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1. 发明专利

TWI696723B 原料氣體供給裝置、原料氣體供給方法及記憶媒體有权
简体标题：原料气体供给设备、原料气体供给方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI696723B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW105138271
申请日：2016-11-22
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：八木宏憲 , YAGI, HIRONORI , 諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI
IPC分类号： C23C16/448 , H01L21/205

2. 发明专利

TWI666338B 氣體供給機構及氣體供給方法以及使用其之成膜裝置及成膜方法有权
简体标题：气体供给机构及气体供给方法以及使用其之成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TWI666338B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104109663
申请日：2015-03-26
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 山中孟 , YAMANAKA, HAJIME , 饗場康 , AIBA, YASUSHI , 堀田隼史 , HOTTA, TAKANOBU
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/52

3. 发明专利

TW201738406A 原料氣體供給裝置、原料氣體供給方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：原料气体供给设备、原料气体供给方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201738406A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105138271
申请日：2016-11-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：八木宏憲 , YAGI, HIRONORI , 諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI
IPC分类号： C23C16/448 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/4481
摘要：在將包含有使收容於原料容器之固體或液體即原料氣化之氣體的原料氣體供給至成膜處理部時，高精度地測定原料容器內之原料的殘量。在用以將載氣供給至原料容器(14)的載氣供給路徑(12)設置MFC1，並在原料氣體供給路徑(32)設置MFM3。而且，在用以將稀釋氣體供給至原料氣體供給路徑(32)的稀釋氣體供給路徑(22)設置MFC2。而且，求出從MFM3之測定值減去了MFC1測定值與MFC2的測定值之合計值的偏移值，從自MFM3的測定值減去了MFC1的測定值及MFC2的測定值之合計值的值，減去偏移值，求出原料之流量的實測值，並求出原料之重量的實測值。而且，從原料容器內之初始的填充量(新品之原料容器之填充量)減去原料之流量之實測值的累計值，測定原料的殘量。
简体摘要：在将包含有使收容于原料容器之固体或液体即原料气化之气体的原料气体供给至成膜处理部时，高精度地测定原料容器内之原料的残量。在用以将载气供给至原料容器(14)的载气供给路径(12)设置MFC1，并在原料气体供给路径(32)设置MFM3。而且，在用以将稀释气体供给至原料气体供给路径(32)的稀释气体供给路径(22)设置MFC2。而且，求出从MFM3之测定值减去了MFC1测定值与MFC2的测定值之合计值的偏移值，从自MFM3的测定值减去了MFC1的测定值及MFC2的测定值之合计值的值，减去偏移值，求出原料之流量的实测值，并求出原料之重量的实测值。而且，从原料容器内之初始的填充量(新品之原料容器之填充量)减去原料之流量之实测值的累计值，测定原料的残量。

4. 发明专利

TWI488248B 溫度測定裝置、溫度測定方法、記憶媒體以及熱處理裝置有权
简体标题：温度测定设备、温度测定方法、记忆媒体以及热处理设备
公开(公告)号：TWI488248B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW101118640
申请日：2012-05-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 菊池仁 , KIKUCHI, HITOSHI , 小堆正人 , KOAKUTSU, MASATO
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/46
CPC分类号： G01N25/00 , F27B17/0025 , F27D19/00 , F27D21/00 , F27D2019/0025 , H01L21/67248 , H01L21/68764 , H01L21/68771

5. 发明专利

TWI603412B 溫度測量裝置、溫度測量方法、記憶媒體及熱處理裝置有权
简体标题：温度测量设备、温度测量方法、记忆媒体及热处理设备
公开(公告)号：TWI603412B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW101118635
申请日：2012-05-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 菊池仁 , KIKUCHI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/46
CPC分类号： C23C16/45525 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , C23C16/46 , C23C16/52 , G01J5/0007 , G01J5/0022 , G01J5/025 , G01J5/0255 , G01J5/026 , G01J5/0809 , G01J5/0831 , G01J5/089 , G01J5/0893 , G01J2005/0085

6. 发明专利

TW201623675A 原料氣體供應裝置审中-公开
简体标题：原料气体供应设备
公开(公告)号：TW201623675A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104125606
申请日：2015-08-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/14 , C23C16/4481 , C23C16/455 , C23C16/45525 , Y10T137/2499 , Y10T137/2501
摘要：在於在對於成膜處理部供應含將是固體或液體之原料作氣化後的氣體之原料氣體時，正確調節含於原料氣體之原料的氣化流量。將載流氣體供應至收容了原料之原料容器(3)，將含有氣化之原料的原料氣體與稀釋氣體一起斷續供應至原料的成膜處理部(2)。在質流計(7)就原料氣體的流量(M1)作測定，從將此流量測定值以原料氣體的供應期間作積分之積分值，扣除將流通於質流計(7)之載流氣體的流量測定值(C1)以前述供應期間作積分之積分值而求出原料的氣化量(A)。求出所取得之氣化量(A)、原料的氣化量(A)之設定值的偏差程度，為了將原料的氣化量(A)維持於設定值，而將前述偏差程度加算於載流氣體的流量設定值(C1)作為修正值。另外為了達成載流氣體與稀釋氣體的總流量之一定化而將前述偏差程度從稀釋氣體的流量設定值(C2)扣除。
简体摘要：在于在对于成膜处理部供应含将是固体或液体之原料作气化后的气体之原料气体时，正确调节含于原料气体之原料的气化流量。将载流气体供应至收容了原料之原料容器(3)，将含有气化之原料的原料气体与稀释气体一起断续供应至原料的成膜处理部(2)。在质流计(7)就原料气体的流量(M1)作测定，从将此流量测定值以原料气体的供应期间作积分之积分值，扣除将流通于质流计(7)之载流气体的流量测定值(C1)以前述供应期间作积分之积分值而求出原料的气化量(A)。求出所取得之气化量(A)、原料的气化量(A)之设置值的偏差程度，为了将原料的气化量(A)维持于设置值，而将前述偏差程度加算于载流气体的流量设置值(C1)作为修正值。另外为了达成载流气体与稀释气体的总流量之一定化而将前述偏差程度从稀释气体的流量设置值(C2)扣除。

7. 发明专利

TW201312679A 溫度測量裝置、溫度測量方法、記憶媒體及熱處理裝置审中-公开
简体标题：温度测量设备、温度测量方法、记忆媒体及热处理设备
公开(公告)号：TW201312679A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101118635
申请日：2012-05-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 菊池仁 , KIKUCHI, HITOSHI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/46
CPC分类号： C23C16/45525 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , C23C16/46 , C23C16/52 , G01J5/0007 , G01J5/0022 , G01J5/025 , G01J5/0255 , G01J5/026 , G01J5/0809 , G01J5/0831 , G01J5/089 , G01J5/0893 , G01J2005/0085
摘要：本發明關於一種溫度測量裝置，係使用於包含有處理容器與加熱部的熱處理裝置，其中該處理容器的內部係設置有載置有基板之旋轉台，該加熱部係用以加熱該處理容器；該溫度測量裝置包含有：輻射溫度測量部，係設置為在使該旋轉台以特定的轉速旋轉之狀態下，在該旋轉台的一面側掃描於該旋轉台的徑向，藉此可測量沿著該徑向之複數溫度測量區域的溫度；溫度圖作成部，係依據該輻射溫度測量部所掃描在該旋轉台的徑向之每一次掃描的該溫度測量區域的數量以及該旋轉台的該特定轉速，來特定出該輻射溫度測量部所測量溫度之該溫度測量區域的位址，並使該溫度與該位址具有對應關係而記憶在記憶部；以及溫度資訊顯示處理部，係依據該溫度圖作成部所記憶在該記憶部之該溫度與該位址，來顯示該基板的溫度分佈。
简体摘要：本发明关于一种温度测量设备，系使用于包含有处理容器与加热部的热处理设备，其中该处理容器的内部系设置有载置有基板之旋转台，该加热部系用以加热该处理容器；该温度测量设备包含有：辐射温度测量部，系设置为在使该旋转台以特定的转速旋转之状态下，在该旋转台的一面侧扫描于该旋转台的径向，借此可测量沿着该径向之复数温度测量区域的温度；温度图作成部，系依据该辐射温度测量部所扫描在该旋转台的径向之每一次扫描的该温度测量区域的数量以及该旋转台的该特定转速，来特定出该辐射温度测量部所测量温度之该温度测量区域的位址，并使该温度与该位址具有对应关系而记忆在记忆部；以及温度信息显示处理部，系依据该温度图作成部所记忆在该记忆部之该温度与该位址，来显示该基板的温度分布。

8. 发明专利

TW201600630A 氣體供給機構及氣體供給方法以及使用其之成膜裝置及成膜方法审中-公开
简体标题：气体供给机构及气体供给方法以及使用其之成膜设备及成膜方法
公开(公告)号：TW201600630A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104109663
申请日：2015-03-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 山中孟 , YAMANAKA, HAJIME , 饗場康 , AIBA, YASUSHI , 堀田隼史 , HOTTA, TAKANOBU
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/45557 , C23C16/08 , C23C16/4481 , C23C16/45544 , C23C16/52
摘要：以短時間且大流量來供給從液體原料或固體原料所生成的原料氣體，並避免原料之浪費。具備有：原料容器，係收容固體狀或液體狀原料；加熱器，係在原料容器中加熱原料；載體氣體供給配管，係將載體氣體供給至原料容器內；流量控制器，係控制載體氣體流量；原料氣體供給配管5，係將原料氣體供給至腔室；原料氣體供給．阻斷閥，係設置於原料氣體供給配管之腔室附近；以及氣體供給控制器，係以在控制流量控制器，並關閉原料氣體供給．阻斷閥的狀態下，藉由流通載體氣體，來在原料容器及原料氣體供給配管成為高壓狀態後，開啟原料氣體供給．阻斷閥的方式來加以控制。
简体摘要：以短时间且大流量来供给从液体原料或固体原料所生成的原料气体，并避免原料之浪费。具备有：原料容器，系收容固体状或液体状原料；加热器，系在原料容器中加热原料；载体气体供给配管，系将载体气体供给至原料容器内；流量控制器，系控制载体气体流量；原料气体供给配管5，系将原料气体供给至腔室；原料气体供给．阻断阀，系设置于原料气体供给配管之腔室附近；以及气体供给控制器，系以在控制流量控制器，并关闭原料气体供给．阻断阀的状态下，借由流通载体气体，来在原料容器及原料气体供给配管成为高压状态后，打开原料气体供给．阻断阀的方式来加以控制。

9. 发明专利

TW201312680A 溫度測定裝置、溫度測定方法、記憶媒體以及熱處理裝置审中-公开
简体标题：温度测定设备、温度测定方法、记忆媒体以及热处理设备
公开(公告)号：TW201312680A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101118640
申请日：2012-05-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：諸井政幸 , MOROI, MASAYUKI , 菊池仁 , KIKUCHI, HITOSHI , 小堆正人 , KOAKUTSU, MASATO
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/46
CPC分类号： G01N25/00 , F27B17/0025 , F27D19/00 , F27D21/00 , F27D2019/0025 , H01L21/67248 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：一種溫度測定裝置，係用以推定包含有處理容器與加熱部之熱處理裝置當中之該處理容器內的溫度分布者；該處理容器於內部設有載置基板之旋轉台；該加熱部係加熱該處理容器；該溫度測定裝置係包含有：輻射溫度測定部，係設置成可藉由對該旋轉台之一面側朝該旋轉台之徑向進行掃描以測定沿著該徑向之複數溫度測定區域的溫度；動作控制部，一旦受理該處理容器內之溫度分布的測定指示，乃利用該加熱部開始加熱該處理容器、並使得該旋轉台靜止，在利用該加熱部開始加熱該處理容器經過既定時間後，一邊使得該旋轉台相對於該輻射溫度測定部進行旋轉、一邊沿著該旋轉台之圓周方向反覆地進行利用該輻射溫度測定部來對該旋轉台之該一面側朝該旋轉台之徑向做掃描而測定該複數溫度測定區域之溫度的處理，而從該輻射溫度測定部取得該旋轉台之該徑向以及該圓周方向之複數該溫度測定區域之溫度；溫度地圖製作部，係基於該輻射溫度測定部於該旋轉台之徑向進行掃描之每一掃描的該溫度測定區域之數量以及該旋轉台之旋轉數，特定出該動作控制部取得該溫度之該溫度測定區域的位址，使得該溫度與該位址產生對應而記憶於記憶部；以及，溫度數據顯示處理部，該溫度地圖製作部係基於記憶於該記憶部之該溫度與該位址而顯示該旋轉台之該一面側的溫度分布來做為該處理容器內之溫度分布的推定值。
简体摘要：一种温度测定设备，系用以推定包含有处理容器与加热部之热处理设备当中之该处理容器内的温度分布者；该处理容器于内部设有载置基板之旋转台；该加热部系加热该处理容器；该温度测定设备系包含有：辐射温度测定部，系设置成可借由对该旋转台之一面侧朝该旋转台之径向进行扫描以测定沿着该径向之复数温度测定区域的温度；动作控制部，一旦受理该处理容器内之温度分布的测定指示，乃利用该加热部开始加热该处理容器、并使得该旋转台静止，在利用该加热部开始加热该处理容器经过既定时间后，一边使得该旋转台相对于该辐射温度测定部进行旋转、一边沿着该旋转台之圆周方向反复地进行利用该辐射温度测定部来对该旋转台之该一面侧朝该旋转台之径向做扫描而测定该复数温度测定区域之温度的处理，而从该辐射温度测定部取得该旋转台之该径向以及该圆周方向之复数该温度测定区域之温度；温度地图制作部，系基于该辐射温度测定部于该旋转台之径向进行扫描之每一扫描的该温度测定区域之数量以及该旋转台之旋转数，特定出该动作控制部取得该温度之该温度测定区域的位址，使得该温度与该位址产生对应而记忆于记忆部；以及，温度数据显示处理部，该温度地图制作部系基于记忆于该记忆部之该温度与该位址而显示该旋转台之该一面侧的温度分布来做为该处理容器内之温度分布的推定值。

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