发明专利
TW201020689A 正型感光性組成物及使用它之圖案形成方法 POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： 正型感光性組成物及使用它之圖案形成方法 POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
- 专利标题（英）：Positive photosensitive composition and pattern forming method using the same
- 专利标题（中）：正型感光性组成物及使用它之图案形成方法 POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
- 申请号：TW098132820 申请日：2009-09-29
- 公开(公告)号：TW201020689A 公开(公告)日：2010-06-01
- 发明人： 福原敏明 , 涉谷明規 , 加藤貴之
- 申请人： 富士軟片股份有限公司
- 申请人地址： FUJIFILM CORPORATION 日本 JP
- 专利权人： 富士軟片股份有限公司
- 当前专利权人： 富士軟片股份有限公司
- 当前专利权人地址： FUJIFILM CORPORATION 日本 JP
- 代理人： 何金塗; 何秋遠
- 优先权： 日本 2008-251921 20080929
- 主分类号： G03F
- IPC分类号： G03F ; C08F ; H01L
摘要：
本發明揭示一種正型感光性組成物,其包括:(A)一種具有由如說明書定義之式(1)表示之重複單元及由如說明書定義之式(2)表示之重複單元,而且因酸之作用可增加樹脂(A)在鹼顯影劑中溶解度的樹脂;(B)一種在以光化射線或輻射照射時可產生酸之化合物;及一種溶劑,及一種圖案形成方法,其使用此正型感光性組成物。
摘要（中）：
本发明揭示一种正型感光性组成物,其包括:(A)一种具有由如说明书定义之式(1)表示之重复单元及由如说明书定义之式(2)表示之重复单元,而且因酸之作用可增加树脂(A)在碱显影剂中溶解度的树脂;(B)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物;及一种溶剂,及一种图案形成方法,其使用此正型感光性组成物。
摘要（英）：
A positive photosensitive composition, includes: (A) a resin having a repeating unit represented by formula (1) as defined in the specification and a repeating unit represented by formula (2) as defined in the specification and being capable of increasing a solubility of the resin (A) in an alkali developer by an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and a solvent, and a pattern forming method uses the positive photosensitive composition.