专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201505117A 基板搬送裝置、基板處理裝置及基板收容方法审中-公开
简体标题：基板搬送设备、基板处理设备及基板收容方法
公开(公告)号：TW201505117A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103104705
申请日：2014-02-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：村田晃 , MURATA, AKIRA , 森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 上田一成 , UEDA, ISSEI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68 , B65G49/07
摘要：對匣盒適當地收容基板。實施形態之基板搬送裝置，係具備有基板搬送部、檢測部及控制裝置。基板搬送部，係在與可收容複數片基板的匣盒之間進行基板的收授。檢測部，係檢測收容於匣盒的基板。控制裝置，係控制基板搬送部。又，控制裝置係具備搬送控制部、判定部及修正部。搬送控制部，係以對基板事先決定之目標收容位置收容基板的方式，控制基板搬送部。判定部，係藉由檢測部檢測被收容到匣盒的基板後，根據檢測部的檢測結果，判定該基板之實際的收容位置。修正部，係根據基板之實際的收容位置與目標收容位置的偏移，對作為其他基板之收容位置而事先決定的目標收容位置進行修正。
简体摘要：对匣盒适当地收容基板。实施形态之基板搬送设备，系具备有基板搬送部、检测部及控制设备。基板搬送部，系在与可收容复数片基板的匣盒之间进行基板的收授。检测部，系检测收容于匣盒的基板。控制设备，系控制基板搬送部。又，控制设备系具备搬送控制部、判定部及修正部。搬送控制部，系以对基板事先决定之目标收容位置收容基板的方式，控制基板搬送部。判定部，系借由检测部检测被收容到匣盒的基板后，根据检测部的检测结果，判定该基板之实际的收容位置。修正部，系根据基板之实际的收容位置与目标收容位置的偏移，对作为其他基板之收容位置而事先决定的目标收容位置进行修正。

2. 发明专利

TWI478267B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI478267B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW099133728
申请日：2010-10-04
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：南田純也 , MINAMIDA, JUNYA , 上田一成 , UEDA, ISSEI , 長野泰博 , CHOUNO, YASUHIRO , 黑田修 , KURODA, OSAMU , 江嶋和善 , ESHIMA, KAZUYOSHI , 吉田正寬 , YOSHIDA, MASAHIRO , 守田聰 , MORITA, SATOSHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S414/135

3. 发明专利

TWI593615B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI593615B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW103145387
申请日：2014-12-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 上田一成 , UEDA, ISSEI , 村田晃 , MURATA, AKIRA , 南田純也 , MINAMIDA, JUNYA
IPC分类号： B65G47/88 , B65G47/53 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67178 , H01L21/67754 , H01L21/67757

4. 发明专利

TWI566321B 基板搬送裝置、基板處理裝置及基板收容方法有权
简体标题：基板搬送设备、基板处理设备及基板收容方法
公开(公告)号：TWI566321B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW103104705
申请日：2014-02-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：村田晃 , MURATA, AKIRA , 森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 上田一成 , UEDA, ISSEI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68 , B65G49/07

5. 发明专利

TW201536652A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201536652A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103145387
申请日：2014-12-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：森川勝洋 , MORIKAWA, KATSUHIRO , 上田一成 , UEDA, ISSEI , 村田晃 , MURATA, AKIRA , 南田純也 , MINAMIDA, JUNYA
IPC分类号： B65G47/88 , B65G47/53 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67178 , H01L21/67754 , H01L21/67757
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，可達成處理量的提升。實施形態之基板處理裝置，具備複數之處理單元、及基板搬運裝置。複數之處理單元，於鉛直方向排列配置，用來處理基板。基板搬運裝置，可於鉛直方向移動，對處理單元進行基板的搬出入。此外，基板搬運裝置，具備第1搬運臂與第2搬運臂，於鉛直方向排列配置，且朝鉛直方向的可動範圍彼此重疊，獨立地朝鉛直方向移動。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，可达成处理量的提升。实施形态之基板处理设备，具备复数之处理单元、及基板搬运设备。复数之处理单元，于铅直方向排列配置，用来处理基板。基板搬运设备，可于铅直方向移动，对处理单元进行基板的搬出入。此外，基板搬运设备，具备第1搬运臂与第2搬运臂，于铅直方向排列配置，且朝铅直方向的可动范围彼此重叠，独立地朝铅直方向移动。

6. 发明专利

TWI459494B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI459494B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW099130386
申请日：2010-09-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：南田純也 , MINAMIDA, JUNYA , 上田一成 , UEDA, ISSEI
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67196 , H01L21/67778

7. 发明专利

TW578219B 基板處理裝置失效
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW578219B
公开(公告)日：2004-03-01
申请号：TW089113228
申请日：2000-07-04
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：上田一成
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67778 , G03F7/7075 , G03F7/70991 , H01L21/67161 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/67745 , Y10S414/135
摘要：將處理站、介面站及曝光裝置以此順序連結於用以搬出及搬入晶圓匣之匣站。且在處理站中，分別於匣站側配置架台單元、於介面站側配置具有反射防止膜形成單元、塗布單元和顯像單元之處理部、以及於架台單元與處理部間配置晶圓搬送機構，並排列成與匣站之排列方向相平行。依此配置，可追加處理部而不改變處理站由匣站算起的長度。
简体摘要：将处理站、界面站及曝光设备以此顺序链接于用以搬出及搬入晶圆匣之匣站。且在处理站中，分别于匣站侧配置架台单元、于界面站侧配置具有反射防止膜形成单元、涂布单元和显像单元之处理部、以及于架台单元与处理部间配置晶圆搬送机构，并排列成与匣站之排列方向相平行。依此配置，可追加处理部而不改变处理站由匣站算起的长度。

8. 发明专利

TWI326805B 塗佈、顯像裝置及其方法 COATING AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING METHOD 有权
简体标题：涂布、显像设备及其方法 COATING AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING METHOD
公开(公告)号：TWI326805B
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW095102331
申请日：2006-01-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳 , 林伸一 , 林田安 , 松岡伸明 , 木村義雄 , 上田一成 , 伊東晃
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719
摘要：藉由疊層設置光阻膜形成用之單位區塊和反射防止膜形成用之單位區塊，在光阻膜之上下形成反射防止膜，以謀求省空間化。再者可以對應於形成反射防止膜之時或不形成反射防止膜之時中之任一者，謀求此時之軟體之簡易化。
在處理區塊S2互相疊層塗佈膜形成用之單位區塊之TCT層B3、COT層B4、BCT層B5和屬於顯像處理用之單位區塊之DEV層B1、B2。即使在形成反射防止膜之時，或不形成反射防止膜之時，亦可以藉由選擇TCT層B3、COT層B4、BCT層B5內所使用之單位區塊，予以對應，可以抑制此時之搬運程式之複雜化，謀求軟體之簡易化。
简体摘要：借由叠层设置光阻膜形成用之单位区块和反射防止膜形成用之单位区块，在光阻膜之上下形成反射防止膜，以谋求省空间化。再者可以对应于形成反射防止膜之时或不形成反射防止膜之时中之任一者，谋求此时之软件之简易化。在处理区块S2互相叠层涂布膜形成用之单位区块之TCT层B3、COT层B4、BCT层B5和属于显像处理用之单位区块之DEV层B1、B2。即使在形成反射防止膜之时，或不形成反射防止膜之时，亦可以借由选择TCT层B3、COT层B4、BCT层B5内所使用之单位区块，予以对应，可以抑制此时之搬运进程之复杂化，谋求软件之简易化。

9. 发明专利

TW480555B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW480555B
公开(公告)日：2002-03-21
申请号：TW089121807
申请日：2000-10-18
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：上田一成 , 林伸一 , 飯田成昭 , 松山雄二 , 山口洋一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67161 , G07C9/00103 , G07C9/00111 , G08G3/00 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , Y10S134/902 , Y10S414/14
摘要：本發明係藉由在第1主晶圓搬送部及第2主晶圓搬送部的周圍分別地配置10段之各熱處理單元部、5段之各塗布處理單元部，並在熱處理單元部中以調溫，搬送裝置一邊對晶圓W進行調溫，一邊實施晶圓W之搬送處理的方式，而得以將基板之調溫處理所需要的時間對產率之下降所造成的影響盡量減少。
简体摘要：本发明系借由在第1主晶圆搬送部及第2主晶圆搬送部的周围分别地配置10段之各热处理单元部、5段之各涂布处理单元部，并在热处理单元部中以调温，搬送设备一边对晶圆W进行调温，一边实施晶圆W之搬送处理的方式，而得以将基板之调温处理所需要的时间对产率之下降所造成的影响尽量减少。

10. 发明专利

TW471051B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW471051B
公开(公告)日：2002-01-01
申请号：TW089120792
申请日：2000-10-05
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：上田一成 , 竹熊貴志 , 奧村賢治
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67161 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , Y10T29/41
摘要：本發明係提供一種基板處理裝置，係將進行液處理之第1處理單元群、與其有加熱處理單元及冷卻處理單元之加熱，冷卻處理單元之第2處理單元群，其冷卻處理單元係配置成鄰接位於第1處理單元群之側。藉此，能精密地進行用以在常溫附近對基板進行液處理之液處理單元的溫度控制。
简体摘要：本发明系提供一种基板处理设备，系将进行液处理之第1处理单元群、与其有加热处理单元及冷却处理单元之加热，冷却处理单元之第2处理单元群，其冷却处理单元系配置成邻接位于第1处理单元群之侧。借此，能精密地进行用以在常温附近对基板进行液处理之液处理单元的温度控制。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式