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    • 9. 发明专利
    • 通遮罩互連線製造中的電氧化金屬移除
    • 通遮罩互连接制造中的电氧化金属移除
    • TW201919150A
    • 2019-05-16
    • TW107125404
    • 2018-07-24
    • 美商蘭姆研究公司LAM RESEARCH CORPORATION
    • 索爾克森 卡里THORKELSSON, KARI亞伯拉罕 理查 GABRAHAM, RICHARD G.邁爾 史蒂芬 TMAYER, STEVEN T.
    • H01L21/768C25D17/00C25D7/12
    • 在一實施例中,一種晶圓處理方法包含將一金屬填充至複數通遮罩凹陷特徵部中俾使一第一通遮罩特徵部之一填充速率與一第二通遮罩特徵部之一填充速率之間的一比值為R1;接著藉由電化學移除金屬俾使該第一通遮罩特徵部之金屬移除速率與該第二通遮罩特徵部之金屬移除速率的一比值係大於R1,以改善填充均勻度。在某些實施例中,該方法包含以一電解液接觸一受到陽極化偏壓的基板俾使該電解液具有沿著實質上平行於該基板之工作表面之方向的橫流分量。該方法可在用以在基板表面處產生橫流的設備中進行。在某些實施例中,該方法使用不同的電化學狀態以達到均勻度的改善。
    • 在一实施例中,一种晶圆处理方法包含将一金属填充至复数通遮罩凹陷特征部中俾使一第一通遮罩特征部之一填充速率与一第二通遮罩特征部之一填充速率之间的一比值为R1;接着借由电化学移除金属俾使该第一通遮罩特征部之金属移除速率与该第二通遮罩特征部之金属移除速率的一比值系大于R1,以改善填充均匀度。在某些实施例中,该方法包含以一电解液接触一受到阳极化偏压的基板俾使该电解液具有沿着实质上平行于该基板之工作表面之方向的横流分量。该方法可在用以在基板表面处产生横流的设备中进行。在某些实施例中,该方法使用不同的电化学状态以达到均匀度的改善。
    • 10. 发明专利
    • 量測電鍍槽元件之狀態的設備與相關方法
    • 量测电镀槽组件之状态的设备与相关方法
    • TW201802468A
    • 2018-01-16
    • TW106112701
    • 2017-04-17
    • 蘭姆研究公司LAM RESEARCH CORPORATION
    • 艾默生 馬克 EEMERSON, MARK E.邁爾 史蒂芬 TMAYER, STEVEN T.奧索夫斯基 勞倫斯OSSOWSKI, LAWRENCE
    • G01N27/04
    • G01R31/00C25D17/00G01R31/44H01L22/14
    • 一種測量在一電鍍設備內之電接觸件之電特性的裝置,其具有類似晶圓的一盤狀結構。多個導電的墊係加以形成,以共同界定該盤狀結構的外周緣。導電的墊之相鄰配置者係彼此電隔離。該裝置包含一電流源,該電流源在一第一端子供應電流且在一第二端子汲取電流。該裝置包含測量電路,該測量電路具有第一及第二輸入端子,該測量電路基於在該第一及第二輸入端子存在的訊號判定一電參數的值。該裝置包含開關電路,該開關電路用於在一給定時間,將該等導電的墊之其中被選擇者連接至該電流源的該第一及第二端子,及連接至該測量電路的該第一及第二輸入端子。該裝置亦包含一電源供應器。
    • 一种测量在一电镀设备内之电接触件之电特性的设备,其具有类似晶圆的一盘状结构。多个导电的垫系加以形成,以共同界定该盘状结构的外周缘。导电的垫之相邻配置者系彼此电隔离。该设备包含一电流源,该电流源在一第一端子供应电流且在一第二端子汲取电流。该设备包含测量电路,该测量电路具有第一及第二输入端子,该测量电路基于在该第一及第二输入端子存在的信号判定一电参数的值。该设备包含开关电路,该开关电路用于在一给定时间,将该等导电的垫之其中被选择者连接至该电流源的该第一及第二端子,及连接至该测量电路的该第一及第二输入端子。该设备亦包含一电源供应器。