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    • 10. 发明专利
    • 感光性樹脂組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及觸控面板顯示裝置
    • 感光性树脂组成物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示设备、有机EL显示设备及触摸皮肤显示设备
    • TW201523137A
    • 2015-06-16
    • TW103137395
    • 2014-10-29
    • 富士軟片股份有限公司FUJIFILM CORPORATION
    • 米澤裕之YONEZAWA, HIROYUKI真崎慶央MASAKI, YOSHIHISA山下史絵YAMASHITA, SHIE柏木大助KASHIWAGI, DAISUKE
    • G03F7/004G03F7/022C07D401/14G03F7/075G03F7/26H01L51/50G02F1/1333G06F3/041
    • G03F7/0751G03F7/0226G03F7/0233G03F7/038G03F7/0392G03F7/0397
    • 本發明提供一種即便於未進行HMDS等的疏水化處理的基板中亦可兼具顯影時的圖案密接性與硬化膜對基板的密接性的感光性樹脂組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置。本發明的感光性樹脂組成物含有:包含滿足下述(1)及(2)的至少一個的聚合物的聚合物成分,即(1)含有(a1-1)具有酸基經酸分解性基保護的基團的結構單元、及(a1-2)具有交聯性基的結構單元的聚合物,(2)含有(a1-1)具有酸基經酸分解性基保護的基團的結構單元的聚合物、及含有(a1-2)具有交聯性基的結構單元的聚合物;通式(1)所表示的化合物;矽烷偶合劑;光酸產生劑;以及溶劑,其中,相對於所述感光性樹脂組成物的總固體成分,所述通式(1)所表示的化合物的含量為0.1質量% ~5.0質量%,相對於所述通式(1)所表示的化合物的含量,所述矽烷偶合劑的含量的比例以質量比計為大於3.0倍且為50.0倍以下, 通式(1)中,n表示4以上的整數,R1表示n價的有機基,R2~R5分別獨立地表示碳數1~12的1價的有機基;R6表示碳數1~12的1價的烷基。
    • 本发明提供一种即便于未进行HMDS等的疏水化处理的基板中亦可兼具显影时的图案密接性与硬化膜对基板的密接性的感光性树脂组成物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示设备及有机EL显示设备。本发明的感光性树脂组成物含有:包含满足下述(1)及(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分,即(1)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护的基团的结构单元、及(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物,(2)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护的基团的结构单元的聚合物、及含有(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物;通式(1)所表示的化合物;硅烷偶合剂;光酸产生剂;以及溶剂,其中,相对于所述感光性树脂组成物的总固体成分,所述通式(1)所表示的化合物的含量为0.1质量% ~5.0质量%,相对于所述通式(1)所表示的化合物的含量,所述硅烷偶合剂的含量的比例以质量比计为大于3.0倍且为50.0倍以下, 通式(1)中,n表示4以上的整数,R1表示n价的有机基,R2~R5分别独立地表示碳数1~12的1价的有机基;R6表示碳数1~12的1价的烷基。