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1. 发明专利

TW202026760A 阻劑組成物及阻劑圖型形成方法审中-公开
简体标题：阻剂组成物及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TW202026760A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW109107298
申请日：2016-06-08
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：平山拓 , HIRAYAMA, TAKU , 川名大助 , KAWANA, DAISUKE , 小室嘉崇 , KOMURO, YOSHITAKA , 新井雅俊 , ARAI, MASATOSHI , 松丸省吾 , MATSUMARU, SHOGO , 鈴木健太 , SUZUKI, KENTA , 神園喬 , KAMIZONO, TAKASHI , 藤井達也 , FUJII, TATSUYA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/033 , H01L21/027
摘要：本發明係一種阻劑組成物，其係藉由曝光而產生酸，且經由酸的作用而對顯影液之溶解性產生變化的阻劑組成物，其係含有經由酸的作用而對顯影液之溶解性產生變化之基材成分(A)及酸擴散控制劑成分(D)，前述基材成分(A)含有下述通式(a0-1)表示之構成單位(a0)，前述酸擴散控制劑成分(D)含有酸解離常數為1.5以上的酸。 [式中，R為H、C1~5之烷基、C1~5之鹵化烷基。Ya為C，Xa為與Ya一同形成二價環狀烴基之基。Ra01~Ra03為H、C1~10之一價鏈狀飽和烴基、C3~20之一價脂肪族環狀飽和烴基。]
简体摘要：本发明系一种阻剂组成物，其系借由曝光而产生酸，且经由酸的作用而对显影液之溶解性产生变化的阻剂组成物，其系含有经由酸的作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成分(A)及酸扩散控制剂成分(D)，前述基材成分(A)含有下述通式(a0-1)表示之构成单位(a0)，前述酸扩散控制剂成分(D)含有酸解离常数为1.5以上的酸。 [式中，R为H、C1~5之烷基、C1~5之卤化烷基。Ya为C，Xa为与Ya一同形成二价环状烃基之基。Ra01~Ra03为H、C1~10之一价链状饱和烃基、C3~20之一价脂肪族环状饱和烃基。]

2. 发明专利

TWI698501B 著色感光性樹脂組合物、濾色器及其製法、影像顯示裝置有权
简体标题：着色感光性树脂组合物、滤色器及其制法、影像显示设备
公开(公告)号：TWI698501B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105135531
申请日：2016-11-02
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：申奎澈 , SHIN, KYU-CHUL , 朴徑嬉 , PARK, KYUNG-HEE , 黃珍娥 , HWANG, JIN-A
IPC分类号： C09B67/22 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/027 , G03F7/075 , G02B5/20 , H01L51/52 , G03F7/038 , G03F7/32

3. 发明专利

TWI694308B 感光性樹脂組成物、樹脂膜之製造方法、有機半導體元件之製造方法及含氟聚合物有权
简体标题：感光性树脂组成物、树脂膜之制造方法、有机半导体组件之制造方法及含氟聚合物
公开(公告)号：TWI694308B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105103773
申请日：2016-02-04
申请人：日商AGC股份有限公司 , AGC INC.
发明人：小尾正樹 , OBI, MASAKI , 櫻田智明 , SAKURADA, TOMOAKI , 阿部岳文 , ABE, TAKEFUMI
IPC分类号： G03F7/033 , G03F7/028 , C08L33/16 , H01L21/312 , H01L51/52 , C08F20/22 , C08F20/28

4. 发明专利

TWI693474B 光阻材料及圖案形成方法有权
简体标题：光阻材料及图案形成方法
公开(公告)号：TWI693474B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW108113292
申请日：2019-04-17
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 佐佐見武志 , SASAMI, TAKESHI
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/033 , G03F7/039 , H01L21/027

5. 发明专利

TWI687446B 光阻組成物、光阻圖案以及製備光阻圖案的方法有权
简体标题：光阻组成物、光阻图案以及制备光阻图案的方法
公开(公告)号：TWI687446B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107127361
申请日：2018-08-07
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：朴賢旻 , PARK, HYUN MIN , 林敏映 , LIM, MIN YOUNG , 李泰燮 , LEE, TAE SEOB
IPC分类号： C08F220/38 , C08F8/34 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L23/488 , H01L21/60

6. 发明专利

TW202008079A 感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及顯示元件审中-公开
简体标题：感放射线性组成物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示组件
公开(公告)号：TW202008079A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108125969
申请日：2019-07-23
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：工藤和生 , KUDOU, KAZUNARI , 成子朗人 , NARUKO, AKITO , 松本晃幸 , MATSUMOTO, TERUYUKI
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/033 , H01L21/027 , G02F1/1333 , H01L27/32
摘要：本發明提供一種保存穩定性優異、PCD裕度及PED裕度高的感放射線性組成物，其可形成相對介電常數低的硬化膜。一種感放射線性組成物，其含有聚合物成分（A）及感放射線性化合物（B），所述聚合物成分（A）在同一或不同的聚合物中具有源自馬來醯亞胺的結構單元（I）及含有式（II-1）所表示的基的結構單元（II）。 [R1、R2、R3分別獨立地為氫原子、烷基、脂環式烴基、芳基、這些基所具有的氫原子的一部分或全部經取代基所取代的基、或者-SiRA3；RA分別獨立地為碳數1～10的烷基；Q1為酯鍵、或者-Ar1-O-所表示的二價基（Ar1為伸芳基、或者伸芳基所具有的氫原子的一部分或全部經取代基所取代的基）]
简体摘要：本发明提供一种保存稳定性优异、PCD裕度及PED裕度高的感放射线性组成物，其可形成相对介电常数低的硬化膜。一种感放射线性组成物，其含有聚合物成分（A）及感放射线性化合物（B），所述聚合物成分（A）在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元（I）及含有式（II-1）所表示的基的结构单元（II）。 [R1、R2、R3分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基、芳基、这些基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基、或者-SiRA3；RA分别独立地为碳数1～10的烷基；Q1为酯键、或者-Ar1-O-所表示的二价基（Ar1为伸芳基、或者伸芳基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基）]

7. 发明专利

TWI682238B 光硬化性組合物及電子零件之製造方法有权
简体标题：光硬化性组合物及电子零件之制造方法
公开(公告)号：TWI682238B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104121754
申请日：2015-07-03
申请人：日商積水化學工業股份有限公司 , SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
发明人：金千鶴 , KIM, CHIZURU
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/027 , G03F7/028 , H05K3/28

8. 发明专利

TWI676082B 感光性樹脂組成物、其所形成之光硬化圖案、及包含該圖案之影像顯示裝置有权
简体标题：感光性树脂组成物、其所形成之光硬化图案、及包含该图案之影像显示设备
公开(公告)号：TWI676082B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105102640
申请日：2016-01-28
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：趙庸桓 , CHO, YONG HWAN , 安菩恩 , AHN, BO EUN , 金在成 , KIM, JAE SUNG
IPC分类号： G03F7/031 , C07C323/52 , C07D251/30 , C07C49/84 , C07D249/20 , C07D251/24 , G03F7/033 , C08F220/32 , C08F220/28

9. 发明专利

TWI665524B 負型感光性樹脂組合物、使用其形成的光固化圖案和圖像顯示裝置有权
简体标题：负型感光性树脂组合物、使用其形成的光固化图案和图像显示设备
公开(公告)号：TWI665524B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW105104271
申请日：2016-02-15
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：全志珉 , CHUN, JI MIN , 金聖彬 , KIM, SEONG BEEN , 趙庸桓 , CHO, YONG HWAN
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/033 , C08F220/32 , C08F232/08 , G03F7/027 , C08K5/37 , G09F9/00

10. 发明专利

TWI665518B 負型感光性樹脂組合物、使用該組合物的光固化圖案及圖像顯示裝置有权
简体标题：负型感光性树脂组合物、使用该组合物的光固化图案及图像显示设备
公开(公告)号：TWI665518B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW105104796
申请日：2016-02-18
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：全志珉 , CHUN, JI MIN , 金聖彬 , KIM, SEONG BEEN , 朴漢雨 , PARK, HAN WOO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/033 , C08F232/08 , C08F220/32 , G03F7/031 , G03F7/038 , G09F9/00

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