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1. 发明专利

TWI550686B 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體有权
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TWI550686B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20

2. 外观设计

TWD153745S 塗佈顯像機有权
简体标题：涂布显像机
公开(公告)号：TWD153745S
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW101304899
申请日：2012-08-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：土山正志 , TSUCHIYAMA, MASASHI , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI

3. 发明专利

TWI367397B 塗佈顯像裝置及其方法有权
简体标题：涂布显像设备及其方法
公开(公告)号：TWI367397B
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW095102330
申请日：2006-01-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳 , 林伸一 , 林田安 , 松岡伸明 , 木村義雄 , 上田一成 , 伊東晃
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/00 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719
摘要：本發明的課題是藉由層疊設置光阻劑膜形成用的單位區塊、及反射防止膜形成用的單位區塊，在光阻劑膜的上下形成反射防止膜時，可謀求省空間化。並且，皆可對應於形成反射防止膜時或不形成時，謀求此刻的軟體簡易化。
其解決手段是在處理區塊S2互相層疊設置塗佈膜形成用的單位區塊之TCT層B3、COT層B4、BCT層B5、及顯像處理用的單位區塊之DEV層B1，B2。在形成反射防止膜時或不形成時，皆可藉由選擇TCT層B3、COT層B4、BCT層B5內使用的單位區塊來對應，抑止此刻的搬送程式的複雜化，而能夠謀求軟體的簡易化。
简体摘要：本发明的课题是借由层叠设置光阻剂膜形成用的单位区块、及反射防止膜形成用的单位区块，在光阻剂膜的上下形成反射防止膜时，可谋求省空间化。并且，皆可对应于形成反射防止膜时或不形成时，谋求此刻的软件简易化。其解决手段是在处理区块S2互相层叠设置涂布膜形成用的单位区块之TCT层B3、COT层B4、BCT层B5、及显像处理用的单位区块之DEV层B1，B2。在形成反射防止膜时或不形成时，皆可借由选择TCT层B3、COT层B4、BCT层B5内使用的单位区块来对应，抑止此刻的搬送进程的复杂化，而能够谋求软件的简易化。

4. 外观设计

TWD137648S 塗佈顯影機有权
简体标题：涂布显影机
公开(公告)号：TWD137648S
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW098302441
申请日：2009-05-26
申请人：東京威力科創股份有限公司
设计人：中島常長 , 林伸一
摘要：【物品用途】
本創作的物品是塗佈顯影機，是為了對半導體晶圓等的基板施行光阻劑的塗佈處理、對曝光後的基板的顯影處理、以及熱處理等的塗佈顯影機，例如連接在曝光機使用。
【創作特點】
該塗佈顯影機係如立體圖、前視圖及標示各部名稱之立體圖所示，具有：載置著收納基板之卡匣的卸載機、和鄰接在該卸載機之右側，在正面具有控制面板的運送室、和鄰接在該運送室之右側的裝置收容箱(收容室)、和鄰接在裝置收容箱之右側的運送室、和鄰接在該運送室之右側的副運送室。
各運送室，係在內部具備基板運送用的運送臂。裝置收容箱，係可收容塗佈光阻劑的塗佈處理裝置、顯像處理裝置、加熱處理裝置、運送裝置等的各處理裝置重疊成五段，構成收容室。在各裝置收容室的正面，係設有觀察用的視窗、和由下端向斜上方突出的開閉用的把手。副運送室，係例如在與連接著本物品的曝光機之間用來運送基板。
简体摘要：【物品用途】本创作的物品是涂布显影机，是为了对半导体晶圆等的基板施行光阻剂的涂布处理、对曝光后的基板的显影处理、以及热处理等的涂布显影机，例如连接在曝光机使用。【创作特点】该涂布显影机系如三維图、前视图及标示各部名称之三維图所示，具有：载置着收纳基板之卡匣的卸载机、和邻接在该卸载机之右侧，在正面具有控制皮肤的运送室、和邻接在该运送室之右侧的设备收容箱(收容室)、和邻接在设备收容箱之右侧的运送室、和邻接在该运送室之右侧的副运送室。各运送室，系在内部具备基板运送用的运送臂。设备收容箱，系可收容涂布光阻剂的涂布处理设备、显像处理设备、加热处理设备、运送设备等的各处理设备重叠成五段，构成收容室。在各设备收容室的正面，系设有观察用的窗口、和由下端向斜上方突出的开闭用的把手。副运送室，系例如在与连接着本物品的曝光机之间用来运送基板。

5. 发明专利

TWI323009B 加熱裝置，塗佈、顯影裝置及加熱方法 HEATING DEVICE, COATING AND DEVELOPING APPARATUS, AND HEATING METHOD 有权
简体标题：加热设备，涂布、显影设备及加热方法 HEATING DEVICE, COATING AND DEVELOPING APPARATUS, AND HEATING METHOD
公开(公告)号：TWI323009B
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW095116242
申请日：2006-05-08
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：林伸一 , 稻富弘朗
IPC分类号： H01L
CPC分类号： F27D5/0037 , F27B5/04 , F27B17/0025 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/67109
摘要：本發明是具備有熱板和加熱處理後的基板搬運用的冷卻板之加熱裝置，實現加熱裝置的簡化及小型化。
具備有熱板和利用驅動機構使其移動在其與搬運機構之間進行基板交接的靜止位置和熱板上方之間的冷卻板之加熱裝置，將加熱裝置構成為具備：於冷卻板設有傳熱管，利用驅動機構使其和冷卻板同時移動，對上述傳熱管進行冷卻的空氣冷卻片部；及被設置成當上述冷卻板位於靜止位置時，空氣冷卻片部是接近於其吸引排氣口，以吸引排氣來使該空氣冷卻片部冷卻的吸引排氣管道。於靜止位置因是利用排氣管道使空氣冷卻片部被空氣冷卻，透過傳熱管來使冷卻板冷卻，所以就不需要冷卻液的配管設置，能夠使空氣冷卻用的機構簡化因此能夠使加熱裝置小型化。 A Heating device has a heating plate and a cooling plate.
The cooling plate moves according to a drive mechanism between a home position in which delivery of a substrate is performed between a conveyance mechanism and the cooling plate and the upper parts of the heating plate.
The heating device is constituted the air－cooling fin part which prepares a heat pipe in the cooling plate, moves with the cooling plate according to the drive mechanism, and cools the heat pipe and when the cooling plate is located in the home position, the suction exhaust way prepared so that the air－cooling fin part might be cooled by the suction exhaust, an ait－cooling fin part attends a suction exhaust port.
Since the air－cooling fin part is air－cooled by the exhaust way at the home position and the cooling plate is cooled through the heat pipe, leading about of piping of cooling liquid becomes unnecessary, and since an air cooling mechanism is simplified, the heating device can be miniaturized. 【創作特點】本發明是有鑑於上述事由而為的發明，其目的是針對具備有熱板和加熱處理後的基板搬運用的冷卻板之加熱裝置，提供一種可實現加熱裝置的簡化及小型化的技術。此外，本發明的另一目的是提供一種將該加熱裝置納入使用的塗佈、顯影裝置。
本發明的加熱裝置，具備有：設置在處理容器內，對塗有塗佈液的基板進行加熱處理的熱板；及設置在上述處理容器內，利用驅動機構使其移動在於其與搬運機構之間進行基板交接的靜止位置和熱板上方位置之間，對熱板加熱後的基板進行冷卻的冷卻板之加熱裝置，其特徵為，具備有：設置在上述冷卻板中傳熱管；利用上述驅動機構使其和上述冷卻板同時移動，可對上述傳熱管的一端側進行冷卻的空氣冷卻片部；及設置成當上述冷卻板位於靜止位置時，空氣冷卻片部是接近於其吸引排氣口，以吸引排氣來使該空氣冷卻片部冷卻的冷卻用吸引排氣管道。
上述加熱裝置，可構成為，上述冷卻板的靜止位置是位在熱板的側方，處理容器，是具備有層板，該層板可區隔出：基板的移動區域；及配置有上述冷卻板移動用驅動機構及交接手段驅動用驅動機構的底部區域，冷卻用的吸引排氣管道，是配置在上述層板的下方側。此外也可構成，具備有：在熱板上方設置成與基板成相向的整流板；及吸引排氣成可使氣流沿著該整流板形成的氣流成形用吸引排氣管道，又上述冷卻用的吸引排氣管道的基端側，是合流於上述氣流成形用吸引排氣管道，或者也可以構成為具備有：在熱板上方設置成與基板成相向的整流板；吸引排氣成可使氣流沿著該整流板形成的氣流成形用吸引排氣管道；合流於上述氣流成形用吸引排氣管道的裝置內排氣管道；及設置在該裝置內排氣管道，對上述底部區域範圍進行排氣用的吸引排氣管道，此外上述冷卻用的吸引排氣管道，是連接在比裝置內排氣管道的上述吸引排氣手段還上游側。
另外，於上述冷卻板的周緣，也可形成有可使載置著基板的外部搬運臂從該冷卻板的上方側通往下方側將基板交接在冷卻板上，其形狀為對應於搬運臂形狀的缺口部。
再加上，本發明的塗佈、顯影裝置，其具備有：搬入有收納著基板之載體的載體單元；包含有對從上述載體取出的基板之表面塗佈抗蝕劑的塗佈部，和可對塗有抗蝕劑的基板進行加熱的加熱裝置，和可對曝光後的基板進行顯影的顯影處理部之處理單元；及在該處理單元和曝光裝置之間進行基板交接的界面部，其特徵為，上述加熱裝置是使用既述的本發明加熱裝置。
本發明的加熱方法，其特徵為，包括：在熱板上對塗有抗蝕劑的基板進行加熱處理的步驟；可將加熱處理後的基板交接至已經移動到熱板上方的冷卻板之步驟；其次藉由冷卻板與空氣冷卻片部同時從熱板的上方位置離開移動至靜止位置，使該空氣冷卻片部的位置成為接近冷卻用的吸引排氣管道的吸引排氣口之步驟；接著利用冷卻用的吸引排氣管道的吸引排氣使空氣冷卻片部的空氣冷卻，由該空氣冷卻作用使設置在冷卻板中的傳熱管的一端側冷卻以使冷卻板冷卻的步驟；及可將經由冷卻板冷卻的基板搬出至外部的步驟。
該加熱方法，也可構成為，對基板進行加熱處理的步驟，包括利用氣流成形用吸引排氣管道來進行吸引排氣使氣流可沿著在熱板上方設置成與基板成相向的整流板形成的步驟，冷卻用的吸引排氣管道內的排氣流是和氣流形成用吸引排氣管道內的排氣流形成合流，於該狀況時，也可包括：利用裝置內排氣管道來對由層板使其與基板的移動區域形成區隔，配置有上述冷卻板移動用的驅動機構及交接手段驅動用的驅動機構之底部區域進行排氣的步驟；及上述冷卻用的吸引排氣管道的排氣流，是合流在比上述裝置內排氣管道的上述吸引排氣手段還上游側，再加上在比上述吸引排氣手段還下游側和氣流形成用吸收排氣管道內的排氣流形成合流的步驟。
根據本發明時，因是對熱板加熱處理過的基板進行接收的冷卻板中設有傳熱管，當冷卻板位於靜止位置時利用排氣管道的排氣來對空氣冷卻片部進行冷卻，透過傳熱管使冷卻板冷卻，所以就不需要冷卻液的配管設置，可使冷卻板的驅動機構等裝置內的零件平面配置自由度變大。接著，因是利用吸引排氣的吸引流來對空氣冷卻片部進行冷卻，所以能夠使空氣冷卻用的機構簡化，此外可比送風風扇的空氣冷卻還能夠小型化。
另外，若構成為在處理容器的層板下方側的驅動機構配置空間配置著冷卻用的吸引排氣管道時，就能夠抑制處理容器高度的增加。再加上，若是將冷卻用的吸引排氣管道直接或間接連接於沿著整流板吸引排氣以形成氣流的氣流成形用吸引排氣管道時，就不用另外設置圍繞在處理容器外面的排氣管道。
简体摘要：本发明是具备有热板和加热处理后的基板搬运用的冷却板之加热设备，实现加热设备的简化及小型化。具备有热板和利用驱动机构使其移动在其与搬运机构之间进行基板交接的静止位置和热板上方之间的冷却板之加热设备，将加热设备构成为具备：于冷却板设有传热管，利用驱动机构使其和冷却板同时移动，对上述传热管进行冷却的空气冷却片部；及被设置成当上述冷却板位于静止位置时，空气冷却片部是接近于其吸引排气口，以吸引排气来使该空气冷却片部冷却的吸引排气管道。于静止位置因是利用排气管道使空气冷却片部被空气冷却，透过传热管来使冷却板冷却，所以就不需要冷却液的配管设置，能够使空气冷却用的机构简化因此能够使加热设备小型化。 A Heating device has a heating plate and a cooling plate. The cooling plate moves according to a drive mechanism between a home position in which delivery of a substrate is performed between a conveyance mechanism and the cooling plate and the upper parts of the heating plate. The heating device is constituted the air－cooling fin part which prepares a heat pipe in the cooling plate, moves with the cooling plate according to the drive mechanism, and cools the heat pipe and when the cooling plate is located in the home position, the suction exhaust way prepared so that the air－cooling fin part might be cooled by the suction exhaust, an ait－cooling fin part attends a suction exhaust port. Since the air－cooling fin part is air－cooled by the exhaust way at the home position and the cooling plate is cooled through the heat pipe, leading about of piping of cooling liquid becomes unnecessary, and since an air cooling mechanism is simplified, the heating device can be miniaturized. 【创作特点】本发明是有鉴于上述事由而为的发明，其目的是针对具备有热板和加热处理后的基板搬运用的冷却板之加热设备，提供一种可实现加热设备的简化及小型化的技术。此外，本发明的另一目的是提供一种将该加热设备纳入使用的涂布、显影设备。本发明的加热设备，具备有：设置在处理容器内，对涂有涂布液的基板进行加热处理的热板；及设置在上述处理容器内，利用驱动机构使其移动在于其与搬运机构之间进行基板交接的静止位置和热板上方位置之间，对热板加热后的基板进行冷却的冷却板之加热设备，其特征为，具备有：设置在上述冷却板中传热管；利用上述驱动机构使其和上述冷却板同时移动，可对上述传热管的一端侧进行冷却的空气冷却片部；及设置成当上述冷却板位于静止位置时，空气冷却片部是接近于其吸引排气口，以吸引排气来使该空气冷却片部冷却的冷却用吸引排气管道。上述加热设备，可构成为，上述冷却板的静止位置是位在热板的侧方，处理容器，是具备有层板，该层板可区隔出：基板的移动区域；及配置有上述冷却板移动用驱动机构及交接手段驱动用驱动机构的底部区域，冷却用的吸引排气管道，是配置在上述层板的下方侧。此外也可构成，具备有：在热板上方设置成与基板成相向的整流板；及吸引排气成可使气流沿着该整流板形成的气流成形用吸引排气管道，又上述冷却用的吸引排气管道的基端侧，是合流于上述气流成形用吸引排气管道，或者也可以构成为具备有：在热板上方设置成与基板成相向的整流板；吸引排气成可使气流沿着该整流板形成的气流成形用吸引排气管道；合流于上述气流成形用吸引排气管道的设备内排气管道；及设置在该设备内排气管道，对上述底部区域范围进行排气用的吸引排气管道，此外上述冷却用的吸引排气管道，是连接在比设备内排气管道的上述吸引排气手段还上游侧。另外，于上述冷却板的周缘，也可形成有可使载置着基板的外部搬运臂从该冷却板的上方侧通往下方侧将基板交接在冷却板上，其形状为对应于搬运臂形状的缺口部。再加上，本发明的涂布、显影设备，其具备有：搬入有收纳着基板之载体的载体单元；包含有对从上述载体取出的基板之表面涂布抗蚀剂的涂布部，和可对涂有抗蚀剂的基板进行加热的加热设备，和可对曝光后的基板进行显影的显影处理部之处理单元；及在该处理单元和曝光设备之间进行基板交接的界面部，其特征为，上述加热设备是使用既述的本发明加热设备。本发明的加热方法，其特征为，包括：在热板上对涂有抗蚀剂的基板进行加热处理的步骤；可将加热处理后的基板交接至已经移动到热板上方的冷却板之步骤；其次借由冷却板与空气冷却片部同时从热板的上方位置离开移动至静止位置，使该空气冷却片部的位置成为接近冷却用的吸引排气管道的吸引排气口之步骤；接着利用冷却用的吸引排气管道的吸引排气使空气冷却片部的空气冷却，由该空气冷却作用使设置在冷却板中的传热管的一端侧冷却以使冷却板冷却的步骤；及可将经由冷却板冷却的基板搬出至外部的步骤。该加热方法，也可构成为，对基板进行加热处理的步骤，包括利用气流成形用吸引排气管道来进行吸引排气使气流可沿着在热板上方设置成与基板成相向的整流板形成的步骤，冷却用的吸引排气管道内的排气流是和气流形成用吸引排气管道内的排气流形成合流，于该状况时，也可包括：利用设备内排气管道来对由层板使其与基板的移动区域形成区隔，配置有上述冷却板移动用的驱动机构及交接手段驱动用的驱动机构之底部区域进行排气的步骤；及上述冷却用的吸引排气管道的排气流，是合流在比上述设备内排气管道的上述吸引排气手段还上游侧，再加上在比上述吸引排气手段还下游侧和气流形成用吸收排气管道内的排气流形成合流的步骤。根据本发明时，因是对热板加热处理过的基板进行接收的冷却板中设有传热管，当冷却板位于静止位置时利用排气管道的排气来对空气冷却片部进行冷却，透过传热管使冷却板冷却，所以就不需要冷却液的配管设置，可使冷却板的驱动机构等设备内的零件平面配置自由度变大。接着，因是利用吸引排气的吸引流来对空气冷却片部进行冷却，所以能够使空气冷却用的机构简化，此外可比送风风扇的空气冷却还能够小型化。另外，若构成为在处理容器的层板下方侧的驱动机构配置空间配置着冷却用的吸引排气管道时，就能够抑制处理容器高度的增加。再加上，若是将冷却用的吸引排气管道直接或间接连接于沿着整流板吸引排气以形成气流的气流成形用吸引排气管道时，就不用另外设置围绕在处理容器外面的排气管道。

6. 发明专利

TWI633582B 塗佈、顯像裝置，塗佈、顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：涂布、显像设备，涂布、显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI633582B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW105130635
申请日：2011-07-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：松岡伸明 , MATSUOKA, NOBUAKI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 早川誠 , HAYAKAWA, MAKOTO , 吉田達平 , YOSHIDA, TATSUHEI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/8229

7. 发明专利

TWI587363B 塗佈、顯像裝置及塗佈、顯像方法有权
简体标题：涂布、显像设备及涂布、显像方法
公开(公告)号：TWI587363B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW104122307
申请日：2011-07-15
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：松岡伸明 , MATSUOKA, NOBUAKI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67178 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/67184 , H01L21/67225 , H01L21/6723

8. 发明专利

TWI560799B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI560799B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW104107924
申请日：2011-07-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：松岡伸明 , MATSUOKA, NOBUAKI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/16 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/708 , H01L21/6715

9. 发明专利

TW201338014A 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理系统、基板运送方法及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201338014A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101133757
申请日：2012-09-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：中原田雅弘 , NAKAHARADA, MASAHIRO , 酒田洋司 , SAKATA, YOJI , 宮田亮 , MIYATA, AKIRA , 林伸一 , HAYASHI, SHINICHI , 榎木田卓 , ENOKIDA, SUGURU , 中島常長 , NAKASHIMA, TSUNENAGA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/677 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20
摘要：本發明旨在提供一種基板處理系統，具有於曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板處理之良率。且可減少基板運送之負擔。其中塗布顯影處理系統之介面站5包含：清洗單元100，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；檢驗單元101，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；晶圓運送機構120、130，包含在各單元100、101之間運送基板之臂部；及晶圓運送控制部，控制晶圓運送機構120、130之動作。晶圓運送控制部控制晶圓運送機構120、130，俾若檢驗結果判定晶圓狀態可藉由在清洗單元100再清洗而變得可以曝光，即再次運送該晶圓至清洗單元100。且塗布顯影處理系統之介面站5包含：晶圓清洗部241，在將晶圓送入曝光裝置前至少清洗晶圓背面；晶圓檢驗部242，在將晶圓送入曝光裝置前就清洗後晶圓之背面檢驗該晶圓是否可曝光；及運送機構243，在晶圓清洗部241與晶圓檢驗部242之間運送晶圓W。晶圓清洗部241、晶圓檢驗部242及運送機構243設於框體240內部。
简体摘要：本发明旨在提供一种基板处理系统，具有于曝光前清洗基板背面之功能，可提升基板处理之良率。且可减少基板运送之负担。其中涂布显影处理系统之界面站5包含：清洗单元100，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；检验单元101，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；晶圆运送机构120、130，包含在各单元100、101之间运送基板之臂部；及晶圆运送控制部，控制晶圆运送机构120、130之动作。晶圆运送控制部控制晶圆运送机构120、130，俾若检验结果判定晶圆状态可借由在清洗单元100再清洗而变得可以曝光，即再次运送该晶圆至清洗单元100。且涂布显影处理系统之界面站5包含：晶圆清洗部241，在将晶圆送入曝光设备前至少清洗晶圆背面；晶圆检验部242，在将晶圆送入曝光设备前就清洗后晶圆之背面检验该晶圆是否可曝光；及运送机构243，在晶圆清洗部241与晶圆检验部242之间运送晶圆W。晶圆清洗部241、晶圆检验部242及运送机构243设于框体240内部。

10. 发明专利

TWI364782B 塗布顯影裝置及方法與記憶媒體 COATING-DEVELOPING APPARATUS, METHOD AND STORAGE MEDIUM 有权
简体标题：涂布显影设备及方法与记忆媒体 COATING-DEVELOPING APPARATUS, METHOD AND STORAGE MEDIUM
公开(公告)号：TWI364782B
公开(公告)日：2012-05-21
申请号：TW097109039
申请日：2008-03-14
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：松岡伸明 , 橋本隆浩 , 土屋勝裕 , 林伸一 , 林田安
IPC分类号： H01L , G03F
CPC分类号： H01L21/67745 , H01L21/67178
摘要：本發明提供一種塗布顯影裝置，其能達到所要求的處理量，且裝置的設計或製造比較容易。
依本發明之塗布顯影裝置，係在搬運區塊S1與介面區塊S6之間，以前後互相連接的方式設置相同構造的處理區塊S2~S4，該等處理區塊由複數個單位區塊堆疊所構成，該複數個單位區塊包含塗布膜形成用單位區塊與顯影處理用單位區塊在內。像這樣準備相同構造的處理區塊S2~S4，並藉由增加或減少在搬運區塊S1與介面區塊S6之間排列的處理區塊個數，以調整塗布顯影裝置的處理速度，達到所要求的處理量，並讓裝置的設計或製造比較容易實施。
简体摘要：本发明提供一种涂布显影设备，其能达到所要求的处理量，且设备的设计或制造比较容易。依本发明之涂布显影设备，系在搬运区块S1与界面区块S6之间，以前后互相连接的方式设置相同构造的处理区块S2~S4，该等处理区块由复数个单位区块堆栈所构成，该复数个单位区块包含涂布膜形成用单位区块与显影处理用单位区块在内。像这样准备相同构造的处理区块S2~S4，并借由增加或减少在搬运区块S1与界面区块S6之间排列的处理区块个数，以调整涂布显影设备的处理速度，达到所要求的处理量，并让设备的设计或制造比较容易实施。

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