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1. 发明专利

TW201947324A 感能量性組成物、硬化物，及圖型形成方法审中-公开
简体标题：感能量性组成物、硬化物，及图型形成方法
公开(公告)号：TW201947324A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108114281
申请日：2019-04-24
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/027
摘要：本發明之課題在於提供一種硬化性優異之感能量性組成物、該組成物之硬化物，及圖型形成方法。其解決手段為一種感能量性組成物，其係包含選自由能形成聚矽烷化合物之矽烷化合物單體、矽烷化合物寡聚物及聚矽烷化合物所成群之至少1種之矽烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之鹼產生劑(B)。 (上述式中，R1~R11係各自獨立表示氫原子、鹵素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6係可隔著單鍵或2價連結基而互相連結，Zq+表示由pKa 24以上之鹼所構成之q價之相對陽離子，q表示1以上之整數。)
简体摘要：本发明之课题在于提供一种硬化性优异之感能量性组成物、该组成物之硬化物，及图型形成方法。其解决手段为一种感能量性组成物，其系包含选自由能形成聚硅烷化合物之硅烷化合物单体、硅烷化合物寡聚物及聚硅烷化合物所成群之至少1种之硅烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之碱产生剂(B)。 (上述式中，R1~R11系各自独立表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6系可隔着单键或2价链接基而互相链接，Zq+表示由pKa 24以上之碱所构成之q价之相对阳离子，q表示1以上之整数。)

2. 发明专利

TW201947321A 光反應性組成物、反應產物及反應產物的製造方法审中-公开
简体标题：光反应性组成物、反应产物及反应产物的制造方法
公开(公告)号：TW201947321A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108115726
申请日：2019-05-07
申请人：學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： G03F7/027
摘要：本發明提供一種光反應性組成物，其含有：鹼反應性化合物；由下述通式(1)表示的光鹼產生劑，其會因照光而產生鹼；及，從由下述多環芳香族化合物所組成之群組中選出的至少1種化合物，此等多環芳香族化合物是具有2環以上的縮合環結構之多環芳香族化合物、及具有3個以上的芳香環且具有包含前述3個以上的芳香環之中的2個以上的芳香環的共軛結構之多環芳香族化合物；並且，前述鹼反應性化合物是1分子中具有2個以上的會因鹼的作用而極性轉換而顯示反應性的基之化合物、或1分子中具有2個以上的會因鹼的作用而進行反應的基之化合物：
简体摘要：本发明提供一种光反应性组成物，其含有：碱反应性化合物；由下述通式(1)表示的光碱产生剂，其会因照光而产生碱；及，从由下述多环芳香族化合物所组成之群组中选出的至少1种化合物，此等多环芳香族化合物是具有2环以上的缩合环结构之多环芳香族化合物、及具有3个以上的芳香环且具有包含前述3个以上的芳香环之中的2个以上的芳香环的共轭结构之多环芳香族化合物；并且，前述碱反应性化合物是1分子中具有2个以上的会因碱的作用而极性转换而显示反应性的基之化合物、或1分子中具有2个以上的会因碱的作用而进行反应的基之化合物：

3. 发明专利

TWI622576B 鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法有权
简体标题：碱产生剂、含有该碱产生剂的碱反应性组成物及碱产生方法
公开(公告)号：TWI622576B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW103122232
申请日：2014-06-27
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彥 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07C279/26 , C08F2/46 , C08K5/31 , C08J3/28 , G03F7/031 , H01L21/027

4. 发明专利

TW201619978A 導電膜及導電圖型之製造方法审中-公开
简体标题：导电膜及导电图型之制造方法
公开(公告)号：TW201619978A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104129047
申请日：2015-09-02
申请人：學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION , 日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：有光晃二 , ARIMITSU, KOJI , 若林誠 , WAKABAYASHI, MAKOTO
IPC分类号： H01B1/12 , H01B1/22 , H01B13/00 , H01B5/14 , H01L51/50 , H05B33/10 , H05B33/28
CPC分类号： H01B1/127 , C03C17/28 , G03F7/0045 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/343 , H01B5/14 , H01B13/003 , H01B13/0036 , H01L51/0023
摘要：本發明的導電圖型(40)之製造方法具備：將含有酸增殖劑、及光酸產生劑的酸產生膜(10)層合在形成於基板(21)上之含有導電性高分子之高分子膜(20)上，而得到層合體之層合步驟；將酸產生膜(10)上遮蔽之遮蔽步驟；由層合體之酸產生膜(10)側照光之照光步驟；及藉由因為照光而在酸產生膜(10)中產生．增殖的酸，將導電性高分子摻雜之摻雜步驟；將酸產生膜(10)由高分子膜(20)剝離之剝離步驟。藉由此方法，可提供一種利用光酸產生及酸增殖作用之導電膜及導電圖型之製造方法。
简体摘要：本发明的导电图型(40)之制造方法具备：将含有酸增殖剂、及光酸产生剂的酸产生膜(10)层合在形成于基板(21)上之含有导电性高分子之高分子膜(20)上，而得到层合体之层合步骤；将酸产生膜(10)上屏蔽之屏蔽步骤；由层合体之酸产生膜(10)侧照光之照光步骤；及借由因为照光而在酸产生膜(10)中产生．增殖的酸，将导电性高分子掺杂之掺杂步骤；将酸产生膜(10)由高分子膜(20)剥离之剥离步骤。借由此方法，可提供一种利用光酸产生及酸增殖作用之导电膜及导电图型之制造方法。

5. 发明专利

TW201741283A 新穎化合物、含有該化合物而成之光聚合引發劑及含有該光聚合引發劑之感光性樹脂組合物审中-公开
简体标题：新颖化合物、含有该化合物而成之光聚合引发剂及含有该光聚合引发剂之感光性树脂组合物
公开(公告)号：TW201741283A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105140626
申请日：2016-12-08
申请人：日本化藥股份有限公司 , NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：寺田究 , TERADA, KIWAMU , 山本和義 , YAMAMOTO, KAZUYOSHI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07C271/24 , C08F2/50
摘要：本發明提供可藉由照射活性能量線而產生鹼與自由基之新穎化合物、含有該新穎化合物而成之光聚合引發劑及含有該光聚合引發劑、高感度且保存穩定性優異、且可獲得並無金屬腐蝕性之硬化物的感光性樹脂組合物，該新穎化合物係下述式(1)所表示之化合物：(式(1)中，R1至R6分別獨立地表示氫原子、羥基、烷氧基或上述取代基以外之有機基等。X表示自含有環結構之飽和烴除去n個氫原子後之殘基。n表示1至6之整數)。
简体摘要：本发明提供可借由照射活性能量线而产生碱与自由基之新颖化合物、含有该新颖化合物而成之光聚合引发剂及含有该光聚合引发剂、高感度且保存稳定性优异、且可获得并无金属腐蚀性之硬化物的感光性树脂组合物，该新颖化合物系下述式(1)所表示之化合物：(式(1)中，R1至R6分别独立地表示氢原子、羟基、烷氧基或上述取代基以外之有机基等。X表示自含有环结构之饱和烃除去n个氢原子后之残基。n表示1至6之整数)。

6. 发明专利

TW201512159A 鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法审中-公开
简体标题：碱产生剂、含有该碱产生剂的碱反应性组成物及碱产生方法
公开(公告)号：TW201512159A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103122232
申请日：2014-06-27
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彥 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07C279/26 , C08F2/46 , C08K5/31 , C08J3/28 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC分类号： C07C279/26 , B01J19/123 , B01J19/127 , B01J19/128 , C07C59/84 , C07C65/28 , C07C2601/14 , C07C2603/24 , C07D209/48 , C07D311/86 , G03F7/0045
摘要：本發明之課題係提供：一種產生強鹼之鹼產生劑，該鹼產生劑係對於被廣泛使用的有機溶劑之溶解性高，能夠使其直接溶解在環氧系化合物等的鹼反應性化合物中，而且具備高耐熱性及低親核性之兩者的性能；含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物之鹼反應性組成物；以及鹼產生方法。本發明係有關於一種以通式(A)表示之化合物、含有該化合物而成之鹼產生劑、鹼反應性組成物及鹼產生方法等，其中該鹼反應性組成物之特徵在於：含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物， (式中，R1至R5係各自獨立地表示氫原子、烷基、亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6係表示氫原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7係表示氫原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-係表示源自特定構造的羧酸之陰離子)。
简体摘要：本发明之课题系提供：一种产生强碱之碱产生剂，该碱产生剂系对于被广泛使用的有机溶剂之溶解性高，能够使其直接溶解在环氧系化合物等的碱反应性化合物中，而且具备高耐热性及低亲核性之两者的性能；含有该碱产生剂及碱反应性化合物之碱反应性组成物；以及碱产生方法。本发明系有关于一种以通式(A)表示之化合物、含有该化合物而成之碱产生剂、碱反应性组成物及碱产生方法等，其中该碱反应性组成物之特征在于：含有该碱产生剂及碱反应性化合物， (式中，R1至R5系各自独立地表示氢原子、烷基、亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6系表示氢原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7系表示氢原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-系表示源自特定构造的羧酸之阴离子)。

7. 发明专利

TW201400463A 陰離子硬化性化合物用硬化劑、硬化性組成物、硬化物及新穎咪唑系化合物及其用途审中-公开
简体标题：阴离子硬化性化合物用硬化剂、硬化性组成物、硬化物及新颖咪唑系化合物及其用途
公开(公告)号：TW201400463A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102116795
申请日：2013-05-10
申请人：日本合成化學工業股份有限公司 , THE NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：工藤健二 , KUDO, KENJI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07D233/60 , C08G59/40
CPC分类号： C07D231/12 , C08G59/5073 , C08L63/00 , Y02P20/55
摘要：本發明係關於一種陰離子硬化性化合物用硬化劑，其係由咪唑系化合物所構成，且該咪唑系化合物之咪唑骨架編號1的位置受於50℃以上之溫度條件下可脫離之保護基A所保護；並係關於一種含有該硬化劑與陰離子硬化性化合物之硬化性組成物，及一種使該組成物硬化而形成之硬化物；再者，係關於該新穎咪唑系化合物及其用途。本發明提供一種新穎咪唑系硬化劑，該硬化劑作為一液型硬化劑使用時，亦具有優異之保存穩定性及良好硬化性，而且使用簡便。作為該咪唑系化合物，可舉例如以下之通式(1)所示之咪唑系化合物。 A係於50℃以上之溫度條件下可脫離之保護基。R1~R3係各自獨立而為氫原子、碳數1~15之烷基、或苯基。
简体摘要：本发明系关于一种阴离子硬化性化合物用硬化剂，其系由咪唑系化合物所构成，且该咪唑系化合物之咪唑骨架编号1的位置受于50℃以上之温度条件下可脱离之保护基A所保护；并系关于一种含有该硬化剂与阴离子硬化性化合物之硬化性组成物，及一种使该组成物硬化而形成之硬化物；再者，系关于该新颖咪唑系化合物及其用途。本发明提供一种新颖咪唑系硬化剂，该硬化剂作为一液型硬化剂使用时，亦具有优异之保存稳定性及良好硬化性，而且使用简便。作为该咪唑系化合物，可举例如以下之通式(1)所示之咪唑系化合物。 A系于50℃以上之温度条件下可脱离之保护基。R1~R3系各自独立而为氢原子、碳数1~15之烷基、或苯基。

8. 发明专利

TW201446750A 硫雜蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物审中-公开
简体标题：硫杂蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物
公开(公告)号：TW201446750A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103116850
申请日：2014-05-13
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07D335/16 , G03F7/004
CPC分类号： C07D335/12 , G03F7/0382
摘要：本發明之課題係提供一種可使用於環氧系化合物等之交聯反應中，可藉鹼之存在下產生新的鹼，且對有機溶劑之溶解性高，進而由於耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故含於鹼反應性化合物時，能有效地進行鹼增殖反應之鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物。本發明之鹼增殖劑之感度高，可藉由鹼之作用分解而連鎖地產生鹼，且，由於具有雜環(heterocyclic ring)故藉由改變雜原子之氧化數而可隨意地控制鹼增殖反應速度，成為可連鎖地產生鹼之鹼增殖劑。此外，與對有機溶劑之溶解性良好、且與鹼反應性化合物之相溶性高，進而耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故本發明之鹼增殖劑共存於與鹼反應之環氧系化合物等之鹼反應性化合物時，因增殖產生之鹼可使鹼反應性化合物效率良好地硬化。
简体摘要：本发明之课题系提供一种可使用于环氧系化合物等之交联反应中，可藉碱之存在下产生新的碱，且对有机溶剂之溶解性高，进而由于耐热性比以往之碱增殖剂高，故含于碱反应性化合物时，能有效地进行碱增殖反应之碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物。本发明之碱增殖剂之感度高，可借由碱之作用分解而连锁地产生碱，且，由于具有杂环(heterocyclic ring)故借由改变杂原子之氧化数而可随意地控制碱增殖反应速度，成为可连锁地产生碱之碱增殖剂。此外，与对有机溶剂之溶解性良好、且与碱反应性化合物之相溶性高，进而耐热性比以往之碱增殖剂高，故本发明之碱增殖剂共存于与碱反应之环氧系化合物等之碱反应性化合物时，因增殖产生之碱可使碱反应性化合物效率良好地硬化。

9. 发明专利

TWI663474B 感光性樹脂組合物及其硬化物有权
简体标题：感光性树脂组合物及其硬化物
公开(公告)号：TWI663474B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW104132271
申请日：2015-09-30
申请人：學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION , 日商日本化藥股份有限公司 , NIPPONKAYAKU KABUSHIKI KAISHA
发明人：有光晃二 , ARIMITSU, KOJI , 寺田究 , TERADA, KIWAMU
IPC分类号： G03F7/004 , C07C271/24 , C07D401/06 , C08G59/18 , G03F7/038 , G03F7/26 , H01L21/027

10. 发明专利

TW201741350A 光硬化方法，及用於該光硬化方法之化合物和組成物审中-公开
简体标题：光硬化方法，及用于该光硬化方法之化合物和组成物
公开(公告)号：TW201741350A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106102623
申请日：2017-01-24
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C08F2/50 , C07D311/86 , C07C59/84 , C07D335/16 , C07C279/26 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/031
CPC分类号： C07C59/84 , C07D311/86 , C07D335/16 , C08F2/50 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/004
摘要：本發明的課題是提供迅速並且有效率地得到交聯物(樹脂)的光硬化方法，及於該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物之光硬化性樹脂組成物。本發明是有關在進行第1步驟之後進行第2步驟的光硬化方法、在該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物的光硬化性樹脂組成物。第1步驟：在(A)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑與(C)水於酸性條件下反應，而得到(D)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基及至少1個矽醇基之矽烷化合物的步驟。第2步驟：在上述化合物(A)以及(E)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸產生鹼基的基之化合物存在下，藉由將光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，並且從上述化合物(E)產生鹼基，使反應系統內變成鹼性條件，並且藉由自上述化合物(A)與上述化合物(E)產生自由基，從上述矽烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2個以上的聚合性不飽和基之化合物，產生含有源自上述矽烷化合物(D)的結構單元之交聯物的步驟。
简体摘要：本发明的课题是提供迅速并且有效率地得到交联物(树脂)的光硬化方法，及于该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物之光硬化性树脂组成物。本发明是有关在进行第1步骤之后进行第2步骤的光硬化方法、在该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物的光硬化性树脂组成物。第1步骤：在(A)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基之硅烷偶合剂与(C)水于酸性条件下反应，而得到(D)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基及至少1个硅醇基之硅烷化合物的步骤。第2步骤：在上述化合物(A)以及(E)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸产生碱基的基之化合物存在下，借由将光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，并且从上述化合物(E)产生碱基，使反应系统内变成碱性条件，并且借由自上述化合物(A)与上述化合物(E)产生自由基，从上述硅烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2个以上的聚合性不饱和基之化合物，产生含有源自上述硅烷化合物(D)的结构单元之交联物的步骤。

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