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2. 发明专利

TW201805729A 輻射調節系統、照明系統及度量衡裝置、器件製造方法审中-公开
简体标题：辐射调节系统、照明系统及度量衡设备、器件制造方法
公开(公告)号：TW201805729A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106115608
申请日：2017-05-11
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：高爾登賽巴斯汀亞努斯安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 迪威特僑漢斯馬修司馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 美德斯強納斯 , MERTES, JONAS , 凡德鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/16 , G03F7/38 , G02B27/09 , G01N21/88 , G01N21/47 , G01B11/27 , G01B11/06
CPC分类号： G03F7/70191 , G01B11/0608 , G01B11/272 , G01N21/4738 , G01N21/8851 , G02B27/0994 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/38 , G03F7/70075
摘要：本發明揭示一種用於調節一輻射光束之光學系統，以及一種包含此光學系統之照明系統及度量衡裝置。該光學系統包含一光學系統中之一或多個光學混合元件。該光學系統界定至少一第一光學混合級、至少一第二光學混合級及至少一個變換級，該至少一個變換級經組態使得進入該第二光學混合級之輻射包括離開該第一光學混合級之輻射之一經變換版本。可使用單獨光學混合元件或藉由穿過同一光學混合元件多個遍次而提供該第一光學混合級及該第二光學混合級。該變換級可為一傅立葉變換級。照明之空間分佈及角度分佈兩者可視需要均質化。
简体摘要：本发明揭示一种用于调节一辐射光束之光学系统，以及一种包含此光学系统之照明系统及度量衡设备。该光学系统包含一光学系统中之一或多个光学混合组件。该光学系统界定至少一第一光学混合级、至少一第二光学混合级及至少一个变换级，该至少一个变换级经组态使得进入该第二光学混合级之辐射包括离开该第一光学混合级之辐射之一经变换版本。可使用单独光学混合组件或借由穿过同一光学混合组件多个遍次而提供该第一光学混合级及该第二光学混合级。该变换级可为一傅里叶变换级。照明之空间分布及角度分布两者可视需要均质化。

3. 发明专利

TWI691800B 量測系統、微影系統及量測目標的方法有权
简体标题：量测系统、微影系统及量测目标的方法
公开(公告)号：TWI691800B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW106138537
申请日：2017-11-08
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 凡德鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND , 席恩阿曼帝 , SINGH, AMANDEV
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/00 , G01B11/30

4. 发明专利

TW201921145A 光學系統、度量衡設備及相關方法审中-公开
简体标题：光学系统、度量衡设备及相关方法
公开(公告)号：TW201921145A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130231
申请日：2018-08-30
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡登波斯西特喜希巨門 , VAN DER POST, SIETSE THIJMEN , 包默爾史蒂芬麥可布諾 , BAUMER, STEFAN MICHAEL BRUNO , 凡弗斯特彼得丹尼 , VAN VOORST, PETER DANNY , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 塞吉普飛瑞 , ZIJP, FERRY , 尼恩休斯漢冠 , NIENHUYS, HAN-KWANG , 凡登伊恩比姆德雅各瑪利亞安東尼斯 , VAN DEN EERENBEEMD, JACOBUS MARIA ANTONIUS
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/95 , G21K1/06
摘要：本發明描述一種用於將一輻射光束(B)聚焦於一度量衡設備中之一所關注區上之光學系統(OS)。該輻射光束(B)包含在一軟X射線或極紫外線光譜範圍內之輻射。該光學系統(OS)包含一第一級(S1)，該第一級用於將該輻射光束聚焦於一中間焦點區處。該光學系統(OS)包含一第二級(S2)，該第二級用於將來自該中間焦點區之該輻射光束聚焦至該所關注區上。該第一級及該第二級各自包含一柯克派垂克•貝茲反射器組合。至少一個反射器包含像差校正反射器。
简体摘要：本发明描述一种用于将一辐射光束(B)聚焦于一度量衡设备中之一所关注区上之光学系统(OS)。该辐射光束(B)包含在一软X射线或极紫外线光谱范围内之辐射。该光学系统(OS)包含一第一级(S1)，该第一级用于将该辐射光束聚焦于一中间焦点区处。该光学系统(OS)包含一第二级(S2)，该第二级用于将来自该中间焦点区之该辐射光束聚焦至该所关注区上。该第一级及该第二级各自包含一柯克派垂克•贝兹反射器组合。至少一个反射器包含像差校正反射器。

5. 发明专利

TWI643031B 用於微影或檢測設備之照明系統有权
简体标题：用于微影或检测设备之照明系统
公开(公告)号：TWI643031B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106121702
申请日：2017-06-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 凡斯庫瑞恩柯恩艾德瑞安納斯 , VERSCHUREN, COEN ADRIANUS
IPC分类号： G03F7/20

6. 发明专利

TWI680357B 用於處理具有同調性輻射光束的器件、用於檢測目標之檢測裝置及微影裝置有权
简体标题：用于处理具有同调性辐射光束的器件、用于检测目标之检测设备及微影设备
公开(公告)号：TWI680357B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW106125406
申请日：2017-07-28
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：高爾登賽巴斯汀亞努斯安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 阿克布魯特都古 , AKBULUT, DUYGU , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 迪威特僑漢斯馬修司馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/82

7. 发明专利

TW201734564A 光束同質化器、照明系統及度量衡系統审中-公开
简体标题：光束同质化器、照明系统及度量衡系统
公开(公告)号：TW201734564A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106106032
申请日：2017-02-23
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：俄林斯馬可斯法蘭西斯安東尼奧斯 , EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS , 柯蘭愛曼德尤金尼愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 迪威特僑漢斯馬修司馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 史莫諾夫史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV
IPC分类号： G02B27/10 , G02B5/20 , G01N23/02
CPC分类号： G02B27/0988 , G01B11/272 , G01N21/49 , G01N21/8806 , G01N2201/0631 , G02B6/0008 , G02B26/008 , G02B27/0927 , G02B27/0994 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70616 , G03F7/70633
摘要：本發明提供一種用於使一輻射光束同質化之光束同質化器，及一種照明系統以及包含此類光束同質化器之度量衡裝置。該光束同質化器包含：一濾光器系統，其具有一可控制徑向吸收剖面且經組態以輸出一經濾光之光束；及一光學混合元件，其經組態以使該經濾光之光束同質化。該濾光器系統可經組態以徑向地使有角光束剖面同質化，且該光學混合元件可經組態以在方位角上使該有角光束剖面同質化。
简体摘要：本发明提供一种用于使一辐射光束同质化之光束同质化器，及一种照明系统以及包含此类光束同质化器之度量衡设备。该光束同质化器包含：一滤光器系统，其具有一可控制径向吸收剖面且经组态以输出一经滤光之光束；及一光学混合组件，其经组态以使该经滤光之光束同质化。该滤光器系统可经组态以径向地使有角光束剖面同质化，且该光学混合组件可经组态以在方位角上使该有角光束剖面同质化。

8. 发明专利

TWI672494B 檢測裝置及方法有权
简体标题：检测设备及方法
公开(公告)号：TWI672494B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW106126687
申请日：2017-08-08
申请人：荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：史莫諾夫史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV , 迪威特僑漢斯馬修司馬力 , DE WIT, JOHANNES MATHEUS MARIE , 塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 柯蘭愛曼德尤金尼愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC分类号： G01N21/47 , G03F9/00

9. 发明专利

TW201826040A 量測系統、微影系統及量測目標的方法审中-公开
简体标题：量测系统、微影系统及量测目标的方法
公开(公告)号：TW201826040A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106138537
申请日：2017-11-08
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 凡德鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND , 席恩阿曼帝 , SINGH, AMANDEV
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/00 , G01B11/30
摘要：本發明揭示一種量測系統，其中一第一光學系統將一輸入輻射光束分裂成複數個分量。一調變器接收該複數個分量且獨立於該等分量中之至少一個其他者將一調變施加至該等分量中之至少一者。一第二光學系統運用該複數個分量照明一目標且將由該目標散射之輻射導向至一偵測系統。該偵測系統基於由該調變器施加至每一分量或分量之每一群組之該調變而區分導向至該偵測系統之該輻射的一或多個分量中之每一者或分量之一或多個群組中之每一者。
简体摘要：本发明揭示一种量测系统，其中一第一光学系统将一输入辐射光束分裂成复数个分量。一调制器接收该复数个分量且独立于该等分量中之至少一个其他者将一调制施加至该等分量中之至少一者。一第二光学系统运用该复数个分量照明一目标且将由该目标散射之辐射导向至一侦测系统。该侦测系统基于由该调制器施加至每一分量或分量之每一群组之该调制而区分导向至该侦测系统之该辐射的一或多个分量中之每一者或分量之一或多个群组中之每一者。

10. 发明专利

TW201819889A 檢測基板之方法、度量衡設備及微影系統审中-公开
简体标题：检测基板之方法、度量衡设备及微影系统
公开(公告)号：TW201819889A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106135113
申请日：2017-10-13
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：塔克爾特尼思威廉 , TUKKER, TEUNIS WILLEM , 席恩阿曼帝 , SINGH, AMANDEV , 凡德鄒葛伯德 , VAN DER ZOUW, GERBRAND
IPC分类号： G01N21/47 , G03F9/00
摘要：本發明揭示度量衡設備及方法。在一個配置中，檢測一基板。將由一輻射源(50)發射之一輻射源光束(131)分裂成一量測光束(132)及一參考光束(133)。運用該量測光束照明一第一目標，該第一目標在該基板(W)上。運用該參考光束照明一第二目標(90)，該第二目標與該基板分離。自該第一目標收集第一散射輻射(134)且將其遞送至一偵測器(80)。自該第二目標收集第二散射輻射(135)且將其遞送至該偵測器。該第一散射輻射在該偵測器處干涉該第二散射輻射。該第一目標包含一第一圖案。該第二目標包含一第二圖案或該第二圖案之一光瞳平面影像。該第一圖案在在幾何學上相同於該第二圖案、該第一圖案及該第二圖案係週期性的且該第一圖案之一間距相同於該第二圖案之一間距，或此兩種情形皆成立。
简体摘要：本发明揭示度量衡设备及方法。在一个配置中，检测一基板。将由一辐射源(50)发射之一辐射源光束(131)分裂成一量测光束(132)及一参考光束(133)。运用该量测光束照明一第一目标，该第一目标在该基板(W)上。运用该参考光束照明一第二目标(90)，该第二目标与该基板分离。自该第一目标收集第一散射辐射(134)且将其递送至一侦测器(80)。自该第二目标收集第二散射辐射(135)且将其递送至该侦测器。该第一散射辐射在该侦测器处干涉该第二散射辐射。该第一目标包含一第一图案。该第二目标包含一第二图案或该第二图案之一光瞳平面影像。该第一图案在在几何学上相同于该第二图案、该第一图案及该第二图案系周期性的且该第一图案之一间距相同于该第二图案之一间距，或此两种情形皆成立。

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