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1. 发明专利

TWI578391B 基板清洗裝置、基板清洗方法及電腦可讀取記錄媒體有权
简体标题：基板清洗设备、基板清洗方法及电脑可读取记录媒体
公开(公告)号：TWI578391B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW103127957
申请日：2014-08-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/02 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201629640A 顯影處理方法、電腦記錄媒體及顯影處理裝置审中-公开
简体标题：显影处理方法、电脑记录媒体及显影处理设备
公开(公告)号：TW201629640A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104139812
申请日：2015-11-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 久保田稔 , KUBOTA, MINORU
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/32
摘要：本發明旨在確保顯影處理之面內均勻性的同時，並提升顯影處理之產率。本發明提供一種顯影處理方法，在晶圓之中心部，形成以純水稀釋過之稀釋顯影液的液灘（時間t1 ）；之後，使晶圓加速至第1旋轉速度，以使該稀釋顯影液的液灘擴散至晶圓整面，而在該晶圓表面形成該稀釋顯影液之液膜（時間t2 ）。之後，在具有與晶圓平行之潤濕面的顯影液供給噴嘴、與該晶圓之間確保既定間隔之空隙的狀態下，由該顯影液供給噴嘴對晶圓之中心部供給顯影液，而在晶圓與該顯影液供給噴嘴之潤濕面之間，形成顯影液之液灘（時間t3 ）。一邊持續由顯影液供給噴嘴供給顯影液、一邊使晶圓旋轉，同時使該顯影液供給噴嘴由晶圓之中心部移動至晶圓之外周部。
简体摘要：本发明旨在确保显影处理之面内均匀性的同时，并提升显影处理之产率。本发明提供一种显影处理方法，在晶圆之中心部，形成以纯水稀释过之稀释显影液的液滩（时间t1 ）；之后，使晶圆加速至第1旋转速度，以使该稀释显影液的液滩扩散至晶圆整面，而在该晶圆表面形成该稀释显影液之液膜（时间t2 ）。之后，在具有与晶圆平行之润湿面的显影液供给喷嘴、与该晶圆之间确保既定间隔之空隙的状态下，由该显影液供给喷嘴对晶圆之中心部供给显影液，而在晶圆与该显影液供给喷嘴之润湿面之间，形成显影液之液滩（时间t3 ）。一边持续由显影液供给喷嘴供给显影液、一边使晶圆旋转，同时使该显影液供给喷嘴由晶圆之中心部移动至晶圆之外周部。

3. 发明专利

TW201517118A 液體處理裝置审中-公开
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TW201517118A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124955
申请日：2014-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，具備：複數個基板保持部，於左右方向並排配置，用以將基板分別水平地保持；噴嘴，與該複數個基板保持部分別對應而設置，用以對該基板保持部所保持的基板供給處理流體；以及噴嘴移動機構，使該噴嘴，在對包含該基板的中心部在內之區域供給處理流體的供給位置、及相對於該複數個基板保持部之列而與基板搬出入的前方側為相反側之後方側的待機位置之間，往與該基板保持部的並排方向交叉之前後方向進退。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，具备：复数个基板保持部，于左右方向并排配置，用以将基板分别水平地保持；喷嘴，与该复数个基板保持部分别对应而设置，用以对该基板保持部所保持的基板供给处理流体；以及喷嘴移动机构，使该喷嘴，在对包含该基板的中心部在内之区域供给处理流体的供给位置、及相对于该复数个基板保持部之列而与基板搬出入的前方侧为相反侧之后方侧的待机位置之间，往与该基板保持部的并排方向交叉之前后方向进退。

4. 发明专利

TW201513169A 顯影裝置、顯影方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：显影设备、显影方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201513169A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103126258
申请日：2014-07-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/30 , B05C5/02 , B05C5/0287 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/3021 , H01L21/6715
摘要：本發明之顯影裝置包含：基板保持部，其將基板保持水平；顯影液噴嘴，其用來對基板供給顯影液以形成液滴；迴旋流產生機構，其包含在接觸該液滴的狀態下繞與基板正交之軸旋轉的旋轉構件，使形成在該基板上的顯影液的液滴產生迴旋流；以及移動機構，其使該迴旋流產生機構沿著基板的表面移動。於基板的吾人所期望的區域形成迴旋流，攪拌顯影液，藉此達到提高圖案的線寬的均一性之目的。
简体摘要：本发明之显影设备包含：基板保持部，其将基板保持水平；显影液喷嘴，其用来对基板供给显影液以形成液滴；回旋流产生机构，其包含在接触该液滴的状态下绕与基板正交之轴旋转的旋转构件，使形成在该基板上的显影液的液滴产生回旋流；以及移动机构，其使该回旋流产生机构沿着基板的表面移动。于基板的吾人所期望的区域形成回旋流，搅拌显影液，借此达到提高图案的线宽的均一性之目的。

5. 发明专利

TWI567816B 基板洗淨裝置、基板洗淨方法及記憶媒體有权
简体标题：基板洗净设备、基板洗净方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI567816B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW103124384
申请日：2014-07-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：滝口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67046 , H01L21/68792

6. 发明专利

TW201530639A 基板清洗裝置、基板清洗方法及電腦可讀取記錄媒體审中-公开
简体标题：基板清洗设备、基板清洗方法及电脑可读取记录媒体
公开(公告)号：TW201530639A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103127957
申请日：2014-08-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/02 , H01L21/027
摘要：本發明旨在提供一種基板清洗裝置，可更抑制顯影缺陷的發生。其中，顯影處理單元U1，包含：旋轉固持部20，令晶圓W旋轉；及液體噴嘴h2~h5，對晶圓W的表面Wa噴吐清洗液。設定於自液體噴嘴h2~h5噴吐的清洗液到達晶圓W的表面Wa的到達地點，該清洗液的流向，係沿晶圓W的線速度方向的方向。控制自液體噴嘴h2~h5噴吐的清洗液的噴吐速度，使得在晶圓W旋轉時，且液體噴嘴h2~h5由晶圓W的中央側往周緣側移動時，於到達地點清洗液的流速、與於到達地點晶圓W的線速度的差，在既定範圍內。
简体摘要：本发明旨在提供一种基板清洗设备，可更抑制显影缺陷的发生。其中，显影处理单元U1，包含：旋转固持部20，令晶圆W旋转；及液体喷嘴h2~h5，对晶圆W的表面Wa喷吐清洗液。设置于自液体喷嘴h2~h5喷吐的清洗液到达晶圆W的表面Wa的到达地点，该清洗液的流向，系沿晶圆W的线速度方向的方向。控制自液体喷嘴h2~h5喷吐的清洗液的喷吐速度，使得在晶圆W旋转时，且液体喷嘴h2~h5由晶圆W的中央侧往周缘侧移动时，于到达地点清洗液的流速、与于到达地点晶圆W的线速度的差，在既定范围内。

7. 发明专利

TW201517156A 顯影方法、顯影裝置以及記憶媒體审中-公开
简体标题：显影方法、显影设备以及记忆媒体
公开(公告)号：TW201517156A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103126469
申请日：2014-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C5/027 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/30 , H01L21/6715
摘要：本發明以具備以下步驟的方式進行顯影：將曝光後的基板水平地保持於基板保持部的步驟；對基板的一部分從顯影液噴嘴供給顯影液以形成液滴的步驟；使基板旋轉的步驟；以在旋轉之該基板上的顯影液的供給位置沿著該基板的半徑方向移動的方式，令該顯影液噴嘴移動，使該液滴擴散到基板全面的步驟；以及與使該液滴擴散到基板全面的步驟同步進行，令與該顯影液噴嘴一起移動且對向該基板之面比該基板的表面更小的接觸部與該液滴接觸的步驟。藉由該方法便可抑制溢落到基板外的液量。另外，由於可使基板的轉速降低，故可防止液體噴濺。再者，由於顯影液受到攪拌，故可使生產效率提高。
简体摘要：本发明以具备以下步骤的方式进行显影：将曝光后的基板水平地保持于基板保持部的步骤；对基板的一部分从显影液喷嘴供给显影液以形成液滴的步骤；使基板旋转的步骤；以在旋转之该基板上的显影液的供给位置沿着该基板的半径方向移动的方式，令该显影液喷嘴移动，使该液滴扩散到基板全面的步骤；以及与使该液滴扩散到基板全面的步骤同步进行，令与该显影液喷嘴一起移动且对向该基板之面比该基板的表面更小的接触部与该液滴接触的步骤。借由该方法便可抑制溢落到基板外的液量。另外，由于可使基板的转速降低，故可防止液体喷溅。再者，由于显影液受到搅拌，故可使生产效率提高。

8. 发明专利

TWI643283B 基板處理裝置、基板處理方法、基板處理裝置的維修方法及記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板处理设备的维修方法及记录媒体
公开(公告)号：TWI643283B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW105122804
申请日：2016-07-20
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 守屋剛 , MORIYA, TSUYOSHI , 森拓也 , MORI, TAKUYA , 竹下和宏 , TAKESHITA, KAZUHIRO , 江崎智規 , ESAKI, TOMONORI , 水永耕市 , MIZUNAGA, KOUICHI , 田中雅山 , TANAKA, MASATAKA , 金川耕三 , KANAGAWA, KOUZOU , 中野圭悟 , NAKANO, KEIGO
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16

9. 发明专利

TWI607294B 顯像方法、顯像裝置及記憶媒體有权
简体标题：显像方法、显像设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI607294B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW104126882
申请日：2015-08-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：牟田行志 , MUTA, KOSHI , 京田秀治 , KYODA, HIDEHARU
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/3021 , B05C11/08 , B05D1/005 , G06F19/00 , H01L21/6715

10. 发明专利

TWI601201B 顯影方法、顯影裝置以及記憶媒體有权
简体标题：显影方法、显影设备以及记忆媒体
公开(公告)号：TWI601201B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW103126469
申请日：2014-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C5/027 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/30 , H01L21/6715

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