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1. 发明专利

TW201741350A 光硬化方法，及用於該光硬化方法之化合物和組成物审中-公开
简体标题：光硬化方法，及用于该光硬化方法之化合物和组成物
公开(公告)号：TW201741350A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106102623
申请日：2017-01-24
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： C08F2/50 , C07D311/86 , C07C59/84 , C07D335/16 , C07C279/26 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/031
CPC分类号： C07C59/84 , C07D311/86 , C07D335/16 , C08F2/50 , C08F299/08 , C08G75/045 , G03F7/004
摘要：本發明的課題是提供迅速並且有效率地得到交聯物(樹脂)的光硬化方法，及於該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物之光硬化性樹脂組成物。本發明是有關在進行第1步驟之後進行第2步驟的光硬化方法、在該光硬化方法中所使用的化合物和含有該化合物的光硬化性樹脂組成物。第1步驟：在(A)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑與(C)水於酸性條件下反應，而得到(D)具有巰基或是(甲基)丙烯醯基及至少1個矽醇基之矽烷化合物的步驟。第2步驟：在上述化合物(A)以及(E)具有藉由光照射產生自由基的羰基與去碳酸產生鹼基的基之化合物存在下，藉由將光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，並且從上述化合物(E)產生鹼基，使反應系統內變成鹼性條件，並且藉由自上述化合物(A)與上述化合物(E)產生自由基，從上述矽烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2個以上的聚合性不飽和基之化合物，產生含有源自上述矽烷化合物(D)的結構單元之交聯物的步驟。
简体摘要：本发明的课题是提供迅速并且有效率地得到交联物(树脂)的光硬化方法，及于该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物之光硬化性树脂组成物。本发明是有关在进行第1步骤之后进行第2步骤的光硬化方法、在该光硬化方法中所使用的化合物和含有该化合物的光硬化性树脂组成物。第1步骤：在(A)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸的羧基之化合物存在下，使(B)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基之硅烷偶合剂与(C)水于酸性条件下反应，而得到(D)具有巯基或是(甲基)丙烯酰基及至少1个硅醇基之硅烷化合物的步骤。第2步骤：在上述化合物(A)以及(E)具有借由光照射产生自由基的羰基与去碳酸产生碱基的基之化合物存在下，借由将光照射到上述化合物(A)以及上述化合物(E)，使上述化合物(A)的羧基去碳酸，并且从上述化合物(E)产生碱基，使反应系统内变成碱性条件，并且借由自上述化合物(A)与上述化合物(E)产生自由基，从上述硅烷化合物(D)，以及依所需之(F)具有2个以上的聚合性不饱和基之化合物，产生含有源自上述硅烷化合物(D)的结构单元之交联物的步骤。

2. 发明专利

TW201625575A 消光劑、化合物與聚合物审中-公开
简体标题：消光剂、化合物与聚合物
公开(公告)号：TW201625575A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104142591
申请日：2015-12-18
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：鈴木克史 , SUZUKI, KATSUFUMI , 鶴海義久 , TSURUMI, YOSHIHISA , 河野景 , KAWANO, KEI , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI , 村瀬哲司 , MURASE, TETSUJI
IPC分类号： C07D311/78 , C07D311/82 , C07D491/16 , C09B11/28 , C09B69/10 , C08L101/02 , G02B5/20
CPC分类号： C07D209/88 , C07D491/16 , C07D493/10 , C08F20/30 , C09B11/24 , C09B69/06 , C09B69/103 , G02B5/20
摘要：現有的消光劑不具有可充分抑制具有螢光性的化合物的螢光發光的程度的消光能力。因此，本發明的課題在於提供一種消光劑，所述消光劑對於以氧雜蒽系染料為首的具有螢光性的化合物而言可將其螢光充分消光。本發明是有關於一種包含下述通式（1）所表示的化合物的消光劑等。{式中，R5 分別獨立地表示鹵素原子、烷基、烷氧基、烷硫基、具有取代基的或未經取代的胺基、羥基、芳基、芳基氧基或芳基烷基，R6 表示具有聚合性不飽和基的基、羥基等，Y1 表示氧原子等，An- 表示陰離子，Ar1 表示特定的環結構，*及**表示鍵結位置，Ar2 表示苯環、萘環或蒽環，n1 表示特定的整數；其中，通式（1）中的下述結構（1-10）為非對稱結構；（式中，R5 、Y1 、Ar1 、Ar2 、n1 、*及**與上述相同）}
简体摘要：现有的消光剂不具有可充分抑制具有萤光性的化合物的萤光发光的程度的消光能力。因此，本发明的课题在于提供一种消光剂，所述消光剂对于以氧杂蒽系染料为首的具有萤光性的化合物而言可将其萤光充分消光。本发明是有关于一种包含下述通式（1）所表示的化合物的消光剂等。{式中，R5 分别独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、烷硫基、具有取代基的或未经取代的胺基、羟基、芳基、芳基氧基或芳基烷基，R6 表示具有聚合性不饱和基的基、羟基等，Y1 表示氧原子等，An- 表示阴离子，Ar1 表示特定的环结构，*及**表示键结位置，Ar2 表示苯环、萘环或蒽环，n1 表示特定的整数；其中，通式（1）中的下述结构（1-10）为非对称结构；（式中，R5 、Y1 、Ar1 、Ar2 、n1 、*及**与上述相同）}

3. 发明专利

TW201800416A 含矽雜環消光劑、化合物以及聚合物审中-公开
简体标题：含硅杂环消光剂、化合物以及聚合物
公开(公告)号：TW201800416A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106120849
申请日：2017-06-22
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：鈴木克史 , SUZUKI, KATSUFUMI , 村瀬哲司 , MURASE, TETSUJI , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI
IPC分类号： C07F7/10 , G02B5/20
CPC分类号： C08F30/08 , C07F7/10 , C09B11/28 , C09K3/00 , G02B5/20
摘要：現有的消光劑不具有可充分抑制具有螢光性的化合物的螢光發光的程度的消光能力。因此，本發明的課題在於提供一種消光劑，所述消光劑對於以氧雜蒽系染料為首的具有螢光性的化合物而言可將其螢光充分消光。本發明是有關於一種包含下述通式（1）所表示的化合物的消光劑等。（式中，n1個R5分別獨立地表示具有聚合性不飽和基的基、具有取代基的胺基等，R6表示具有聚合性不飽和基的基、羥基等，An-表示陰離子，Ar1表示特定的環結構，*及**表示與特定的環結構的鍵結位置，Ar2表示苯環等，於Ar2為苯環的情況下，n1表示0～4的整數，R32及R33分別獨立地表示烷基或芳基）
简体摘要：现有的消光剂不具有可充分抑制具有萤光性的化合物的萤光发光的程度的消光能力。因此，本发明的课题在于提供一种消光剂，所述消光剂对于以氧杂蒽系染料为首的具有萤光性的化合物而言可将其萤光充分消光。本发明是有关于一种包含下述通式（1）所表示的化合物的消光剂等。（式中，n1个R5分别独立地表示具有聚合性不饱和基的基、具有取代基的胺基等，R6表示具有聚合性不饱和基的基、羟基等，An-表示阴离子，Ar1表示特定的环结构，*及**表示与特定的环结构的键结位置，Ar2表示苯环等，于Ar2为苯环的情况下，n1表示0～4的整数，R32及R33分别独立地表示烷基或芳基）

4. 发明专利

TW201714887A 具有耐酸性之鹼或／及自由基產生劑，以及含有該鹼或／及自由基產生劑之硬化性樹脂組成物审中-公开
简体标题：具有耐酸性之碱或／及自由基产生剂，以及含有该碱或／及自由基产生剂之硬化性树脂组成物
公开(公告)号：TW201714887A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105123422
申请日：2016-07-25
申请人：和光純藥工業股份有限公司 , WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：簗場康佑 , YANABA, KOSUKE , 酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 今關重明 , IMAZEKI, SHIGEAKI
IPC分类号： C07F5/02 , C07C251/30 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC分类号： C07C279/26 , C07F5/02 , C08G59/68 , C08K5/29 , C08L101/00 , C09K3/00
摘要：本發明提供即使適用於含有表現酸性的化合物的硬化性樹脂組成物，也不會由表現該酸性的化合物而分解，經由光(活性能量線)的照射或加熱，可產生強鹼的雙胍類的化合物；含有該化合物而成的具有耐酸性的鹼或/及自由基產生劑；以及含有該化合物與鹼硬化性樹脂原料或/及自由基反應性化合物的鹼或/及自由基硬化性樹脂組成物等。本發明是，通式(A)所示之化合物；含有該化合物而成的鹼或/及自由基產生劑；以及含有該化合物與鹼硬化性樹脂原料或/及自由基反應性化合物的鹼或/及自由基硬化性樹脂組成物等的發明。 (式中，4個R1各自獨立地表示氫原子或氟原子，4個R2各自獨立地表示氟原子或三氟甲基；R3、R6、R7及R10各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基；R4及R5各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，或R4與R5互相鍵結而表示碳數2至4的伸烷基；R8及R9各自獨立地表示氫原子；碳數1至12的烷基；或可具有選自碳數1至6的烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至6的烷硫基、碳數2至12的二烷基胺基、鹵原子及硝基所成組群中之取代基的碳數6至14的芳基，或R8與R9互相鍵結而表示碳數2至4的伸烷基。但，R3至R10的8個基之中的2至3個為氫原子，該8個基中的2個為氫原子時，其餘之中的3至6個基為碳數1至12的烷基；該8個基中的3個為氫原子時，其餘之中的4至5個基為碳數1至12的烷基。)
简体摘要：本发明提供即使适用于含有表现酸性的化合物的硬化性树脂组成物，也不会由表现该酸性的化合物而分解，经由光(活性能量线)的照射或加热，可产生强碱的双胍类的化合物；含有该化合物而成的具有耐酸性的碱或/及自由基产生剂；以及含有该化合物与碱硬化性树脂原料或/及自由基反应性化合物的碱或/及自由基硬化性树脂组成物等。本发明是，通式(A)所示之化合物；含有该化合物而成的碱或/及自由基产生剂；以及含有该化合物与碱硬化性树脂原料或/及自由基反应性化合物的碱或/及自由基硬化性树脂组成物等的发明。 (式中，4个R1各自独立地表示氢原子或氟原子，4个R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基；R3、R6、R7及R10各自独立地表示氢原子或碳数1至12的烷基；R4及R5各自独立地表示氢原子或碳数1至12的烷基，或R4与R5互相键结而表示碳数2至4的伸烷基；R8及R9各自独立地表示氢原子；碳数1至12的烷基；或可具有选自碳数1至6的烷基、碳数1至6的烷氧基、碳数1至6的烷硫基、碳数2至12的二烷基胺基、卤原子及硝基所成组群中之取代基的碳数6至14的芳基，或R8与R9互相键结而表示碳数2至4的伸烷基。但，R3至R10的8个基之中的2至3个为氢原子，该8个基中的2个为氢原子时，其余之中的3至6个基为碳数1至12的烷基；该8个基中的3个为氢原子时，其余之中的4至5个基为碳数1至12的烷基。)

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