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1. 发明专利

TWI326805B 塗佈、顯像裝置及其方法 COATING AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING METHOD 有权
简体标题：涂布、显像设备及其方法 COATING AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING METHOD
公开(公告)号：TWI326805B
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW095102331
申请日：2006-01-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳 , 林伸一 , 林田安 , 松岡伸明 , 木村義雄 , 上田一成 , 伊東晃
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719
摘要：藉由疊層設置光阻膜形成用之單位區塊和反射防止膜形成用之單位區塊，在光阻膜之上下形成反射防止膜，以謀求省空間化。再者可以對應於形成反射防止膜之時或不形成反射防止膜之時中之任一者，謀求此時之軟體之簡易化。
在處理區塊S2互相疊層塗佈膜形成用之單位區塊之TCT層B3、COT層B4、BCT層B5和屬於顯像處理用之單位區塊之DEV層B1、B2。即使在形成反射防止膜之時，或不形成反射防止膜之時，亦可以藉由選擇TCT層B3、COT層B4、BCT層B5內所使用之單位區塊，予以對應，可以抑制此時之搬運程式之複雜化，謀求軟體之簡易化。
简体摘要：借由叠层设置光阻膜形成用之单位区块和反射防止膜形成用之单位区块，在光阻膜之上下形成反射防止膜，以谋求省空间化。再者可以对应于形成反射防止膜之时或不形成反射防止膜之时中之任一者，谋求此时之软件之简易化。在处理区块S2互相叠层涂布膜形成用之单位区块之TCT层B3、COT层B4、BCT层B5和属于显像处理用之单位区块之DEV层B1、B2。即使在形成反射防止膜之时，或不形成反射防止膜之时，亦可以借由选择TCT层B3、COT层B4、BCT层B5内所使用之单位区块，予以对应，可以抑制此时之搬运进程之复杂化，谋求软件之简易化。

2. 发明专利

TW514959B 薄膜形成單元失效
简体标题：薄膜形成单元
公开(公告)号：TW514959B
公开(公告)日：2002-12-21
申请号：TW089126923
申请日：2000-12-15
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：北野高廣 , 森川祐晃 , 江崎幸彥 , 石信和 , 古閑法久 , 竹下和宏 , 大隈博文 , 飽本正巳
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6715
摘要：本發明係一種薄膜形成單元，係由吐出噴嘴供給塗敷液至基板上，並在該基板上形成薄膜，包含有：移動裝置，係用以移動前述吐出噴嘴；而前述移動裝置更包含有：支撐構件，係用以支撐前述吐出噴嘴；移動構件，係用以移動前述支撐構件；導引軸，係用以通過形成於前述支撐構件之軸承部；與，氣體供給機構，係用以在前述軸承部與前述導引軸之間隙供給氣體。
吐出噴嘴係邊沿著導引軸移動邊吐出塗敷液。在基板上，沿著吐出噴嘴之移動軌跡進行塗敷液之塗敷。在軸承部與導引軸之間隙，由於由氣體供給機構供給氣體，所以對於導引軸可以使支撐構件形成中空浮上之狀態。從而，由於軸承部與導引軸沒有機械的接觸，所以幾乎不會發生滑動抵抗。其結果，即使以高速移動吐出噴嘴，亦可以藉滑動抵抗抑制震動，藉吐出噴嘴之微動塗敷液吐出不會散亂，可以正確的進行一定之塗敷液之塗敷。
简体摘要：本发明系一种薄膜形成单元，系由吐出喷嘴供给涂敷液至基板上，并在该基板上形成薄膜，包含有：移动设备，系用以移动前述吐出喷嘴；而前述移动设备更包含有：支撑构件，系用以支撑前述吐出喷嘴；移动构件，系用以移动前述支撑构件；导引轴，系用以通过形成于前述支撑构件之轴承部；与，气体供给机构，系用以在前述轴承部与前述导引轴之间隙供给气体。吐出喷嘴系边沿着导引轴移动边吐出涂敷液。在基板上，沿着吐出喷嘴之移动轨迹进行涂敷液之涂敷。在轴承部与导引轴之间隙，由于由气体供给机构供给气体，所以对于导引轴可以使支撑构件形成中空浮上之状态。从而，由于轴承部与导引轴没有机械的接触，所以几乎不会发生滑动抵抗。其结果，即使以高速移动吐出喷嘴，亦可以藉滑动抵抗抑制震动，藉吐出喷嘴之微动涂敷液吐出不会散乱，可以正确的进行一定之涂敷液之涂敷。

3. 发明专利

TWI362068B 液處理裝置有权
简体标题：液处理设备
公开(公告)号：TWI362068B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：TW096113508
申请日：2007-04-17
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：金子聰 , 松本和久 , 伊藤規宏 , 飽本正巳 , 戶島孝之 , 難波宏光
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/68728 , Y10S134/902
摘要：本發明之液處理裝置的特徵係具備：基板保持部，其係將基板保持於水平，且可與基板一起旋轉；旋轉杯，其係圍繞被保持於上述基板保持部的基板，且可與基板一起旋轉；旋轉機構，其係使上述旋轉杯及上述基板保持部一體旋轉；液供給機構，其係至少對基板的表面供給處理液；排氣．排液部，其係從上述旋轉杯排氣及排液至外部；及引導構件，其係以表面能夠和基板表面大致連續的方式來設置於基板的外側，與上述基板保持部及上述旋轉杯一起旋轉，使供給至基板表面而從基板甩掉的處理液經由其表面來從上述旋轉杯引導至上述排氣．排液部。
简体摘要：本发明之液处理设备的特征系具备：基板保持部，其系将基板保持于水平，且可与基板一起旋转；旋转杯，其系围绕被保持于上述基板保持部的基板，且可与基板一起旋转；旋转机构，其系使上述旋转杯及上述基板保持部一体旋转；液供给机构，其系至少对基板的表面供给处理液；排气．排液部，其系从上述旋转杯排气及排液至外部；及引导构件，其系以表面能够和基板表面大致连续的方式来设置于基板的外侧，与上述基板保持部及上述旋转杯一起旋转，使供给至基板表面而从基板甩掉的处理液经由其表面来从上述旋转杯引导至上述排气．排液部。

4. 发明专利

TW454229B 膜形成方法及膜形成裝置有权
简体标题：膜形成方法及膜形成设备
公开(公告)号：TW454229B
公开(公告)日：2001-09-11
申请号：TW089106448
申请日：2000-04-07
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：北野高廣 , 飽本正巳 , 南朋秀 , 森川祐晃
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03D5/00
摘要：本發明係提供一種膜形成方法及膜形成裝置，使晶圓旋轉，且使對晶圓吐出光阻劑之光阻劑吐出噴嘴，沿著晶圓之徑方向等速移動。在該移動之間，從光阻劑吐出噴嘴吐出之光阻劑的量，逐漸減少。吐出在晶圓上之光阻劑，以描繪螺旋狀軌跡之方式，塗佈在晶圓之表面，且對晶圓之周邊部與中央部之每單位面積的光阻劑塗佈量，可形成等量。因此，不會浪費供給至基板上之處理液，且可在基板上，形成均一之處理液膜。
简体摘要：本发明系提供一种膜形成方法及膜形成设备，使晶圆旋转，且使对晶圆吐出光阻剂之光阻剂吐出喷嘴，沿着晶圆之径方向等速移动。在该移动之间，从光阻剂吐出喷嘴吐出之光阻剂的量，逐渐减少。吐出在晶圆上之光阻剂，以描绘螺旋状轨迹之方式，涂布在晶圆之表面，且对晶圆之周边部与中央部之每单位面积的光阻剂涂布量，可形成等量。因此，不会浪费供给至基板上之处理液，且可在基板上，形成均一之处理液膜。

5. 发明专利

TW451274B 基板處理裝置(二) 有权
简体标题：基板处理设备(二)
公开(公告)号：TW451274B
公开(公告)日：2001-08-21
申请号：TW089111155
申请日：2000-06-08
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67109 , Y10S414/135
摘要：於加熱處理裝置和抗蝕劑塗布處理裝置、顯像處理裝置之間配置有將晶圓冷卻至預定溫度為止之冷卻處理裝置。在冷卻處理裝置之上，預冷卻裝置被設置成多段。在加熱處理裝置的加熱處理一完成之後，晶圓立即被以第l搬送裝置先搬送到預冷卻裝置。之後，晶圓被以第3搬送裝置搬送到冷卻裝置，被冷卻達到預定溫度之後，再以第2搬送裝置而被搬送到抗蝕劑塗布裝置。藉此，可以防止基板之過度烘烤。
简体摘要：于加热处理设备和抗蚀剂涂布处理设备、显像处理设备之间配置有将晶圆冷却至预定温度为止之冷却处理设备。在冷却处理设备之上，预冷却设备被设置成多段。在加热处理设备的加热处理一完成之后，晶圆立即被以第l搬送设备先搬送到预冷却设备。之后，晶圆被以第3搬送设备搬送到冷却设备，被冷却达到预定温度之后，再以第2搬送设备而被搬送到抗蚀剂涂布设备。借此，可以防止基板之过度烘烤。

6. 发明专利

TWI367397B 塗佈顯像裝置及其方法有权
简体标题：涂布显像设备及其方法
公开(公告)号：TWI367397B
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW095102330
申请日：2006-01-20
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳 , 林伸一 , 林田安 , 松岡伸明 , 木村義雄 , 上田一成 , 伊東晃
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/67184 , H01L21/00 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719
摘要：本發明的課題是藉由層疊設置光阻劑膜形成用的單位區塊、及反射防止膜形成用的單位區塊，在光阻劑膜的上下形成反射防止膜時，可謀求省空間化。並且，皆可對應於形成反射防止膜時或不形成時，謀求此刻的軟體簡易化。
其解決手段是在處理區塊S2互相層疊設置塗佈膜形成用的單位區塊之TCT層B3、COT層B4、BCT層B5、及顯像處理用的單位區塊之DEV層B1，B2。在形成反射防止膜時或不形成時，皆可藉由選擇TCT層B3、COT層B4、BCT層B5內使用的單位區塊來對應，抑止此刻的搬送程式的複雜化，而能夠謀求軟體的簡易化。
简体摘要：本发明的课题是借由层叠设置光阻剂膜形成用的单位区块、及反射防止膜形成用的单位区块，在光阻剂膜的上下形成反射防止膜时，可谋求省空间化。并且，皆可对应于形成反射防止膜时或不形成时，谋求此刻的软件简易化。其解决手段是在处理区块S2互相层叠设置涂布膜形成用的单位区块之TCT层B3、COT层B4、BCT层B5、及显像处理用的单位区块之DEV层B1，B2。在形成反射防止膜时或不形成时，皆可借由选择TCT层B3、COT层B4、BCT层B5内使用的单位区块来对应，抑止此刻的搬送进程的复杂化，而能够谋求软件的简易化。

7. 发明专利

TWI353632B 液處理裝置有权
简体标题：液处理设备
公开(公告)号：TWI353632B
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW096113507
申请日：2007-04-17
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：飽本正巳 , 戶島孝之 , 金子聰 , 松本和久 , 伊藤規宏 , 難波宏光
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/68728
摘要：本發明之液處理裝置的特徵係具備：基板保持部，其係將基板保持於水平，且可與基板一起旋轉；旋轉杯，其係圍繞被保持於基板保持部的基板，且可與基板一起旋轉；旋轉機構，其係使旋轉杯及基板保持部一體旋轉；液供給機構，其係對基板供給處理液；及排氣．排液部，其係進行旋轉杯的排氣及排液；又，排氣．排液部係具有排液杯，其係主要取入從基板甩掉的處理液而排液，呈環狀；及排氣杯，其係設成在排液杯的外側圍繞排液杯，主要從旋轉杯及其周圍取入氣體成份而排氣；且，來自排液杯的排液及來自排氣杯的排氣係分別獨立進行。
简体摘要：本发明之液处理设备的特征系具备：基板保持部，其系将基板保持于水平，且可与基板一起旋转；旋转杯，其系围绕被保持于基板保持部的基板，且可与基板一起旋转；旋转机构，其系使旋转杯及基板保持部一体旋转；液供给机构，其系对基板供给处理液；及排气．排液部，其系进行旋转杯的排气及排液；又，排气．排液部系具有排液杯，其系主要取入从基板甩掉的处理液而排液，呈环状；及排气杯，其系设成在排液杯的外侧围绕排液杯，主要从旋转杯及其周围取入气体成份而排气；且，来自排液杯的排液及来自排气杯的排气系分别独立进行。

8. 发明专利

TW200301172A 膜除去裝置、膜除去方法及基板處理系統失效
简体标题：膜除去设备、膜除去方法及基板处理系统
公开(公告)号：TW200301172A
公开(公告)日：2003-07-01
申请号：TW091136003
申请日：2002-12-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：寺田正一 , 吉高直人 , 飽本正巳
IPC分类号： B23K , H01L
CPC分类号： B23K26/0853 , B08B7/0042 , B23K26/146 , B23K26/147 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/6708 , H01L21/67259 , H01L21/681 , H01L21/6838 , H01L23/544 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：膜除去裝置具備：基板保持部(60)，用於保持具有塗敷膜的基板，雷射光源(63)，對該基板保持部上之基板之對準標誌(alignment mark)位置(14)的局部照射雷射光束，俾使塗敷膜之一部分由基板剝離，流體供應機構(113~116,201,202)，具有對準標誌位置供應特定流體的主噴嘴(64,172,200)，回收機構(90)，具有吸入口(66a,171,193)俾在基板上吸入供應至對準標誌位置之特定流體與剝離之膜成分，以及引導構件(65,170,191)，除了將主噴嘴噴出之特定流體引導至對準標誌位置之外，還引導至回收機構的吸入口俾使特定之液體與剝離之膜成分不至於擴散或洩漏到對準標誌位置之周圍。
简体摘要：膜除去设备具备：基板保持部(60)，用于保持具有涂敷膜的基板，激光光源(63)，对该基板保持部上之基板之对准标志(alignment mark)位置(14)的局部照射激光光束，俾使涂敷膜之一部分由基板剥离，流体供应机构(113~116,201,202)，具有对准标志位置供应特定流体的主喷嘴(64,172,200)，回收机构(90)，具有吸入口(66a,171,193)俾在基板上吸入供应至对准标志位置之特定流体与剥离之膜成分，以及引导构件(65,170,191)，除了将主喷嘴喷出之特定流体引导至对准标志位置之外，还引导至回收机构的吸入口俾使特定之液体与剥离之膜成分不至于扩散或泄漏到对准标志位置之周围。

9. 发明专利

TW509987B 塗佈膜形成裝置及塗佈單元有权
简体标题：涂布膜形成设备及涂布单元
公开(公告)号：TW509987B
公开(公告)日：2002-11-11
申请号：TW089126783
申请日：2000-12-14
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：北野高廣 , 森川祐晃 , 江崎幸彥 , 石信和 , 古閑法久 , 竹下和宏 , 大隈博文 , 飽本正巳
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/162 , Y10S134/902
摘要：在基板上塗佈塗佈液以形成塗佈膜之塗佈膜形成裝置具備基板卡匣載置部，塗佈單元，顯影單元，預處理/後處理單元及在各單元間搬運基板之主搬運機構。為了一筆帶過地在基板上塗佈抗蝕液，在塗佈單元內設置塗佈部俾將基板間歇地移動於Y方向，且將塗佈液噴嘴移動於X方向。在塗佈單元內又設置減壓乾燥部俾將塗佈後之基板於減壓下乾燥之，更於塗佈單元內設置用於去除附著於基板周緣部之塗佈膜之裝置。如減壓乾燥部位於塗佈單元之外側時，則以套體覆蓋主搬運機構之臂，使其中成為溶劑氣氛。
简体摘要：在基板上涂布涂布液以形成涂布膜之涂布膜形成设备具备基板卡匣载置部，涂布单元，显影单元，预处理/后处理单元及在各单元间搬运基板之主搬运机构。为了一笔带过地在基板上涂布抗蚀液，在涂布单元内设置涂布部俾将基板间歇地移动于Y方向，且将涂布液喷嘴移动于X方向。在涂布单元内又设置减压干燥部俾将涂布后之基板于减压下干燥之，更于涂布单元内设置用于去除附着于基板周缘部之涂布膜之设备。如减压干燥部位于涂布单元之外侧时，则以套体覆盖主搬运机构之臂，使其中成为溶剂气氛。

10. 发明专利

TW475212B 塗膜形成裝置失效
简体标题：涂膜形成设备
公开(公告)号：TW475212B
公开(公告)日：2002-02-01
申请号：TW089126784
申请日：2000-12-14
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：北野高廣 , 森川祐晃 , 江崎幸彥 , 石信和 , 古閑法久 , 竹下和宏 , 大隈博文 , 飽本正巳
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B12/20 , B05B13/041 , B05C5/0212 , B05C5/0216 , B05C5/0291 , B05C11/1039
摘要：本發明之裝置，係具有：保持基板之基板保持部、與和保持於此基板保持部之基板成對向裝設，對於該基板排出塗佈液之塗佈液噴嘴、與從此塗佈液噴嘴將塗佈液邊排出於基板表面將上述塗佈液噴嘴沿著基板表面相對性地移動之驅動機構、與覆蓋上述基板之塗膜形成領域以外之部分，具有來自從塗佈液噴嘴之塗佈液之遮屏構件(mask member)之遮屏單元(mask unit)、與設於此遮屏單元之洗淨機構。藉此以一筆劃之要領對於基板表面可供給塗佈液，又，不必設欲洗淨遮屏構件所需之個別洗淨裝置，洗淨變成容易，並且，可節省空間。
简体摘要：本发明之设备，系具有：保持基板之基板保持部、与和保持于此基板保持部之基板成对向装设，对于该基板排出涂布液之涂布液喷嘴、与从此涂布液喷嘴将涂布液边排出于基板表面将上述涂布液喷嘴沿着基板表面相对性地移动之驱动机构、与覆盖上述基板之涂膜形成领域以外之部分，具有来自从涂布液喷嘴之涂布液之遮屏构件(mask member)之遮屏单元(mask unit)、与设于此遮屏单元之洗净机构。借此以一笔划之要领对于基板表面可供给涂布液，又，不必设欲洗净遮屏构件所需之个别洗净设备，洗净变成容易，并且，可节省空间。

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