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1. 发明专利

TWI455230B 液處理裝置，液處理方法及記憶媒體有权
简体标题：液处理设备，液处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI455230B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW101107167
申请日：2012-03-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：西健治 , NISHI, KENJI , 竹下和宏 , TAKESHITA, KAZUHIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 田中曉 , TANAKA, SATORU , 溝田昌吾 , MIZOTA, SHOGO
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/6708

2. 发明专利

TW201349326A 液體處理裝置、液體處理方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：液体处理设备、液体处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201349326A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102101377
申请日：2013-01-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：大塚貴久 , OTSUKA, TAKAHISA , 丸山裕隆 , MARUYAMA, HIROTAKA , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 工藤和幸 , KUDO, KAZUYUKI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： B08B3/04 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
摘要：本發明之目的在於提供一種液體處理裝置，其可降低在切換供給酸性、鹼性藥液的裝置中所產生的粒子。為達成上述之目的，本發明之液體處理裝置中的第1處理液供給部切換供給酸性藥液及沖洗液，第2處理液供給部切換供給鹼性藥液及沖洗液；該第1處理液供給部包含第1噴嘴區塊42與第1移動機構，其對旋轉的基板W的表面切換供給處理液，並藉此進行液體處理，該第2處理液供給部包含第2噴嘴區塊52與第2移動機構。接著，在從一側的噴嘴區塊42對基板W供給藥液時，使另一側的噴嘴區塊52退避至退避位置，而在從一側的噴嘴區塊42對基板W供給沖洗液時，使另一側的噴嘴區塊52移動至處理位置。另外，在從另一側的噴嘴區塊52供給藥液時，使一側的噴嘴區塊42退避至退避位置。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种液体处理设备，其可降低在切换供给酸性、碱性药液的设备中所产生的粒子。为达成上述之目的，本发明之液体处理设备中的第1处理液供给部切换供给酸性药液及冲洗液，第2处理液供给部切换供给碱性药液及冲洗液；该第1处理液供给部包含第1喷嘴区块42与第1移动机构，其对旋转的基板W的表面切换供给处理液，并借此进行液体处理，该第2处理液供给部包含第2喷嘴区块52与第2移动机构。接着，在从一侧的喷嘴区块42对基板W供给药液时，使另一侧的喷嘴区块52退避至退避位置，而在从一侧的喷嘴区块42对基板W供给冲洗液时，使另一侧的喷嘴区块52移动至处理位置。另外，在从另一侧的喷嘴区块52供给药液时，使一侧的喷嘴区块42退避至退避位置。

3. 发明专利

TW201312678A 液體處理裝置、液體處理方法及儲存有程式之電腦可讀取的記錄媒體审中-公开
简体标题：液体处理设备、液体处理方法及存储有进程之电脑可读取的记录媒体
公开(公告)号：TW201312678A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101113810
申请日：2012-04-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 脇山輝史 , WAKIYAMA, TERUFUMI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/04
CPC分类号： B08B3/10 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B3/041 , B08B3/048 , H01L21/67017 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , Y10S134/902
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，其使用簡單的方法使兩個杯體一起上升。液體處理裝置1，以圍住被處理基板的旋轉保持部21的方式設置第1、第2杯體51、52，將從旋轉的被處理基板W飛濺出來的處理液引導至下方側，第1驅動部610以及第2驅動部620，使第1杯體51以及第2杯體52在接收處理液的位置，與其下方側的位置之間升降。控制部7，在第1、第2杯體51、52同時上升時，第1杯體51的上升速度大於第2杯體52的上升速度，第1杯體51或其第1升降構件，與該第2杯體52或其第2升降構件從下方側重疊，藉由傳遞第1驅動部的驅動力，使該等第1杯體51與第2杯體52同時上升。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，其使用简单的方法使两个杯体一起上升。液体处理设备1，以围住被处理基板的旋转保持部21的方式设置第1、第2杯体51、52，将从旋转的被处理基板W飞溅出来的处理液引导至下方侧，第1驱动部610以及第2驱动部620，使第1杯体51以及第2杯体52在接收处理液的位置，与其下方侧的位置之间升降。控制部7，在第1、第2杯体51、52同时上升时，第1杯体51的上升速度大于第2杯体52的上升速度，第1杯体51或其第1升降构件，与该第2杯体52或其第2升降构件从下方侧重叠，借由传递第1驱动部的驱动力，使该等第1杯体51与第2杯体52同时上升。

4. 发明专利

TWI647754B 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记录媒体
公开(公告)号：TWI647754B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW105123358
申请日：2016-07-25
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：伊藤規宏 , ITO, NORIHIRO , 東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 大塚貴久 , OTSUKA, TAKAHISA , 道木裕一 , DOUKI, YUICHI , 橋本佑介 , HASHIMOTO, YUSUKE , 相浦一博 , AIURA, KAZUHIRO , 後藤大輔 , GOTO, DAISUKE
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306

5. 发明专利

TWI569887B 基板液處理裝置有权
简体标题：基板液处理设备
公开(公告)号：TWI569887B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW100116679
申请日：2011-05-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI
IPC分类号： B05C11/10
CPC分类号： H01L21/67051

6. 发明专利

TWI517225B 液體處理裝置及液體處理方法有权
简体标题：液体处理设备及液体处理方法
公开(公告)号：TWI517225B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100142559
申请日：2011-11-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 金子聰 , KANEKO, SATOSHI , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI , 甲斐義廣 , KAI, YOSHIHIRO
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728

7. 发明专利

TWI487049B 流路切換裝置、處理裝置、流路切換方法、處理方法及記憶媒體有权
简体标题：流路切换设备、处理设备、流路切换方法、处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI487049B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW100121818
申请日：2011-06-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 長峰秀一 , NAGAMINE, SHUICHI , 清田健司 , KIYOTA, KENJI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67173 , Y10T137/0324 , Y10T137/87684 , Y10T137/87877

8. 发明专利

TW201421552A 液體處理裝置及清洗方法审中-公开
简体标题：液体处理设备及清洗方法
公开(公告)号：TW201421552A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102126338
申请日：2013-07-23
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 脇山輝史 , WAKIYAMA, TERUFUMI , 甲斐義廣 , KAI, YOSHIHIRO , 加茂陵賀 , KAMO, RYOUGA , 池田義謙 , IKEDA, YOSHINORI
IPC分类号： H01L21/30 , B08B3/04
CPC分类号： B08B3/04 , H01L21/67051
摘要：本發明旨在提供一種液體處理裝置及清洗方法，可清洗排氣通道中排放部周邊以外處。其中液體處理裝置10包含：排氣部76，設於排放部71~74附近，以使由基板固持部52所固持之基板W周圍的蒙氣排氣；排氣通道形成構件66，形成連接排氣部76之排氣通道77；及第1清洗部90，對排氣通道77側排氣通道形成構件66供給清洗液。
简体摘要：本发明旨在提供一种液体处理设备及清洗方法，可清洗排气信道中排放部周边以外处。其中液体处理设备10包含：排气部76，设于排放部71~74附近，以使由基板固持部52所固持之基板W周围的蒙气排气；排气信道形成构件66，形成连接排气部76之排气信道77；及第1清洗部90，对排气信道77侧排气信道形成构件66供给清洗液。

9. 发明专利

TWI644355B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI644355B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW105127076
申请日：2016-08-24
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO
IPC分类号： H01L21/304

10. 发明专利

TW201714212A 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记录媒体
公开(公告)号：TW201714212A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105123358
申请日：2016-07-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：伊藤規宏 , ITO, NORIHIRO , 東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 大塚貴久 , OTSUKA, TAKAHISA , 道木裕一 , DOUKI, YUICHI , 橋本佑介 , HASHIMOTO, YUSUKE , 相浦一博 , AIURA, KAZUHIRO , 後藤大輔 , GOTO, DAISUKE
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：本發明之課題，係防止由基板往固定杯體外飛散之處理液附著於腔室內壁。解決該課題之手段係提供一種基板處理裝置，其具備固定杯體（51）、水霧防護罩（80）以及昇降機構（84）；固定杯體相對於處理容器為固定，且圍繞基板固持部（31）而承接供給至基板的處理液或者處理液的水霧；昇降機構使水霧防護罩昇降。水霧防護罩，以包圍固定杯體的方式設於固定杯體之外側，以隔斷越過固定杯體之上方而往外方飛散的液體。水霧防護罩具有筒狀的筒部（81）以及伸出部（82），伸出部由筒部之上端朝向固定杯體側伸出。
简体摘要：本发明之课题，系防止由基板往固定杯体外飞散之处理液附着于腔室内壁。解决该课题之手段系提供一种基板处理设备，其具备固定杯体（51）、水雾防护罩（80）以及升降机构（84）；固定杯体相对于处理容器为固定，且围绕基板固持部（31）而承接供给至基板的处理液或者处理液的水雾；升降机构使水雾防护罩升降。水雾防护罩，以包围固定杯体的方式设于固定杯体之外侧，以隔断越过固定杯体之上方而往外方飞散的液体。水雾防护罩具有筒状的筒部（81）以及伸出部（82），伸出部由筒部之上端朝向固定杯体侧伸出。

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