专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201819053A 塗佈方法、塗佈裝置及記憶媒體审中-公开
简体标题：涂布方法、涂布设备及记忆媒体
公开(公告)号：TW201819053A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106128043
申请日：2017-08-18
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：後藤浩文 , GOTO, HIROFUMI , 久保田稔 , KUBOTA, MINORU , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： B05C11/08 , B05D1/40 , H01L21/027
摘要： [課題]在將塗佈液塗佈於晶圓之際，於短時間內進行微粒的去除，並更確實地抑制塗佈膜的不良。　　[解決手段]在將塗佈液(102)供給至被搬入塗佈裝置的晶圓(W)之前，首先，供給稀釋劑(100)，使晶圓(W)之表面潤濕，其次，使晶圓(W)之表面乾燥。藉此，晶圓(W)之表面的微粒(101)變得容易流動。又，以將晶圓(W)之表面乾燥的方式，接著在將稀釋劑(100)供給至晶圓(W)之表面後時，由於稀釋劑之積液之氣液界面的剖面變圓，並能以較大的力推擠微粒(101)，因此，可在短時間內更確實地去除微粒(101)。因此，可抑制在其後將塗佈液(102)塗佈於晶圓(W)後時，因微粒(101)之附著而引起對SOC膜之慧斑的形成。
简体摘要： [课题]在将涂布液涂布于晶圆之际，于短时间内进行微粒的去除，并更确实地抑制涂布膜的不良。　　[解决手段]在将涂布液(102)供给至被搬入涂布设备的晶圆(W)之前，首先，供给稀释剂(100)，使晶圆(W)之表面润湿，其次，使晶圆(W)之表面干燥。借此，晶圆(W)之表面的微粒(101)变得容易流动。又，以将晶圆(W)之表面干燥的方式，接着在将稀释剂(100)供给至晶圆(W)之表面后时，由于稀释剂之积液之气液界面的剖面变圆，并能以较大的力推挤微粒(101)，因此，可在短时间内更确实地去除微粒(101)。因此，可抑制在其后将涂布液(102)涂布于晶圆(W)后时，因微粒(101)之附着而引起对SOC膜之慧斑的形成。

2. 发明专利

TWI683723B 基板處理裝置、基板處理方法及電腦可讀取記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及电脑可读取记录媒体
公开(公告)号：TWI683723B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW105141296
申请日：2016-12-14
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：久保田稔 , KUBOTA, MINORU , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： B24B37/013 , B24B49/12 , H01L21/304

3. 发明专利

TWI578391B 基板清洗裝置、基板清洗方法及電腦可讀取記錄媒體有权
简体标题：基板清洗设备、基板清洗方法及电脑可读取记录媒体
公开(公告)号：TWI578391B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW103127957
申请日：2014-08-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/02 , H01L21/027

4. 发明专利

TWI471906B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI471906B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW099140794
申请日：2010-11-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：丹羽崇文 , NIWA, TAKAFUMI , 中村泰之 , NAKAMURA, HIROSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0035 , H01L21/67178 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

5. 发明专利

TW201629640A 顯影處理方法、電腦記錄媒體及顯影處理裝置审中-公开
简体标题：显影处理方法、电脑记录媒体及显影处理设备
公开(公告)号：TW201629640A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104139812
申请日：2015-11-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 久保田稔 , KUBOTA, MINORU
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/32
摘要：本發明旨在確保顯影處理之面內均勻性的同時，並提升顯影處理之產率。本發明提供一種顯影處理方法，在晶圓之中心部，形成以純水稀釋過之稀釋顯影液的液灘（時間t1 ）；之後，使晶圓加速至第1旋轉速度，以使該稀釋顯影液的液灘擴散至晶圓整面，而在該晶圓表面形成該稀釋顯影液之液膜（時間t2 ）。之後，在具有與晶圓平行之潤濕面的顯影液供給噴嘴、與該晶圓之間確保既定間隔之空隙的狀態下，由該顯影液供給噴嘴對晶圓之中心部供給顯影液，而在晶圓與該顯影液供給噴嘴之潤濕面之間，形成顯影液之液灘（時間t3 ）。一邊持續由顯影液供給噴嘴供給顯影液、一邊使晶圓旋轉，同時使該顯影液供給噴嘴由晶圓之中心部移動至晶圓之外周部。
简体摘要：本发明旨在确保显影处理之面内均匀性的同时，并提升显影处理之产率。本发明提供一种显影处理方法，在晶圆之中心部，形成以纯水稀释过之稀释显影液的液滩（时间t1 ）；之后，使晶圆加速至第1旋转速度，以使该稀释显影液的液滩扩散至晶圆整面，而在该晶圆表面形成该稀释显影液之液膜（时间t2 ）。之后，在具有与晶圆平行之润湿面的显影液供给喷嘴、与该晶圆之间确保既定间隔之空隙的状态下，由该显影液供给喷嘴对晶圆之中心部供给显影液，而在晶圆与该显影液供给喷嘴之润湿面之间，形成显影液之液滩（时间t3 ）。一边持续由显影液供给喷嘴供给显影液、一边使晶圆旋转，同时使该显影液供给喷嘴由晶圆之中心部移动至晶圆之外周部。

6. 发明专利

TWI495964B 利用含有有機溶劑之顯影液的顯影處理方法及顯影處理裝置有权
简体标题：利用含有有机溶剂之显影液的显影处理方法及显影处理设备
公开(公告)号：TWI495964B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW100146042
申请日：2011-12-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：本武幸一 , HONTAKE, KOUICHI , 丹羽崇文 , NIWA, TAKAFUMI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/3021 , G03F7/325

7. 发明专利

TW201517118A 液體處理裝置审中-公开
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TW201517118A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124955
申请日：2014-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，具備：複數個基板保持部，於左右方向並排配置，用以將基板分別水平地保持；噴嘴，與該複數個基板保持部分別對應而設置，用以對該基板保持部所保持的基板供給處理流體；以及噴嘴移動機構，使該噴嘴，在對包含該基板的中心部在內之區域供給處理流體的供給位置、及相對於該複數個基板保持部之列而與基板搬出入的前方側為相反側之後方側的待機位置之間，往與該基板保持部的並排方向交叉之前後方向進退。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，具备：复数个基板保持部，于左右方向并排配置，用以将基板分别水平地保持；喷嘴，与该复数个基板保持部分别对应而设置，用以对该基板保持部所保持的基板供给处理流体；以及喷嘴移动机构，使该喷嘴，在对包含该基板的中心部在内之区域供给处理流体的供给位置、及相对于该复数个基板保持部之列而与基板搬出入的前方侧为相反侧之后方侧的待机位置之间，往与该基板保持部的并排方向交叉之前后方向进退。

8. 发明专利

TW201513169A 顯影裝置、顯影方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：显影设备、显影方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201513169A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103126258
申请日：2014-07-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/30 , B05C5/02 , B05C5/0287 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：本發明之顯影裝置包含：基板保持部，其將基板保持水平；顯影液噴嘴，其用來對基板供給顯影液以形成液滴；迴旋流產生機構，其包含在接觸該液滴的狀態下繞與基板正交之軸旋轉的旋轉構件，使形成在該基板上的顯影液的液滴產生迴旋流；以及移動機構，其使該迴旋流產生機構沿著基板的表面移動。於基板的吾人所期望的區域形成迴旋流，攪拌顯影液，藉此達到提高圖案的線寬的均一性之目的。
简体摘要：本发明之显影设备包含：基板保持部，其将基板保持水平；显影液喷嘴，其用来对基板供给显影液以形成液滴；回旋流产生机构，其包含在接触该液滴的状态下绕与基板正交之轴旋转的旋转构件，使形成在该基板上的显影液的液滴产生回旋流；以及移动机构，其使该回旋流产生机构沿着基板的表面移动。于基板的吾人所期望的区域形成回旋流，搅拌显影液，借此达到提高图案的线宽的均一性之目的。

9. 发明专利

TWI601201B 顯影方法、顯影裝置以及記憶媒體有权
简体标题：显影方法、显影设备以及记忆媒体
公开(公告)号：TWI601201B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW103126469
申请日：2014-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C5/027 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/30 , H01L21/6715

10. 发明专利

TWI592991B 顯影裝置、顯影方法及記憶媒體有权
简体标题：显影设备、显影方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI592991B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW103126258
申请日：2014-07-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/30 , B05C5/02 , B05C5/0287 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/3021 , H01L21/6715

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式