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1. 发明专利

TWI666700B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI666700B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106102568
申请日：2017-01-24
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 梅野慎一 , UMENO, SHINICHI , 永井高志 , NAGAI, TAKASHI , 守田壽 , MORITA, HISASHI , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 高松祐助 , TAKAMATSU, YUSUKE , 東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO
IPC分类号： H01L21/306

2. 发明专利

TWI579037B 基板液處理裝置及基板液處理方法有权
简体标题：基板液处理设备及基板液处理方法
公开(公告)号：TWI579037B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW103138346
申请日：2014-11-05
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 小宮洋司 , KOMIYA, HIROSHI , 信國力 , NOBUKUNI, CHIKARA , 佐竹圭吾 , SATAKE, KEIGO , 穴本篤史 , ANAMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： B01F15/00 , B01F3/08
CPC分类号： G05D11/138

3. 发明专利

TW201528404A 基板液處理裝置及基板液處理方法审中-公开
简体标题：基板液处理设备及基板液处理方法
公开(公告)号：TW201528404A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103134893
申请日：2014-10-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 田中幸二 , TANAKA, KOJI , 冨永瞬 , TOMINAGA, SHUN
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67017
摘要：可對基板之兩面同時供給相同組成的處理液，且在混合了所供給之處理液後予以回收而再利用的基板液處理裝置中，謀求作為裝置全體有效地運用。基板液處理裝置，係具有：第1處理液供給機構(100)，具有吐出儲存於第1儲槽(102)之處理液的第1噴嘴(304)，且藉由第1噴嘴對基板之第1面供給處理液；第2處理液供給機構(200)，具有吐出儲存與儲存於第1儲槽之處理液相同組成之處理液之第2儲槽(202)的第2噴嘴(306)，且藉由第2噴嘴對基板之第2面供給處理液；及處理部(300)，藉由由第1及第2噴嘴供給的處理液，對基板進行處理。從第1、第2噴嘴供給至基板後而混合的處理液，係藉由回收管線(312)再流回第2儲槽。
简体摘要：可对基板之两面同时供给相同组成的处理液，且在混合了所供给之处理液后予以回收而再利用的基板液处理设备中，谋求作为设备全体有效地运用。基板液处理设备，系具有：第1处理液供给机构(100)，具有吐出存储于第1储槽(102)之处理液的第1喷嘴(304)，且借由第1喷嘴对基板之第1面供给处理液；第2处理液供给机构(200)，具有吐出存储与存储于第1储槽之处理液相同组成之处理液之第2储槽(202)的第2喷嘴(306)，且借由第2喷嘴对基板之第2面供给处理液；及处理部(300)，借由由第1及第2喷嘴供给的处理液，对基板进行处理。从第1、第2喷嘴供给至基板后而混合的处理液，系借由回收管线(312)再流回第2储槽。

4. 发明专利

TWI560776B 熱處理裝置及熱處理方法有权
简体标题：热处理设备及热处理方法
公开(公告)号：TWI560776B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW100129588
申请日：2011-08-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：水永耕市 , MIZUNAGA, KOUICHI , 大島和彥 , OOSHIMA, KAZUHIKO , 高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67109 , H01L21/6719 , H01L21/68707 , H01L21/6875

5. 发明专利

TW201531331A 基板液處理裝置及基板液處理方法审中-公开
简体标题：基板液处理设备及基板液处理方法
公开(公告)号：TW201531331A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103138346
申请日：2014-11-05
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 小宮洋司 , KOMIYA, HIROSHI , 信國力 , NOBUKUNI, CHIKARA , 佐竹圭吾 , SATAKE, KEIGO , 穴本篤史 , ANAMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： B01F15/00 , B01F3/08
CPC分类号： G05D11/138
摘要：對基板供給精確之濃度的處理液。基板液處理裝置，係具備有：儲槽(102)；循環管線(104)；處理部(16)，經由分歧管線(112)連接於循環管線，使用流經循環管線的處理液，對基板施予液處理；處理液生成機構(206A、206B、208)，以所控制的混合比，混合從至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液；濃度測定裝置(212)(或212’)，測定流經循環管線之處理液的濃度及流經處理液供給管線之處理液的濃度；及控制裝置(4)，根據所測定之處理液的濃度，控制處理液生成機構。
简体摘要：对基板供给精确之浓度的处理液。基板液处理设备，系具备有：储槽(102)；循环管线(104)；处理部(16)，经由分歧管线(112)连接于循环管线，使用流经循环管线的处理液，对基板施予液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，以所控制的混合比，混合从至少2种类原料液之各个供给源所供给的原料液而生成处理液；浓度测定设备(212)(或212’)，测定流经循环管线之处理液的浓度及流经处理液供给管线之处理液的浓度；及控制设备(4)，根据所测定之处理液的浓度，控制处理液生成机构。

6. 发明专利

TW201730958A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201730958A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW106102568
申请日：2017-01-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 梅野慎一 , UMENO, SHINICHI , 永井高志 , NAGAI, TAKASHI , 守田壽 , MORITA, HISASHI , 緒方信博 , OGATA, NOBUHIRO , 高松祐助 , TAKAMATSU, YUSUKE , 東島治郎 , HIGASHIJIMA, JIRO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/304
摘要：本發明之課題在於減少處理液的消耗量。依本發明實施態樣之基板處理裝置，其包含儲存槽、基板處理部、回收路徑、廢棄路徑、供給路徑、切換部、及切換控制部。回收路徑使得供給到基板處理部的混合液回到儲存槽。廢棄路徑則使得所供給的混合液往儲存槽以外之處廢棄。切換部將所供給的混合液之流入目的地加以在回收路徑與廢棄路徑之間作切換。切換控制部對切換部進行控制，而在開始由基板處理部供給混合液之後，直到經過第一時間為止之間，令所供給的混合液流入到廢棄路徑，在經過第一時間之後，直到經過「依預先設定之回收率所設定」的第二時間為止之間，令所供給的混合液流入到回收路徑，並且在經過第二時間之後，直到結束混合液的供給為止之間，令所供給的混合液流入到廢棄路徑。
简体摘要：本发明之课题在于减少处理液的消耗量。依本发明实施态样之基板处理设备，其包含存储槽、基板处理部、回收路径、废弃路径、供给路径、切换部、及切换控制部。回收路径使得供给到基板处理部的混合液回到存储槽。废弃路径则使得所供给的混合液往存储槽以外之处废弃。切换部将所供给的混合液之流入目的地加以在回收路径与废弃路径之间作切换。切换控制部对切换部进行控制，而在开始由基板处理部供给混合液之后，直到经过第一时间为止之间，令所供给的混合液流入到废弃路径，在经过第一时间之后，直到经过“依预先设置之回收率所设置”的第二时间为止之间，令所供给的混合液流入到回收路径，并且在经过第二时间之后，直到结束混合液的供给为止之间，令所供给的混合液流入到废弃路径。

7. 发明专利

TW201639067A 基板液體處理裝置审中-公开
简体标题：基板液体处理设备
公开(公告)号：TW201639067A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104141847
申请日：2015-12-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小宮洋司 , KOMIYA, HIROSHI , 高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 梅野慎一 , UMENO, SHINICHI , 田中幸二 , TANAKA, KOJI , 佐藤尊三 , SATOH, TAKAMI , 穴本篤史 , ANAMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/30
摘要：本發明之課題在於，提供一種可現實省空間化之基板液體處理裝置。作為解決上述課題之手段，依實施態樣之一態樣的基板液體處理裝置，具備搬運部、處理部、貯存部及液體饋送機構。搬運部係用以配置搬運基板之搬運裝置。處理部於水平方向鄰接搬運部，並配置使用處理液處理基板之液體處理單元。貯存部貯存處理液。液體饋送機構將貯存於貯存部之處理液，向液體處理單元饋饋送。貯存部係配置於搬運部的正下方。又，液體饋送機構係配置於處理部的正下方。
简体摘要：本发明之课题在于，提供一种可现实省空间化之基板液体处理设备。作为解决上述课题之手段，依实施态样之一态样的基板液体处理设备，具备搬运部、处理部、贮存部及液体馈送机构。搬运部系用以配置搬运基板之搬运设备。处理部于水平方向邻接搬运部，并配置使用处理液处理基板之液体处理单元。贮存部贮存处理液。液体馈送机构将贮存于贮存部之处理液，向液体处理单元馈馈送。贮存部系配置于搬运部的正下方。又，液体馈送机构系配置于处理部的正下方。

8. 发明专利

TWI632634B 基板液體處理裝置有权
简体标题：基板液体处理设备
公开(公告)号：TWI632634B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW104141847
申请日：2015-12-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：小宮洋司 , KOMIYA, HIROSHI , 高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 梅野慎一 , UMENO, SHINICHI , 田中幸二 , TANAKA, KOJI , 佐藤尊三 , SATOH, TAKAMI , 穴本篤史 , ANAMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/30

9. 发明专利

TWI619188B 基板液處理裝置及基板液處理方法有权
简体标题：基板液处理设备及基板液处理方法
公开(公告)号：TWI619188B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW103134893
申请日：2014-10-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高木康弘 , TAKAKI, YASUHIRO , 田中幸二 , TANAKA, KOJI , 冨永瞬 , TOMINAGA, SHUN
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67017

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