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1. 发明专利

TWI625509B 用於雷射源之線上校準的系統及方法有权
简体标题：用于激光源之在线校准的系统及方法
公开(公告)号：TWI625509B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13

2. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

4. 发明专利

TW201721294A 微影設備及方法审中-公开
简体标题：微影设备及方法
公开(公告)号：TW201721294A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105130553
申请日：2016-09-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 歐普特羅特威黑墨斯派翠克伊麗莎白瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 薩能禮昂彼特保羅 , SAANEN, LEON PIETER PAUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70066 , G03F7/70525
摘要：本發明提供一種控制一輻射源之輸出之方法，該方法包括：週期性地監視該輻射源之一輸出能量；判定一參考能量信號與該所監視輸出能量之間的一差；判定一回饋值；判定針對一後續時間段的該輻射源之一所要輸出能量；及取決於在該後續時間段期間之該所判定所要輸出能量而控制該輻射源之一輸入參數。若該輻射源之該所監視輸出能量與該參考能量信號之間的該所判定差之量值超過一臨限值，則：該所判定差不貢獻於該回饋值；且遍及該後續時間段根據一參考能量信號調整量變曲線而散佈該所判定差，且針對該後續時間段將該參考能量信號調整量變曲線加至該參考能量信號。
简体摘要：本发明提供一种控制一辐射源之输出之方法，该方法包括：周期性地监视该辐射源之一输出能量；判定一参考能量信号与该所监视输出能量之间的一差；判定一回馈值；判定针对一后续时间段的该辐射源之一所要输出能量；及取决于在该后续时间段期间之该所判定所要输出能量而控制该辐射源之一输入参数。若该辐射源之该所监视输出能量与该参考能量信号之间的该所判定差之量值超过一临限值，则：该所判定差不贡献于该回馈值；且遍及该后续时间段根据一参考能量信号调整量变曲线而散布该所判定差，且针对该后续时间段将该参考能量信号调整量变曲线加至该参考能量信号。

5. 发明专利

TW202011123A 用於操作光束的方法及裝置审中-公开
简体标题：用于操作光束的方法及设备
公开(公告)号：TW202011123A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108141935
申请日：2018-01-12
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 金布萊恩艾德華 , KING, BRIAN EDWARD , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐普特羅特威黑墨斯派翠克伊麗莎白瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP
IPC分类号： G03F7/22 , G01J11/00
摘要：一種方法包括：產生由具有在深紫外線範圍中之一波長之脈衝組成的一光束，每一脈衝具有由一第一時間相干性長度界定之一第一時間相干性且每一脈衝係由一脈衝持續時間界定；針對一或多個脈衝，在該脈衝之該脈衝持續時間期間調變光學相位以產生具有由一第二時間相干性長度界定之一第二時間相干性的一經修改脈衝，該第二時間相干性長度小於該脈衝之該第一時間相干性長度；至少由該等經修改脈衝形成一脈衝光束；及引導該所形成之脈衝光束朝向一微影曝光裝置內之一基板。
简体摘要：一种方法包括：产生由具有在深紫外线范围中之一波长之脉冲组成的一光束，每一脉冲具有由一第一时间相干性长度界定之一第一时间相干性且每一脉冲系由一脉冲持续时间界定；针对一或多个脉冲，在该脉冲之该脉冲持续时间期间调制光学相位以产生具有由一第二时间相干性长度界定之一第二时间相干性的一经修改脉冲，该第二时间相干性长度小于该脉冲之该第一时间相干性长度；至少由该等经修改脉冲形成一脉冲光束；及引导该所形成之脉冲光束朝向一微影曝光设备内之一基板。

6. 发明专利

TW201832021A 減少準分子光源中之光斑审中-公开
简体标题：减少准分子光源中之光斑
公开(公告)号：TW201832021A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107101139
申请日：2018-01-12
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 金布萊恩艾德華 , KING, BRIAN EDWARD , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐普特羅特威黑墨斯派翠克伊麗莎白瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP
IPC分类号： G03F7/22 , G01J11/00
摘要：一種方法包括：產生由具有在深紫外線範圍中之一波長之脈衝組成的一光束，每一脈衝具有由一第一時間相干性長度界定之一第一時間相干性且每一脈衝係由一脈衝持續時間界定；針對一或多個脈衝，在該脈衝之該脈衝持續時間期間調變光學相位以產生具有由一第二時間相干性長度界定之一第二時間相干性的一經修改脈衝，該第二時間相干性長度小於該脈衝之該第一時間相干性長度；至少由該等經修改脈衝形成一脈衝光束；及引導該所形成之脈衝光束朝向一微影曝光裝置內之一基板。
简体摘要：一种方法包括：产生由具有在深紫外线范围中之一波长之脉冲组成的一光束，每一脉冲具有由一第一时间相干性长度界定之一第一时间相干性且每一脉冲系由一脉冲持续时间界定；针对一或多个脉冲，在该脉冲之该脉冲持续时间期间调制光学相位以产生具有由一第二时间相干性长度界定之一第二时间相干性的一经修改脉冲，该第二时间相干性长度小于该脉冲之该第一时间相干性长度；至少由该等经修改脉冲形成一脉冲光束；及引导该所形成之脉冲光束朝向一微影曝光设备内之一基板。

7. 发明专利

TW201947266A 控制光學系統之方法审中-公开
简体标题：控制光学系统之方法
公开(公告)号：TW201947266A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108136059
申请日：2017-08-04
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：畢比湯瑪士費德列克艾倫二世 , BIBBY, THOMAS FREDERICK ALLEN JR , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 洛基司基洛斯提斯拉夫 , ROKITSKI, ROSTISLAV , 杜菲湯瑪斯派翠克 , DUFFEY, THOMAS PATRICK
IPC分类号： G02B6/43 , G02F1/025
摘要：用於控制一光學系統之技術包括：存取自該光學系統發射之一脈衝式光束之一特定脈衝之一性質的一量測值，該性質與該光束之同調性之一數量有關；比較該光束之該性質的該量測值與該性質的一目標值；基於該比較而判定是否產生一控制信號；以及若基於該比較而產生一控制信號，則藉由基於該控制信號修改該光學系統之一態樣來調整該光束中之同調性之該數量，以減小在該特定脈衝之後的一脈衝之同調性之一數量。
简体摘要：用于控制一光学系统之技术包括：存取自该光学系统发射之一脉冲式光束之一特定脉冲之一性质的一量测值，该性质与该光束之同调性之一数量有关；比较该光束之该性质的该量测值与该性质的一目标值；基于该比较而判定是否产生一控制信号；以及若基于该比较而产生一控制信号，则借由基于该控制信号修改该光学系统之一态样来调整该光束中之同调性之该数量，以减小在该特定脉冲之后的一脉冲之同调性之一数量。

8. 发明专利

TWI645451B 脈衝光束的光譜特徵之控制有权
简体标题：脉冲光束的光谱特征之控制
公开(公告)号：TWI645451B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106135285
申请日：2017-10-16
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：康利維爾拉厄爾 , CONLEY, WILLARD EARL , 梅森艾瑞克安德爾斯 , MASON, ERIC ANDERS , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

10. 发明专利

TW201920936A 在氣體放電光源中之氟偵測审中-公开
简体标题：在气体放电光源中之氟侦测
公开(公告)号：TW201920936A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133095
申请日：2018-09-20
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 羅思齊 , LUO, EDWARD SIQI , 佩德瑪邦度甘瑪萊拉拉吉 G , PADMABANDU, GAMARALALAGE G
IPC分类号： G01N21/3504 , G01N1/22
摘要：本發明係關於一種設備，包括：一氣體維持系統，其具有流體地連接至一或多個氣體放電室之一氣體供應系統；一偵測設備，其流體地連接至每個氣體放電室；以及一控制系統，其連接至該氣體維持系統及該偵測設備。該偵測設備包括：界定一反應空腔之一容器，其容納一金屬氧化物且流體地連接至該氣體放電室以用於接收包括該反應空腔中來自該氣體放電室之氟之混合氣體，該容器實現所接收到之混合氣體中之氟與該金屬氧化物之間的一反應以形成包括氧氣之一新氣體混合物；及一氧氣感測器，其流體地連接至該新氣體混合物以感測該新氣體混合物內之氧氣之一量。該控制系統經組態以估計接收到之混合氣體中氟之一濃度。
简体摘要：本发明系关于一种设备，包括：一气体维持系统，其具有流体地连接至一或多个气体放电室之一气体供应系统；一侦测设备，其流体地连接至每个气体放电室；以及一控制系统，其连接至该气体维持系统及该侦测设备。该侦测设备包括：界定一反应空腔之一容器，其容纳一金属氧化物且流体地连接至该气体放电室以用于接收包括该反应空腔中来自该气体放电室之氟之混合气体，该容器实现所接收到之混合气体中之氟与该金属氧化物之间的一反应以形成包括氧气之一新气体混合物；及一氧气传感器，其流体地连接至该新气体混合物以传感该新气体混合物内之氧气之一量。该控制系统经组态以估计接收到之混合气体中氟之一浓度。

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