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1. 发明专利

TW201741350A 光硬化方法，及用於該光硬化方法之化合物和組成物审中-公开
简体标题：光硬化方法，及用于该光硬化方法之化合物和组成物
公开(公告)号：TW201741350A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106102623
申请日：2017-01-24
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C08F2/50 , C07D311/86 , C07C59/84 , C07D335/16 , C07C279/26 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/031
CPC分类号： C07C59/84 , C07D311/86 , C07D335/16 , C08F2/50 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/004
摘要：本發明的課題是提供迅速並且有效率地得到交聯物(樹脂)的光硬化方法，及於該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物之光硬化性樹脂組成物。本發明是有關在進行第1步驟之後進行第2步驟的光硬化方法、在該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物的光硬化性樹脂組成物。第1步驟：在(A)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑與(C)水於酸性條件下反應，而得到(D)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基及至少1個矽醇基之矽烷化合物的步驟。第2步驟：在上述化合物(A)以及(E)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸產生鹼基的基之化合物存在下，藉由將光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，並且從上述化合物(E)產生鹼基，使反應系統內變成鹼性條件，並且藉由自上述化合物(A)與上述化合物(E)產生自由基，從上述矽烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2個以上的聚合性不飽和基之化合物，產生含有源自上述矽烷化合物(D)的結構單元之交聯物的步驟。
简体摘要：本发明的课题是提供迅速并且有效率地得到交联物(树脂)的光硬化方法，及于该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物之光硬化性树脂组成物。本发明是有关在进行第1步骤之后进行第2步骤的光硬化方法、在该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物的光硬化性树脂组成物。第1步骤：在(A)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基之硅烷偶合剂与(C)水于酸性条件下反应，而得到(D)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基及至少1个硅醇基之硅烷化合物的步骤。第2步骤：在上述化合物(A)以及(E)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸产生碱基的基之化合物存在下，借由将光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，并且从上述化合物(E)产生碱基，使反应系统内变成碱性条件，并且借由自上述化合物(A)与上述化合物(E)产生自由基，从上述硅烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2个以上的聚合性不饱和基之化合物，产生含有源自上述硅烷化合物(D)的结构单元之交联物的步骤。

2. 发明专利

TW201512159A 鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法审中-公开
简体标题：碱产生剂、含有该碱产生剂的碱反应性组成物及碱产生方法
公开(公告)号：TW201512159A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103122232
申请日：2014-06-27
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彥 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07C279/26 , C08F2/46 , C08K5/31 , C08J3/28 , G03F7/031 , H01L21/027
CPC分类号： C07C279/26 , B01J19/123 , B01J19/127 , B01J19/128 , C07C59/84 , C07C65/28 , C07C2601/14 , C07C2603/24 , C07D209/48 , C07D311/86 , G03F7/0045
摘要：本發明之課題係提供：一種產生強鹼之鹼產生劑，該鹼產生劑係對於被廣泛使用的有機溶劑之溶解性高，能夠使其直接溶解在環氧系化合物等的鹼反應性化合物中，而且具備高耐熱性及低親核性之兩者的性能；含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物之鹼反應性組成物；以及鹼產生方法。本發明係有關於一種以通式(A)表示之化合物、含有該化合物而成之鹼產生劑、鹼反應性組成物及鹼產生方法等，其中該鹼反應性組成物之特徵在於：含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物， (式中，R1至R5係各自獨立地表示氫原子、烷基、亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6係表示氫原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7係表示氫原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-係表示源自特定構造的羧酸之陰離子)。
简体摘要：本发明之课题系提供：一种产生强碱之碱产生剂，该碱产生剂系对于被广泛使用的有机溶剂之溶解性高，能够使其直接溶解在环氧系化合物等的碱反应性化合物中，而且具备高耐热性及低亲核性之两者的性能；含有该碱产生剂及碱反应性化合物之碱反应性组成物；以及碱产生方法。本发明系有关于一种以通式(A)表示之化合物、含有该化合物而成之碱产生剂、碱反应性组成物及碱产生方法等，其中该碱反应性组成物之特征在于：含有该碱产生剂及碱反应性化合物， (式中，R1至R5系各自独立地表示氢原子、烷基、亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6系表示氢原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7系表示氢原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-系表示源自特定构造的羧酸之阴离子)。

3. 发明专利

TWI622576B 鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法有权
简体标题：碱产生剂、含有该碱产生剂的碱反应性组成物及碱产生方法
公开(公告)号：TWI622576B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW103122232
申请日：2014-06-27
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彥 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C07C279/26 , C08F2/46 , C08K5/31 , C08J3/28 , G03F7/031 , H01L21/027

4. 发明专利

TW201605780A 酸及自由基產生劑，以及酸及自由基產生方法审中-公开
简体标题：酸及自由基产生剂，以及酸及自由基产生方法
公开(公告)号：TW201605780A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103140751
申请日：2014-11-25
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE
IPC分类号： C07C317/24 , C07C317/44 , C07D335/16
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07C317/44 , C07C2603/24 , C07D335/16 , G03F7/029 , G03F7/031
摘要：本發明之課題在於提供一種對波長300至450nm附近的活性能量射線具有高感度，且可發揮高的酸產生能力及自由基產生能力這兩種性能，又具備耐熱性之酸及自由基產生劑，以及酸及自由基產生方法。本發明係關於通式(A)所示的化合物、包含該化合物之酸及自由基產生劑以及酸及自由基產生方法； (式中，n個R1分別獨立地表示鏈中可具有特定官能基且可被鹵原子取代之烷基；可被鹵原子取代之烷氧基；可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基或芳氧基；或可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基；n個R2及R3分別獨立地表示氫原子、烷基或烷氧羰基；R4至R7分別獨立地表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基；Y表示氧原子、硫原子或羰基；n個Z分別獨立地表示磺醯基或烷氧基磷醯基；n表示1或2)。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种对波长300至450nm附近的活性能量射线具有高感度，且可发挥高的酸产生能力及自由基产生能力这两种性能，又具备耐热性之酸及自由基产生剂，以及酸及自由基产生方法。本发明系关于通式(A)所示的化合物、包含该化合物之酸及自由基产生剂以及酸及自由基产生方法； (式中，n个R1分别独立地表示链中可具有特定官能基且可被卤原子取代之烷基；可被卤原子取代之烷氧基；可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基或芳氧基；或可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基；n个R2及R3分别独立地表示氢原子、烷基或烷氧羰基；R4至R7分别独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基；Y表示氧原子、硫原子或羰基；n个Z分别独立地表示磺酰基或烷氧基磷酰基；n表示1或2)。

5. 发明专利

TW201546193A 三苯基甲烷類化合物、聚合物及著色組成物审中-公开
简体标题：三苯基甲烷类化合物、聚合物及着色组成物
公开(公告)号：TW201546193A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104117290
申请日：2015-05-29
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：堀江智章 , HORIE, TOMOAKI , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 菱沼裕介 , HISHINUMA, YUSUKE
IPC分类号： C09B11/04 , C09B69/10 , G02B5/20 , G02B5/22
CPC分类号： C08F220/18 , C08F20/02 , C08F220/02 , C09B11/00 , C09B11/14 , C09B11/18 , C09B11/20 , C09B69/06 , C09B69/10 , C09B69/103 , C09D11/107 , C09D11/30 , C09D133/10 , C09D133/12 , G02B5/20
摘要：現有的使用三芳基甲烷衍生物的著色樹脂組成物未獲得實用性範圍的耐熱性。因此，本發明的課題在於提供一種較現有的著色組成物而言耐熱性更高的著色組成物。本發明是有關於一種下述通式（1）所表示的化合物以及具有由該化合物而來的單體單元的聚合物等。（式中，R1 ～R4 分別獨立地表示烷基等，R5 ～R7 分別獨立地表示氫原子或甲基，n個R8 分別獨立地表示鹵素原子、烷基、芳基、羥基、硝基、磺基、或烷氧基等，n表示0～4的整數；A1 表示伸烷基等，A2 表示-NH-或-O-；An- 表示包含具有電子吸引性取代基的芳基、具有電子吸引性取代基的磺醯基、或鹵化烷基的陰離子）
简体摘要：现有的使用三芳基甲烷衍生物的着色树脂组成物未获得实用性范围的耐热性。因此，本发明的课题在于提供一种较现有的着色组成物而言耐热性更高的着色组成物。本发明是有关于一种下述通式（1）所表示的化合物以及具有由该化合物而来的单体单元的聚合物等。（式中，R1 ～R4 分别独立地表示烷基等，R5 ～R7 分别独立地表示氢原子或甲基，n个R8 分别独立地表示卤素原子、烷基、芳基、羟基、硝基、磺基、或烷氧基等，n表示0～4的整数；A1 表示伸烷基等，A2 表示-NH-或-O-；An- 表示包含具有电子吸引性取代基的芳基、具有电子吸引性取代基的磺酰基、或卤化烷基的阴离子）

6. 发明专利

TW201538512A 硼酸鹽系鹼產生劑及含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物审中-公开
简体标题：硼酸盐系碱产生剂及含有该碱产生剂的碱反应性组成物
公开(公告)号：TW201538512A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104102269
申请日：2015-01-23
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE
IPC分类号： C07F5/02 , C09K3/00 , C08K5/55 , G03F7/029
CPC分类号： C07F9/22 , C07C229/26 , C07C279/02 , C07C279/04 , C07C279/16 , C07C279/18 , C07C279/26 , C07C2601/14 , C07D233/50 , C07D487/04 , C07F5/027 , C07F9/065 , C07F9/5337 , C07F9/5721 , C07F9/6584 , C07F9/65848 , G03F7/0045
摘要：本發明之課題是提供一種化合物、包含該等化合物的鹼產生劑以及含有該鹼產生劑與鹼反應性化合物之鹼反應性組成物，該化合物係在與環氧系化合物等的鹼反應性化合物混合的狀態長期間保存時，也不會與該鹼反應性化合物反應，可成為保存安定性高的組成物，並且，可由光(活性能量射線)的照射或加熱而產生強鹼(胍類、雙胍類、膦氮烯類或鏻類)的化合物。本發明係關於通式(A)所示之化合物，包含該化合物的鹼產生劑，以及其特徵係含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物的鹼反應性組成物等。 (式中，R1表示烷基；可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基；烯基；2-呋喃基乙炔基；2-硫苯基乙炔基；或2,6-二噻環己基(2,6-dithianyl)，R2至R4各自獨立地表示烷基；可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基；可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳基；呋喃基；噻吩基；或N-烷基取代吡咯基，Z+表示具有胍鎓基、雙胍鎓基或膦氮烯鎓基的銨陽離子，或鏻陽離子。)
简体摘要：本发明之课题是提供一种化合物、包含该等化合物的碱产生剂以及含有该碱产生剂与碱反应性化合物之碱反应性组成物，该化合物系在与环氧系化合物等的碱反应性化合物混合的状态长期间保存时，也不会与该碱反应性化合物反应，可成为保存安定性高的组成物，并且，可由光(活性能量射线)的照射或加热而产生强碱(胍类、双胍类、膦氮烯类或鏻类)的化合物。本发明系关于通式(A)所示之化合物，包含该化合物的碱产生剂，以及其特征系含有该碱产生剂及碱反应性化合物的碱反应性组成物等。 (式中，R1表示烷基；可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基；烯基；2-呋喃基乙炔基；2-硫苯基乙炔基；或2,6-二噻环己基(2,6-dithianyl)，R2至R4各自独立地表示烷基；可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基；可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳基；呋喃基；噻吩基；或N-烷基取代吡咯基，Z+表示具有胍鎓基、双胍鎓基或膦氮烯鎓基的铵阳离子，或鏻阳离子。)

7. 发明专利

TW201714887A 具有耐酸性之鹼或／及自由基產生劑，以及含有該鹼或／及自由基產生劑之硬化性樹脂組成物审中-公开
简体标题：具有耐酸性之碱或／及自由基产生剂，以及含有该碱或／及自由基产生剂之硬化性树脂组成物
公开(公告)号：TW201714887A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105123422
申请日：2016-07-25
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI
IPC分类号： C07F5/02 , C07C251/30 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC分类号： C07C279/26 , C07F5/02 , C08G59/68 , C08K5/29 , C08L101/00 , C09K3/00
摘要：本發明提供即使適用於含有表現酸性的化合物的硬化性樹脂組成物，也不會由表現該酸性的化合物而分解，經由光(活性能量線)的照射或加熱，可產生強鹼的雙胍類的化合物；含有該化合物而成的具有耐酸性的鹼或/及自由基產生劑；以及含有該化合物與鹼硬化性樹脂原料或/及自由基反應性化合物的鹼或/及自由基硬化性樹脂組成物等。本發明是，通式(A)所示之化合物；含有該化合物而成的鹼或/及自由基產生劑；以及含有該化合物與鹼硬化性樹脂原料或/及自由基反應性化合物的鹼或/及自由基硬化性樹脂組成物等的發明。 (式中，4個R1各自獨立地表示氫原子或氟原子，4個R2各自獨立地表示氟原子或三氟甲基；R3、R6、R7及R10各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基；R4及R5各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，或R4與R5互相鍵結而表示碳數2至4的伸烷基；R8及R9各自獨立地表示氫原子；碳數1至12的烷基；或可具有選自碳數1至6的烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至6的烷硫基、碳數2至12的二烷基胺基、鹵原子及硝基所成組群中之取代基的碳數6至14的芳基，或R8與R9互相鍵結而表示碳數2至4的伸烷基。但，R3至R10的8個基之中的2至3個為氫原子，該8個基中的2個為氫原子時，其餘之中的3至6個基為碳數1至12的烷基；該8個基中的3個為氫原子時，其餘之中的4至5個基為碳數1至12的烷基。)
简体摘要：本发明提供即使适用于含有表现酸性的化合物的硬化性树脂组成物，也不会由表现该酸性的化合物而分解，经由光(活性能量线)的照射或加热，可产生强碱的双胍类的化合物；含有该化合物而成的具有耐酸性的碱或/及自由基产生剂；以及含有该化合物与碱硬化性树脂原料或/及自由基反应性化合物的碱或/及自由基硬化性树脂组成物等。本发明是，通式(A)所示之化合物；含有该化合物而成的碱或/及自由基产生剂；以及含有该化合物与碱硬化性树脂原料或/及自由基反应性化合物的碱或/及自由基硬化性树脂组成物等的发明。 (式中，4个R1各自独立地表示氢原子或氟原子，4个R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基；R3、R6、R7及R10各自独立地表示氢原子或碳数1至12的烷基；R4及R5各自独立地表示氢原子或碳数1至12的烷基，或R4与R5互相键结而表示碳数2至4的伸烷基；R8及R9各自独立地表示氢原子；碳数1至12的烷基；或可具有选自碳数1至6的烷基、碳数1至6的烷氧基、碳数1至6的烷硫基、碳数2至12的二烷基胺基、卤原子及硝基所成组群中之取代基的碳数6至14的芳基，或R8与R9互相键结而表示碳数2至4的伸烷基。但，R3至R10的8个基之中的2至3个为氢原子，该8个基中的2个为氢原子时，其余之中的3至6个基为碳数1至12的烷基；该8个基中的3个为氢原子时，其余之中的4至5个基为碳数1至12的烷基。)

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