解離而變成鹼可溶性之第二聚合物(B)及敏輻射線性酸產生劑(C),

[式中,R1表示氫原子、甲基或三氟甲基,R2表示單鍵或碳數1~20之2價直鏈狀、分支狀或環狀飽和或不飽和烴基,X表示經氟原子取代之伸甲基或碳數2~20之直鏈狀或分支狀氟伸烷基,R3表示氫原子或1價有機基]。
简体摘要：本发明之目的在于提供可获得良好图型形状、难以溶出于水等之液浸曝光液中、对于液浸曝光液之后退接触角大、难以发生显像缺陷之抗蚀被膜之材料的敏辐射线性树脂组成物及抗蚀图型之形成方法。本发明之敏辐射线性树脂组成物含有包含以下式(1)表示之重复单位之第一聚合物(A)、具有借由酸之作用解离之酸解离性基且使该酸解离性基解离而变成碱可溶性之第二聚合物(B)及敏辐射线性酸产生剂(C), [式中,R1表示氢原子、甲基或三氟甲基,R2表示单键或碳数1~20之2价直链状、分支状或环状饱和或不饱和烃基,X表示经氟原子取代之伸甲基或碳数2~20之直链状或分支状氟伸烷基,R3表示氢原子或1价有机基]。

9. 发明专利

TW200745183A 高分子化合物及其製法、顏料分散劑、顏料分散組成物、光硬化性組成物、與彩色濾光片及其製法 HIGH-MOLECULAR COMPOUND AND PRODUCTION METHOD THEREOF, PIGMENT DISPERSANT, PIGMENT DISPERSED COMPOSITION, LIGHT-CURABLE COMPOSITION, AND COLOR FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：高分子化合物及其制法、颜料分散剂、颜料分散组成物、光硬化性组成物、与彩色滤光片及其制法 HIGH-MOLECULAR COMPOUND AND PRODUCTION METHOD THEREOF, PIGMENT DISPERSANT, PIGMENT DISPERSED COMPOSITION, LIGHT-CURABLE COMPOSITION, AND COLOR FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200745183A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096109027
申请日：2007-03-16
申请人：富士軟片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION
发明人：高橋秀知 TAKAHASHI, HIDENORI , 長田崇一郎 OSADA, SHUICHIRO
IPC分类号： C08F , C09B , G03F , G02B
CPC分类号： C08F20/36 , C08F2/38 , C08F20/04 , C08F20/10 , C08F20/26 , C08F20/52 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/26 , C09B67/009 , C09B69/101 , C09B69/109 , G02B5/20 , G03C1/73 , G03C1/735 , G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/033
摘要：本發明提供下述通式(1)所示之高分子化合物及其製法,使用該高分子化合物之顏料分散劑、顏料分散組成物、光硬化性組成物、以及彩色濾光片及其製法【其中,R^1:(m+n)價之有機連結基;R^2:單鍵、2價之有機連結基;A^1:包括從有機色素構造、雜環構造、酸性基、具有鹼性氮原子之基、基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子之基、碳數4以上之烴基、烷氧基矽烷基、環氧基、異氰酸酯基及羥基中選出之至少一種部位之1價有機基;m=1~8,n=2~9(m+n=3~10),P^1:高分子骨架】。
简体摘要：本发明提供下述通式(1)所示之高分子化合物及其制法,使用该高分子化合物之颜料分散剂、颜料分散组成物、光硬化性组成物、以及彩色滤光片及其制法【其中,R^1:(m+n)价之有机链接基;R^2:单键、2价之有机链接基;A^1:包括从有机色素构造、杂环构造、酸性基、具有碱性氮原子之基、基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子之基、碳数4以上之烃基、烷氧基硅烷基、环氧基、异氰酸酯基及羟基中选出之至少一种部位之1价有机基;m=1~8,n=2~9(m+n=3~10),P^1:高分子骨架】。

10. 发明专利

TWI588605B 感光性樹脂組成物、使用其的圖案的製造方法、硬化膜、有機ＥＬ顯示裝置的製造方法及液晶顯示裝置的製造方法有权
简体标题：感光性树脂组成物、使用其的图案的制造方法、硬化膜、有机ＥＬ显示设备的制造方法及液晶显示设备的制造方法
公开(公告)号：TWI588605B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW102134831
申请日：2013-09-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：藤本進二 , FUJIMOTO, SHINJI , 柏木大助 , KASHIWAGI, DAISUKE , 佐竹亮 , SATAKE, RYO , 真崎慶央 , MASAKI, YOSHIHISA
IPC分类号： G03F7/027 , C08F12/24 , H01L21/027
CPC分类号： C08F12/22 , C08F20/26 , G03F7/0392 , G03F7/40 , H01L51/0015 , H01L51/50 , H05B33/10

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