专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201740920A 共聚物、含有該共聚物之增黏劑及調配有該共聚物之化妝料审中-公开
简体标题：共聚物、含有该共聚物之增黏剂及调配有该共聚物之化妆料
公开(公告)号：TW201740920A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106111076
申请日：2017-03-31
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：松浦敏 , MATSUURA, TAKATOSHI , 森康嘉 , MORI, YASUYOSHI , 蔵本絢子 , KURAMOTO, AYAKO
IPC分类号： A61K8/81 , C08F220/24 , C08F220/56
CPC分类号： A61K8/81 , A61Q19/00 , C08F216/14 , C08F220/22 , C08F220/26 , C08F220/54 , C08F230/02 , C08L33/16 , C09K3/00
摘要：本發明之目的在於提供一種在電解質的存在下，尤其在多價電解質的存在下可形成具有所求黏度之黏稠水溶液之共聚物，含有該共聚物之增黏劑，及調配有該共聚物之化妝料。本發明係關於丙烯酸酯(A)/化合物(B)共聚物、含有該共聚物之增黏劑，以及調配有該共聚物之化妝料，其中該丙烯酸酯(A)/化合物(B)共聚物係以(A)通式[1]所示丙烯酸酯、以及(B)分子內具有聚合性不飽和基及由羧基、磺基及磷酸基所成群組中選擇的任一官能基之化合物作為構成成分，且上述丙烯酸酯(A)與上述化合物(B)之比例(重量比)為(A)/(B)=9.0/91.0~28.5/71.5。通式[1]： (式中，R1表示氫原子或碳數1~6之烷基，m表示2~4之整數。)
简体摘要：本发明之目的在于提供一种在电解质的存在下，尤其在多价电解质的存在下可形成具有所求黏度之黏稠水溶液之共聚物，含有该共聚物之增黏剂，及调配有该共聚物之化妆料。本发明系关于丙烯酸酯(A)/化合物(B)共聚物、含有该共聚物之增黏剂，以及调配有该共聚物之化妆料，其中该丙烯酸酯(A)/化合物(B)共聚物系以(A)通式[1]所示丙烯酸酯、以及(B)分子内具有聚合性不饱和基及由羧基、磺基及磷酸基所成群组中选择的任一官能基之化合物作为构成成分，且上述丙烯酸酯(A)与上述化合物(B)之比例(重量比)为(A)/(B)=9.0/91.0~28.5/71.5。通式[1]： (式中，R1表示氢原子或碳数1~6之烷基，m表示2~4之整数。)

2. 发明专利

TWI558686B 液晶定向劑有权
简体标题：液晶定向剂
公开(公告)号：TWI558686B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW102100866
申请日：2013-01-10
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：古崎敦史 , KOZAKI, ATSUSHI , 佐藤道彥 , SATO, MICHIHIKO
IPC分类号： C07C211/50 , C08G73/10 , G02F1/1337
CPC分类号： C09K19/56 , C07J9/00 , C07J41/0055 , C07J71/0005 , C08G73/10 , C08G73/1042 , C08G73/1075 , C08G73/1078 , C09D179/08 , G02F1/133723 , H05K3/287

3. 发明专利

TW201621319A ＣＫ-ＭＢ的測定方法以及ＣＫ-ＭＢ測定用套組审中-公开
简体标题：ＣＫ-ＭＢ的测定方法以及ＣＫ-ＭＢ测定用套组
公开(公告)号：TW201621319A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104113135
申请日：2015-04-24
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：花井一馬 , HANAI, KAZUMA , 小田垣真一 , ODAGAKI, SHINICHI , 増田勤 , MASUDA, TSUTOMU
IPC分类号： G01N33/573 , G01N33/544 , C12Q1/50
CPC分类号： G01N33/573 , G01N21/82 , G01N33/543 , G01N33/545 , G01N2333/9123
摘要：本發明的課題在於提供規避CK-BB的影響、特異地測定CK-MB的方法。即，本發明是有關於「一種測定試樣中的CK-MB的方法，其包含下述步驟：使試樣、對於CK-MB的第1抗體、對於與第1抗體所識別的表位不同的CK-MB的第2抗體、識別肌酸激酶的B次單元的胺基酸序列的自N末端起第1~100個胺基酸的區域的抗CK-B抗體反應的步驟(步驟1)、測定由該反應產生的光學變化的步驟(步驟2)、基於步驟2中所得的結果，求出該試樣中的CK-MB的量的步驟(步驟3)；及一種其中所使用的套組；以及一種規避CK-MB測定中的CK-BB的影響的方法，其特徵在於藉由該抗CK-B抗體對試樣進行處理」。
简体摘要：本发明的课题在于提供规避CK-BB的影响、特异地测定CK-MB的方法。即，本发明是有关于“一种测定试样中的CK-MB的方法，其包含下述步骤：使试样、对于CK-MB的第1抗体、对于与第1抗体所识别的表位不同的CK-MB的第2抗体、识别肌酸激酶的B次单元的氨基酸串行的自N末端起第1~100个氨基酸的区域的抗CK-B抗体反应的步骤(步骤1)、测定由该反应产生的光学变化的步骤(步骤2)、基于步骤2中所得的结果，求出该试样中的CK-MB的量的步骤(步骤3)；及一种其中所使用的套组；以及一种规避CK-MB测定中的CK-BB的影响的方法，其特征在于借由该抗CK-B抗体对试样进行处理”。

4. 发明专利

TW201605780A 酸及自由基產生劑，以及酸及自由基產生方法审中-公开
简体标题：酸及自由基产生剂，以及酸及自由基产生方法
公开(公告)号：TW201605780A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103140751
申请日：2014-11-25
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE
IPC分类号： C07C317/24 , C07C317/44 , C07D335/16
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07C317/44 , C07C2603/24 , C07D335/16 , G03F7/029 , G03F7/031
摘要：本發明之課題在於提供一種對波長300至450nm附近的活性能量射線具有高感度，且可發揮高的酸產生能力及自由基產生能力這兩種性能，又具備耐熱性之酸及自由基產生劑，以及酸及自由基產生方法。本發明係關於通式(A)所示的化合物、包含該化合物之酸及自由基產生劑以及酸及自由基產生方法； (式中，n個R1分別獨立地表示鏈中可具有特定官能基且可被鹵原子取代之烷基；可被鹵原子取代之烷氧基；可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基或芳氧基；或可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基；n個R2及R3分別獨立地表示氫原子、烷基或烷氧羰基；R4至R7分別獨立地表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基；Y表示氧原子、硫原子或羰基；n個Z分別獨立地表示磺醯基或烷氧基磷醯基；n表示1或2)。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种对波长300至450nm附近的活性能量射线具有高感度，且可发挥高的酸产生能力及自由基产生能力这两种性能，又具备耐热性之酸及自由基产生剂，以及酸及自由基产生方法。本发明系关于通式(A)所示的化合物、包含该化合物之酸及自由基产生剂以及酸及自由基产生方法； (式中，n个R1分别独立地表示链中可具有特定官能基且可被卤原子取代之烷基；可被卤原子取代之烷氧基；可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基或芳氧基；或可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基；n个R2及R3分别独立地表示氢原子、烷基或烷氧羰基；R4至R7分别独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基；Y表示氧原子、硫原子或羰基；n个Z分别独立地表示磺酰基或烷氧基磷酰基；n表示1或2)。

5. 发明专利

TW201529741A 三芳基甲烷系著色組成物审中-公开
简体标题：三芳基甲烷系着色组成物
公开(公告)号：TW201529741A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103145610
申请日：2014-12-26
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：堀江智章 , HORIE, TOMOAKI , 鈴木克史 , SUZUKI, KATSUFUMI , 信太幸彦 , SHIDA, YUKIHIKO
IPC分类号： C09B11/00 , C09B69/10 , C08F220/02 , G02B5/20 , G02B5/22
CPC分类号： C08F20/36 , C09B11/12 , C09B69/06 , C09B69/103 , C08F220/14 , C08F220/36
摘要：本發明的課題在於提供一種耐熱性較現有的著色組成物更高的著色組成物。即，本發明是有關於下述通式(1)所表示的化合物等。 (式中，R1~R4、R14分別獨立地表示氫原子、碳數1~30的烷基、具有取代基或未經取代的苯基、萘基或苄基，R5~R7分別獨立地表示氫原子或甲基，R8~R13分別獨立地表示碳數1~21的烷基、芳基、羥基、硝基、磺基或碳數1~3的烷氧基。A1表示：於鏈中具有-N(R15)-、-O-、-OCO-、-COO-或伸芳基的至少一個基團，且具有羥基作為取代基的碳數1~21的伸烷基；於鏈中具有-N(R15)-、-O-、-OCO-、-COO-或伸芳基的至少一個基團的碳數1 ~21的伸烷基；具有羥基作為取代基的碳數1~21的伸烷基；或者碳數1~21的伸烷基，A2表示-NH-或O-。R15表示氫原子、碳數1~30的烷基、具有取代基或未經取代的苯基、萘基或苄基。An-表示含有具有拉電子性取代基的芳基、具有拉電子性取代基的磺醯基或鹵化烷基的陰離子)
简体摘要：本发明的课题在于提供一种耐热性较现有的着色组成物更高的着色组成物。即，本发明是有关于下述通式(1)所表示的化合物等。 (式中，R1~R4、R14分别独立地表示氢原子、碳数1~30的烷基、具有取代基或未经取代的苯基、萘基或苄基，R5~R7分别独立地表示氢原子或甲基，R8~R13分别独立地表示碳数1~21的烷基、芳基、羟基、硝基、磺基或碳数1~3的烷氧基。A1表示：于链中具有-N(R15)-、-O-、-OCO-、-COO-或伸芳基的至少一个基团，且具有羟基作为取代基的碳数1~21的伸烷基；于链中具有-N(R15)-、-O-、-OCO-、-COO-或伸芳基的至少一个基团的碳数1 ~21的伸烷基；具有羟基作为取代基的碳数1~21的伸烷基；或者碳数1~21的伸烷基，A2表示-NH-或O-。R15表示氢原子、碳数1~30的烷基、具有取代基或未经取代的苯基、萘基或苄基。An-表示含有具有拉电子性取代基的芳基、具有拉电子性取代基的磺酰基或卤化烷基的阴离子)

6. 发明专利

TW201510283A 蝕刻劑、蝕刻方法及蝕刻劑調製液审中-公开
简体标题：蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂调制液
公开(公告)号：TW201510283A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103123110
申请日：2014-07-04
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：橫溝貴宏 , YOKOMIZO, TAKAHIRO , 鶴本浩之 , TSURUMOTO, HIROYUKI , 柿澤政彥 , KAKIZAWA, MASAHIKO
IPC分类号： C23F1/32 , C23F1/38 , C23F1/44 , H01L21/28 , H01L21/3213
CPC分类号： C23F1/38 , H01L21/32134
摘要：本發明之課題在於提供在對具有鈦系金屬與金屬銅或銅合金的半導體基板使用的情況下，會抑制過氧化氫的分解、溶液壽命長、控制蝕刻劑中過氧化氫的濃度之必要性少之半導體基板上的鈦系金屬用蝕刻劑及蝕刻方法，以及用於與過氧化氫混合使用的蝕刻劑調製液。本發明係關於鈦系金屬用蝕刻劑、以使用該蝕刻劑之蝕刻方法、以及用於與過氧化氫混合使用的蝕刻劑調製液，該鈦系金屬用蝕刻劑係至少包含(A)過氧化氫、(B)構造中具有氮原子的膦酸系螫合劑、(C)鹼金屬氫氧化物、以及(D)具有至少1個羥基及至少3個羧基的有機酸之水溶液，為具有鈦系金屬以及於該鈦系金屬的上部之金屬銅或銅合金的半導體基板上的鈦系金屬用蝕刻劑。
简体摘要：本发明之课题在于提供在对具有钛系金属与金属铜或铜合金的半导体基板使用的情况下，会抑制过氧化氢的分解、溶液寿命长、控制蚀刻剂中过氧化氢的浓度之必要性少之半导体基板上的钛系金属用蚀刻剂及蚀刻方法，以及用于与过氧化氢混合使用的蚀刻剂调制液。本发明系关于钛系金属用蚀刻剂、以使用该蚀刻剂之蚀刻方法、以及用于与过氧化氢混合使用的蚀刻剂调制液，该钛系金属用蚀刻剂系至少包含(A)过氧化氢、(B)构造中具有氮原子的膦酸系螫合剂、(C)碱金属氢氧化物、以及(D)具有至少1个羟基及至少3个羧基的有机酸之水溶液，为具有钛系金属以及于该钛系金属的上部之金属铜或铜合金的半导体基板上的钛系金属用蚀刻剂。

7. 发明专利

TWI469957B 環狀磺酸酯之製造方法及其中間物有权
简体标题：环状磺酸酯之制造方法及其中间物
公开(公告)号：TWI469957B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW099125687
申请日：2010-08-03
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：藏本絢子 , KURAMOTO, AYAKO , 岡本訓明 , OKAMOTO, KUNIAKI , 綿引勉 , WATAHIKI, TSUTOMU , 角野元重 , SUMINO, MOTOSHIGE
IPC分类号： C07C303/28 , C07C309/63 , H01M10/056
CPC分类号： C07D327/04 , C07D327/10

8. 发明专利

TW201446750A 硫雜蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物审中-公开
简体标题：硫杂蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物
公开(公告)号：TW201446750A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103116850
申请日：2014-05-13
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07D335/16 , G03F7/004
CPC分类号： C07D335/12 , G03F7/0382
摘要：本發明之課題係提供一種可使用於環氧系化合物等之交聯反應中，可藉鹼之存在下產生新的鹼，且對有機溶劑之溶解性高，進而由於耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故含於鹼反應性化合物時，能有效地進行鹼增殖反應之鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物。本發明之鹼增殖劑之感度高，可藉由鹼之作用分解而連鎖地產生鹼，且，由於具有雜環(heterocyclic ring)故藉由改變雜原子之氧化數而可隨意地控制鹼增殖反應速度，成為可連鎖地產生鹼之鹼增殖劑。此外，與對有機溶劑之溶解性良好、且與鹼反應性化合物之相溶性高，進而耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故本發明之鹼增殖劑共存於與鹼反應之環氧系化合物等之鹼反應性化合物時，因增殖產生之鹼可使鹼反應性化合物效率良好地硬化。
简体摘要：本发明之课题系提供一种可使用于环氧系化合物等之交联反应中，可藉碱之存在下产生新的碱，且对有机溶剂之溶解性高，进而由于耐热性比以往之碱增殖剂高，故含于碱反应性化合物时，能有效地进行碱增殖反应之碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物。本发明之碱增殖剂之感度高，可借由碱之作用分解而连锁地产生碱，且，由于具有杂环(heterocyclic ring)故借由改变杂原子之氧化数而可随意地控制碱增殖反应速度，成为可连锁地产生碱之碱增殖剂。此外，与对有机溶剂之溶解性良好、且与碱反应性化合物之相溶性高，进而耐热性比以往之碱增殖剂高，故本发明之碱增殖剂共存于与碱反应之环氧系化合物等之碱反应性化合物时，因增殖产生之碱可使碱反应性化合物效率良好地硬化。

9. 发明专利

TW201443135A 聚合物、化合物、著色組成物及彩色濾光片用著色組成物审中-公开
简体标题：聚合物、化合物、着色组成物及彩色滤光片用着色组成物
公开(公告)号：TW201443135A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103104909
申请日：2014-02-14
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：信太幸彦 , SHIDA, YUKIHIKO , 金台燕 , KIM, TAEYEON , 戸智貴 , TOTSUKA, TOMOTAKA , 高野和浩 , TAKANO, MASAHIRO
IPC分类号： C08L33/14 , C07F5/02 , C07D311/82 , C09D17/00 , C09B69/10 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335
CPC分类号： C09B62/465 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C309/39 , C07C309/40 , C07D311/82 , C07F5/02 , C08F220/18 , C08F220/36 , C09B11/24 , C09B69/06 , C09B69/103 , G02B5/223
摘要：本發明的課題為提供一種耐熱性高於現有著色組成物的著色組成物。另外，本發明有關於：「具有源自以下單體的單體單元的聚合物，上述單體具有：(i)具有包含包括拉電子性取代基的芳基及陰離子基的陰離子作為抗衡陰離子的陽離子性玫瑰紅衍生物與(ii)乙烯性不飽和鍵」；「具有(i)具有包含包括拉電子性取代基的芳基及陰離子基的陰離子作為抗衡陰離子的陽離子性玫瑰紅衍生物與(ii)乙烯性不飽和鍵的化合物」；「包含上述聚合物或者化合物而成的著色組成物」；以及「包含上述聚合物或者化合物而成的彩色濾光片用著色組成物」。
简体摘要：本发明的课题为提供一种耐热性高于现有着色组成物的着色组成物。另外，本发明有关于：“具有源自以下单体的单体单元的聚合物，上述单体具有：(i)具有包含包括拉电子性取代基的芳基及阴离子基的阴离子作为抗衡阴离子的阳离子性玫瑰红衍生物与(ii)乙烯性不饱和键”；“具有(i)具有包含包括拉电子性取代基的芳基及阴离子基的阴离子作为抗衡阴离子的阳离子性玫瑰红衍生物与(ii)乙烯性不饱和键的化合物”；“包含上述聚合物或者化合物而成的着色组成物”；以及“包含上述聚合物或者化合物而成的彩色滤光片用着色组成物”。

10. 发明专利

TW201436338A 電化學裝置用電解液及電化學裝置审中-公开
简体标题：电化学设备用电解液及电化学设备
公开(公告)号：TW201436338A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103102606
申请日：2014-01-24
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：綿引勉 , WATAHIKI, TSUTOMU , 清洲高廣 , KIYOSU, TAKAHIRO , 里和彥 , SATO, KAZUHIKO , 森悟郎 , MORI, GORO , 岡本訓明 , OKAMOTO, KUNIAKI
IPC分类号： H01M10/054 , H01M10/056
CPC分类号： H01M10/0566 , H01M10/054 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0028
摘要：本發明之目的在於提供一種電化學裝置，其係重複且安定地進行鎂之溶解析出，並且具有電流密度高且安全性高之電解液。本發明係關於一種電化學裝置用電解液，其係含有：(1)含鎂鹽之支援電解質、及(2)以下述式(I)所示之化合物至少一種； (式中，n表示0至6之整數，n個R1及n個R2分別獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或碳數1至6之鹵烷基。A1及A2分別獨立地表示-C(=O)-R3、-O-R5、-N(R4)-R3、-S-R3、-C(=O)-OR3、-O-C(=O)-R3、-C(=O)-N(R4)-R3、-N(R4)-C(=O)-R3、-SO2-R3、-N(R4)-SO2-R3、-O-B(OR5)2、-O-P(=O)(OR5)2、-CN、單環雜環基、源自環狀縮醛之基、源自環狀碳酸酯之基、或源自環狀羧酸酯之基)。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种电化学设备，其系重复且安定地进行镁之溶解析出，并且具有电流密度高且安全性高之电解液。本发明系关于一种电化学设备用电解液，其系含有：(1)含镁盐之支持电解质、及(2)以下述式(I)所示之化合物至少一种； (式中，n表示0至6之整数，n个R1及n个R2分别独立地表示氢原子、碳数1至6之烷基或碳数1至6之卤烷基。A1及A2分别独立地表示-C(=O)-R3、-O-R5、-N(R4)-R3、-S-R3、-C(=O)-OR3、-O-C(=O)-R3、-C(=O)-N(R4)-R3、-N(R4)-C(=O)-R3、-SO2-R3、-N(R4)-SO2-R3、-O-B(OR5)2、-O-P(=O)(OR5)2、-CN、单环杂环基、源自环状缩醛之基、源自环状碳酸酯之基、或源自环状羧酸酯之基)。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式