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    • 1. 发明专利
    • 塗佈方法、塗佈裝置及記憶媒體
    • 涂布方法、涂布设备及记忆媒体
    • TW201819053A
    • 2018-06-01
    • TW106128043
    • 2017-08-18
    • 日商東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 後藤浩文GOTO, HIROFUMI久保田稔KUBOTA, MINORU京田秀治KYOUDA, HIDEHARU
    • B05C11/08B05D1/40H01L21/027
    • [課題]在將塗佈液塗佈於晶圓之際,於短時間內進行微粒的去除,並更確實地抑制塗佈膜的不良。   [解決手段]在將塗佈液(102)供給至被搬入塗佈裝置的晶圓(W)之前,首先,供給稀釋劑(100),使晶圓(W)之表面潤濕,其次,使晶圓(W)之表面乾燥。藉此,晶圓(W)之表面的微粒(101)變得容易流動。又,以將晶圓(W)之表面乾燥的方式,接著在將稀釋劑(100)供給至晶圓(W)之表面後時,由於稀釋劑之積液之氣液界面的剖面變圓,並能以較大的力推擠微粒(101),因此,可在短時間內更確實地去除微粒(101)。因此,可抑制在其後將塗佈液(102)塗佈於晶圓(W)後時,因微粒(101)之附著而引起對SOC膜之慧斑的形成。
    • [课题]在将涂布液涂布于晶圆之际,于短时间内进行微粒的去除,并更确实地抑制涂布膜的不良。   [解决手段]在将涂布液(102)供给至被搬入涂布设备的晶圆(W)之前,首先,供给稀释剂(100),使晶圆(W)之表面润湿,其次,使晶圆(W)之表面干燥。借此,晶圆(W)之表面的微粒(101)变得容易流动。又,以将晶圆(W)之表面干燥的方式,接着在将稀释剂(100)供给至晶圆(W)之表面后时,由于稀释剂之积液之气液界面的剖面变圆,并能以较大的力推挤微粒(101),因此,可在短时间内更确实地去除微粒(101)。因此,可抑制在其后将涂布液(102)涂布于晶圆(W)后时,因微粒(101)之附着而引起对SOC膜之慧斑的形成。
    • 5. 发明专利
    • 顯影處理方法、電腦記錄媒體及顯影處理裝置
    • 显影处理方法、电脑记录媒体及显影处理设备
    • TW201629640A
    • 2016-08-16
    • TW104139812
    • 2015-11-30
    • 東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 牟田行志MUTA, KOSHI京田秀治KYOUDA, HIDEHARU久保田稔KUBOTA, MINORU
    • G03F7/30G03F7/32
    • 本發明旨在確保顯影處理之面內均勻性的同時,並提升顯影處理之產率。本發明提供一種顯影處理方法,在晶圓之中心部,形成以純水稀釋過之稀釋顯影液的液灘(時間t1 );之後,使晶圓加速至第1旋轉速度,以使該稀釋顯影液的液灘擴散至晶圓整面,而在該晶圓表面形成該稀釋顯影液之液膜(時間t2 )。之後,在具有與晶圓平行之潤濕面的顯影液供給噴嘴、與該晶圓之間確保既定間隔之空隙的狀態下,由該顯影液供給噴嘴對晶圓之中心部供給顯影液,而在晶圓與該顯影液供給噴嘴之潤濕面之間,形成顯影液之液灘(時間t3 )。一邊持續由顯影液供給噴嘴供給顯影液、一邊使晶圓旋轉,同時使該顯影液供給噴嘴由晶圓之中心部移動至晶圓之外周部。
    • 本发明旨在确保显影处理之面内均匀性的同时,并提升显影处理之产率。本发明提供一种显影处理方法,在晶圆之中心部,形成以纯水稀释过之稀释显影液的液滩(时间t1 );之后,使晶圆加速至第1旋转速度,以使该稀释显影液的液滩扩散至晶圆整面,而在该晶圆表面形成该稀释显影液之液膜(时间t2 )。之后,在具有与晶圆平行之润湿面的显影液供给喷嘴、与该晶圆之间确保既定间隔之空隙的状态下,由该显影液供给喷嘴对晶圆之中心部供给显影液,而在晶圆与该显影液供给喷嘴之润湿面之间,形成显影液之液滩(时间t3 )。一边持续由显影液供给喷嘴供给显影液、一边使晶圆旋转,同时使该显影液供给喷嘴由晶圆之中心部移动至晶圆之外周部。