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1. 发明专利

TW201736332A UV吸收性乙烯基單體以及其用途 审中-公开
简体标题： UV吸收性乙烯基单体以及其用途
公开(公告)号：TW201736332A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106105690
申请日：2017-02-21
申请人：諾華公司 , NOVARTIS AG
发明人：張偉康 , CHANG, FRANK , 迪少撒瑞恩 , DESOUSA, RYAN , 荷蘭德特洛伊維農 , HOLLAND, TROY VERNON , 普魯特約翰達拉斯 , PRUITT, JOHN DALLAS , 尼爾森傑瑞德 , NELSON, JARED
IPC分类号： C07C49/76 , C07C233/64 , C07C309/01 , C07D249/18 , G02B5/22
CPC分类号： G02C7/108 , B29D11/00134 , B29K2105/0002 , C07C233/38 , C07D249/20 , C08F20/36 , C08F220/70 , C08F230/08 , G02B1/043 , G02B5/208 , G02B5/223 , G02C7/049
摘要：在此描述的是水溶性UV吸收性乙烯基單體以及其在製備能夠阻擋波長從380nm至440nm的紫外線(“UV”)輻射和視情況(但較佳的是)紫光輻射的UV吸收性接觸鏡片中之用途，由此在某種程度上保護眼睛免受由UV輻射引起的損害以及潛在地免受紫光輻射。本發明還提供了一種UV吸收性接觸鏡片。
简体摘要：在此描述的是水溶性UV吸收性乙烯基单体以及其在制备能够阻挡波长从380nm至440nm的紫外线(“UV”)辐射和视情况(但较佳的是)紫光辐射的UV吸收性接触镜片中之用途，由此在某种程度上保护眼睛免受由UV辐射引起的损害以及潜在地免受紫光辐射。本发明还提供了一种UV吸收性接触镜片。

2. 发明专利

TW201716450A 液晶配向膜製造用組成物、使用該組成物之液晶配向膜、及其製造方法、以及具有液晶配向膜之液晶顯示元件、及其製造方法审中-公开
简体标题：液晶配向膜制造用组成物、使用该组成物之液晶配向膜、及其制造方法、以及具有液晶配向膜之液晶显示组件、及其制造方法
公开(公告)号：TW201716450A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105121249
申请日：2016-07-05
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：森內正人 , MORIUCHI, MASATO
IPC分类号： C08F20/30 , C08F20/36 , G02F1/1337
CPC分类号： C08F20/30 , C08F20/36 , G02F1/1337
摘要： [要約]本發明為提供一種可有效率地製得具有穩定的配向控制能力，可擴大所產生之光照射量之範圍，具有優良品質的液晶配向膜的液晶配向膜製造用組成物。本發明為提供一種液晶配向膜製造用組成物，其為含有(A)於特定溫度範圍可產生液晶性的感光性側鏈型高分子，及(B)有機溶劑之液晶配向膜製造用組成物，該組成物含有具有下述式(I)所表示之結構的化合物(式中，C1、C2、C3，及C4，表示各自獨立之可具有取代基之苯基、聯苯，或萘基；P1及P2表示各自獨立之＊-N=N-＊(＊表示與C1、C2、C3或C4之鍵結位置)；L表示可具有取代基之碳數1~15之直鏈或支鏈之伸烷基；n1表示0~5之整數、m4表示1~5之整數；n1表示0~5之整數、m4表示1~5之整數)。
简体摘要： [要约]本发明为提供一种可有效率地制得具有稳定的配向控制能力，可扩大所产生之光照射量之范围，具有优良品质的液晶配向膜的液晶配向膜制造用组成物。本发明为提供一种液晶配向膜制造用组成物，其为含有(A)于特定温度范围可产生液晶性的感光性侧链型高分子，及(B)有机溶剂之液晶配向膜制造用组成物，该组成物含有具有下述式(I)所表示之结构的化合物(式中，C1、C2、C3，及C4，表示各自独立之可具有取代基之苯基、联苯，或萘基；P1及P2表示各自独立之＊-N=N-＊(＊表示与C1、C2、C3或C4之键结位置)；L表示可具有取代基之碳数1~15之直链或支链之伸烷基；n1表示0~5之整数、m4表示1~5之整数；n1表示0~5之整数、m4表示1~5之整数)。

3. 发明专利

TW201610592A 含有具封端異氰酸酯構造之聚合物的微影用阻劑下層膜形成組成物审中-公开
简体标题：含有具封端异氰酸酯构造之聚合物的微影用阻剂下层膜形成组成物
公开(公告)号：TW201610592A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104116259
申请日：2015-05-21
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：柄澤涼 , KARASAWA, RYO , 西田登喜雄 , NISHITA, TOKIO , 染谷安信 , SOMEYA, YASUNOBU , 遠藤貴文 , ENDO, TAKAFUMI , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU
IPC分类号： G03F7/11 , C08F220/02 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/094 , C08F20/36 , C08F20/58 , C09D133/14 , C09D133/26 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/26 , H01L21/0271 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , H01L21/3086
摘要：本發明之課題在於提供一種在來自上層之圖型轉印或基板加工時可進行乾式蝕刻，且基板加工後可以鹼水溶液除去而可形成阻劑下層膜用之阻劑下層膜形成組成物。本發明之解決方法係一種微影用阻劑下層膜形成組成物，其係包含具有丙烯醯胺構造或丙烯酸酯構造之聚合物(A)、具封端異氰酸酯構造之聚合物(B)、溶劑(C)，其中，聚合物(A)係含式(1)：之單位構造的聚合物，聚合物(B)係含式(2)：之單位構造的聚合物。本發明係一種半導體裝置之製造方法，其係包含形成阻劑圖型之步驟、藉由阻劑圖型蝕刻無機硬遮罩層之步驟、藉由經圖型化之無機硬遮罩層蝕刻阻劑下層膜之步驟、及藉由經圖型化之阻劑下層膜加工半導體基板之步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种在来自上层之图型转印或基板加工时可进行干式蚀刻，且基板加工后可以碱水溶液除去而可形成阻剂下层膜用之阻剂下层膜形成组成物。本发明之解决方法系一种微影用阻剂下层膜形成组成物，其系包含具有丙烯酰胺构造或丙烯酸酯构造之聚合物(A)、具封端异氰酸酯构造之聚合物(B)、溶剂(C)，其中，聚合物(A)系含式(1)：之单位构造的聚合物，聚合物(B)系含式(2)：之单位构造的聚合物。本发明系一种半导体设备之制造方法，其系包含形成阻剂图型之步骤、借由阻剂图型蚀刻无机硬遮罩层之步骤、借由经图型化之无机硬遮罩层蚀刻阻剂下层膜之步骤、及借由经图型化之阻剂下层膜加工半导体基板之步骤。

4. 发明专利

TW201609985A 玫瑰紅系著色組成物、著色聚合物、著色組成物、以及彩色濾光片用著色組成物审中-公开
简体标题：玫瑰红系着色组成物、着色聚合物、着色组成物、以及彩色滤光片用着色组成物
公开(公告)号：TW201609985A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104109991
申请日：2015-03-27
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：鈴木克史 , SUZUKI, KATSUFUMI , 堀江智章 , HORIE, TOMOAKI , 信太幸彦 , SHIDA, YUKIHIKO
IPC分类号： C09B11/28 , C09B69/10 , C08F20/36 , C08F20/60 , C09B67/20 , G02B5/20 , G02B5/22
CPC分类号： C09B69/103 , C07D311/80 , C08F20/36 , C08F220/18 , C08F220/56 , C09B11/24
摘要：現有的使用玫瑰紅衍生物的著色樹脂組成物未獲得實用性範圍的耐熱性。因此，本發明的課題在於提供一種較現有的著色組成物而言耐熱性更高的著色組成物。本發明是有關於一種下述通式(1)所表示的化合物以及具有由該化合物而來的單體單元的聚合物等。 (式中，R1~R4分別獨立地表示氫原子、烷基等，R7表示氫原子或甲基，R8及R9分別獨立地表示氫原子或烷基，Y表示氮原子或下述式(1-1) 所表示的基團，A1表示鏈中具有選自-O-、-OCO-、-COO-、-NHCO-、-CONH-、-NHCONH-及伸芳基中的至少一種基團的伸烷基等，A2表示-NH-或-O-；An-表示包含具有電子吸引性取代基的芳基等的陰離子，n表示0~3的整數；R8及R9亦可藉由與它們鍵結的-N-(CH2)n-Y-而形成5員環~6員環的環狀結構)
简体摘要：现有的使用玫瑰红衍生物的着色树脂组成物未获得实用性范围的耐热性。因此，本发明的课题在于提供一种较现有的着色组成物而言耐热性更高的着色组成物。本发明是有关于一种下述通式(1)所表示的化合物以及具有由该化合物而来的单体单元的聚合物等。 (式中，R1~R4分别独立地表示氢原子、烷基等，R7表示氢原子或甲基，R8及R9分别独立地表示氢原子或烷基，Y表示氮原子或下述式(1-1) 所表示的基团，A1表示链中具有选自-O-、-OCO-、-COO-、-NHCO-、-CONH-、-NHCONH-及伸芳基中的至少一种基团的伸烷基等，A2表示-NH-或-O-；An-表示包含具有电子吸引性取代基的芳基等的阴离子，n表示0~3的整数；R8及R9亦可借由与它们键结的-N-(CH2)n-Y-而形成5员环~6员环的环状结构)

5. 发明专利

TW201509886A 反應促進劑、以及使用其之胺甲酸乙酯化合物、硫基胺甲酸乙酯化合物、醯胺化合物或尿素化合物之製造方法审中-公开
简体标题：反应促进剂、以及使用其之胺甲酸乙酯化合物、硫基胺甲酸乙酯化合物、酰胺化合物或尿素化合物之制造方法
公开(公告)号：TW201509886A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103125216
申请日：2014-07-22
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：大野勝俊 , ONO, KATSUTOSHI , 加藤智光 , KATO, TOMOMITSU
IPC分类号： C07C213/10 , C07C213/02 , C07C215/08
CPC分类号： C07C259/04 , B01J31/02 , B01J31/0209 , B01J31/0249 , B01J31/0271 , B01J2231/643 , C07C231/10 , C07C233/18 , C07C263/12 , C07C269/02 , C07C271/04 , C07C271/16 , C07C271/20 , C07C271/24 , C07C2601/14 , C08F20/36
摘要：本發明之反應促進劑，其係於分子內具有並非直接鍵結於芳香環之異氰酸酯基的化合物、與具有含活性氫的基之化合物的反應中所使用的反應促進劑，且由具有鹵化胺甲醯基之化合物所構成。本發明之製造方法，其特徵係使於分子內具有並非直接鍵結於芳香環之異氰酸酯基的化合物、與具有含活性氫的基之化合物反應，製造胺基甲酸酯化合物、硫胺基甲酸酯化合物、醯胺化合物、或脲化合物之方法，且在前述反應促進劑之存在下進行前述反應。
简体摘要：本发明之反应促进剂，其系于分子内具有并非直接键结于芳香环之异氰酸酯基的化合物、与具有含活性氢的基之化合物的反应中所使用的反应促进剂，且由具有卤化胺甲酰基之化合物所构成。本发明之制造方法，其特征系使于分子内具有并非直接键结于芳香环之异氰酸酯基的化合物、与具有含活性氢的基之化合物反应，制造胺基甲酸酯化合物、硫胺基甲酸酯化合物、酰胺化合物、或脲化合物之方法，且在前述反应促进剂之存在下进行前述反应。

6. 发明专利

TW201326322A 防霧性塑膠鏡片审中-公开
简体标题：防雾性塑胶镜片
公开(公告)号：TW201326322A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101139869
申请日：2012-10-29
申请人：大阪有機化學工業股份有限公司 , OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.
发明人：松岡和義 , MATSUOKA, KAZUYOSHI , 猿渡欣幸 , SARUWATARI, YOSHIYUKI , 安藤昌幸 , ANDO, MASAYUKI
IPC分类号： C09D133/14 , C09D5/00 , G02B1/10
CPC分类号： G02B1/18 , C08F20/36 , C08J7/047 , C08J2433/12 , G02B27/0006
摘要：本發明提供一種防霧性塑膠鏡片，係在塑膠鏡片的表面上形成有由防霧劑構成之被覆膜，前述被覆膜係以含有(甲基)丙烯酸系聚合物的防霧劑形成，該(甲基)丙烯酸系聚合物具有式(I)表示之重複單元且至少在一末端具有式(II)表示之烷氧基矽基： (式中，R1表示氫原子或甲基，R2表示親水性基) (式中，R3、R4及R5各自獨立地表示碳數1~4之烷基或碳數1~4之烷氧基，且R3、R4及R5中之至少一個基表示碳數1~4之烷氧基，R6表示碳數1~12之伸烷基)。
简体摘要：本发明提供一种防雾性塑胶镜片，系在塑胶镜片的表面上形成有由防雾剂构成之被覆膜，前述被覆膜系以含有(甲基)丙烯酸系聚合物的防雾剂形成，该(甲基)丙烯酸系聚合物具有式(I)表示之重复单元且至少在一末端具有式(II)表示之烷氧基硅基： (式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示亲水性基) (式中，R3、R4及R5各自独立地表示碳数1~4之烷基或碳数1~4之烷氧基，且R3、R4及R5中之至少一个基表示碳数1~4之烷氧基，R6表示碳数1~12之伸烷基)。

7. 发明专利

TW530038B 皮膚外用劑有权
简体标题：皮肤外用剂
公开(公告)号：TW530038B
公开(公告)日：2003-05-01
申请号：TW088121210
申请日：1999-12-03
申请人：寶露化成工業股份有限公司
发明人：服部孝雄 , 北田好男 , 落合道夫 , 黑田秀夫 , 及川 , 一
IPC分类号： C07C , C08F , C08L , A61K , A61Q
CPC分类号： C07C279/14 , A61K8/8158 , A61Q17/00 , A61Q19/00 , C07C219/08 , C07C233/49 , C07C311/41 , C08F20/34 , C08F20/36 , C08F20/60
摘要：一種包括含有式所代表化合物或其鹽作為成分單體所成聚合物之組成物，或一種含有以式作為局部結構所代表之結構之聚合物，其係作為用於保護或改善皮膚。式
在式中，R1、R2和R3各自獨立代表氫原子、烷基、烷氧基、或烷胺基；R4代表胺基酸殘部、多元胺殘部、或胺基醇殘部；而X代表氧原子或NH所代表之基。式
在式中，R1、R2和R3各自獨立代表氫原子、烷基、烷氧基、或烷胺基；R4代表胺基酸殘部、多元胺殘部、或胺基醇殘部；而X代表氧原子或NH所代表之基。
简体摘要：一种包括含有式所代表化合物或其盐作为成分单体所成聚合物之组成物，或一种含有以式作为局部结构所代表之结构之聚合物，其系作为用于保护或改善皮肤。式 在式中，R1、R2和R3各自独立代表氢原子、烷基、烷氧基、或烷胺基；R4代表氨基酸残部、多元胺残部、或胺基醇残部；而X代表氧原子或NH所代表之基。式 在式中，R1、R2和R3各自独立代表氢原子、烷基、烷氧基、或烷胺基；R4代表氨基酸残部、多元胺残部、或胺基醇残部；而X代表氧原子或NH所代表之基。

8. 发明专利

TW201704881A 阻劑下層膜之形成方法审中-公开
简体标题：阻剂下层膜之形成方法
公开(公告)号：TW201704881A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105104770
申请日：2016-02-18
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：柄澤涼 , KARASAWA, RYO , 新城徹也 , SHINJO, TETSUYA , 橋本圭祐 , HASHIMOTO, KEISUKE
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C67/347 , C07C69/753 , C07C2601/02 , C07C2604/00 , C08F20/36 , C09D133/14 , G03F7/0752 , G03F7/0757 , G03F7/094 , G03F7/168 , H01L21/3086
摘要：本發明提供一種阻劑下層膜之形成方法，該阻劑下層膜對於含氟碳之氣體具有高的乾蝕刻耐性。該阻劑下層膜之形成方法係於基板上塗佈阻劑下層膜形成組成物，該組成物含有對富勒烯(fullerene)1分子加成1至6分子之以下述式(1)表示之丙二酸二酯之富勒烯衍生物、至少具有2個環氧基之化合物及溶劑： (式中，2個R分別獨立表示碳原子數1至10之烷基)，將塗佈有前述阻劑下層膜形成組成物之基板，於氮氣、氬氣或該等之混合物之氛圍下於240℃以上之溫度烘烤至少1次。
简体摘要：本发明提供一种阻剂下层膜之形成方法，该阻剂下层膜对于含氟碳之气体具有高的干蚀刻耐性。该阻剂下层膜之形成方法系于基板上涂布阻剂下层膜形成组成物，该组成物含有对富勒烯(fullerene)1分子加成1至6分子之以下述式(1)表示之丙二酸二酯之富勒烯衍生物、至少具有2个环氧基之化合物及溶剂： (式中，2个R分别独立表示碳原子数1至10之烷基)，将涂布有前述阻剂下层膜形成组成物之基板，于氮气、氩气或该等之混合物之氛围下于240℃以上之温度烘烤至少1次。

10. 发明专利

TWI557511B 抗蝕底層膜形成組成物用添加劑及含有其的抗蝕底層膜形成組成物有权
简体标题：抗蚀底层膜形成组成物用添加剂及含有其的抗蚀底层膜形成组成物
公开(公告)号：TWI557511B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW101138659
申请日：2012-10-19
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：遠藤貴文 , ENDO, TAKAFUMI , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU , 藤谷德昌 , FUJITANI, NORIAKI
IPC分类号： G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/3081 , C08F8/14 , C08F20/36 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/11 , H01L21/0271 , C08F2220/325 , C08F220/24

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